公开(公告)号：WO0111411B1

公开(公告)日：2001-06-21

申请号：PCT/US0040532

申请日：2000-08-01

Applicant: ADC TELECOMMUNICATIONS INC

Inventor： ZHANG NAN

IPC: G02B26/02 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00 ,  G02B6/35 ,  H02N1/00 ,  G02B6/26

CPC classification number: G02B6/357 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/045 ,  B81C1/00182 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2203/0136 ,  G02B6/3514 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3544 ,  G02B6/3584 ,  H02N1/008

Abstract: A MEMS-based optical switch (100) having improved characteristics and methods for manufacturing the same are provided. In accordance with one embodiment, an optical switch includes a single comb (122) drive actuator (104) having a deflecting beam structure (124) and a mirror (102) coupled to the actuator. The mirror is capable of being moved between an extended position interposed between waveguide channels (106) and a retracted position apart from the waveguide channels. The actuator applies a force capable of deflecting the beam structure and moving the mirror to one of the extended positions or the retracted position and the beam structure returns the mirror to the other of the extended position or the retracted position in the absence of the application of force.

Abstract translation: 提供了具有改进特性的基于MEMS的光开关（100）及其制造方法。 根据一个实施例，光开关包括具有偏转光束结构（124）的单个梳（122）驱动致动器（104）和耦合到致动器的反射镜（102）。 镜子能够在介于波导通道（106）之间的延伸位置和离开波导通道的缩回位置之间移动。 致动器施加能够使梁结构偏转并且将反射镜移动到延伸位置或缩回位置中的一个的力，并且梁结构在没有应用的情况下将反射镜返回到延伸位置或缩回位置中的另一个 力。

公开(公告)号：KR1020160140698A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：KR1020167027336

申请日：2015-02-24

Applicant: 멤스 스타트 엘엘씨

Inventor： 구티에레즈로만

IPC: H02N1/00 ,  G03B3/10

CPC classification number: H04N5/23287 ,  B81B3/0062 ,  B81B2201/033 ,  B81B2203/0136 ,  G03B3/10 ,  G03B2205/0053 ,  G03B2205/0084 ,  H02N1/008 ,  H04N5/2252 ,  H04N5/2253 ,  H04N5/2254

Abstract: 전기접속부를구비하는플랫폼을이동시키기위한액추에이터가제공된다. 액추에이터는전기전도성인하나이상의스프링요소에의해내부프레임에연결된외부프레임을포함한다. 액추에이터는외부프레임과내부프레임사이에제어된힘을가하는하나이상의콤 드라이브액추에이터를더 포함한다. 각각의콤 드라이브액추에이터는하나이상의콤 드라이브를포함한다. 게다가, 전기접속부를구비하는플랫폼을이동시키기위한방법이또한제공된다. 방법은전기전도성인하나이상의스프링요소를사용하여외부프레임을내부프레임에연결시키는단계를포함한다. 방법은하나이상의콤 드라이브액추에이터를사용하여제어된힘을생성하는단계를더 포함한다. 각각의콤 드라이브액추에이터는하나이상의콤 드라이브를포함한다. 게다가, 방법은외부프레임과내부프레임사이에제어된힘을가하는단게를포함한다.

Abstract translation: 提供了用于移动具有电连接的平台的致动器。 致动器包括通过一个或多个导电的弹簧元件连接到内框架的外框架。 致动器还包括一个或多个梳状驱动致动器，其在外框架和内框架之间施加受控的力。 每个梳状驱动致动器包括一个或多个梳状驱动器。 此外，还提供了一种用于移动具有电连接的平台的方法。 该方法包括使用一个或多个导电弹簧元件将外框架连接到内框架。 该方法还包括使用一个或多个梳状驱动致动器产生受控的力。 每个梳状驱动致动器包括一个或多个梳状驱动器。 此外，该方法包括在外框架和内框架之间施加受控力。

公开(公告)号：KR1020150140682A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：KR1020157028922

申请日：2014-03-14

Applicant: 디지털옵틱스 코퍼레이션 엠이엠에스

Inventor： 칼벳로버트제이. ,  리우샤오레이 ,  구티에레즈,로만시. ,  자인안쿠르 ,  왕구이친

IPC: H02N1/00 ,  B81B3/00 ,  G02B7/08

CPC classification number: H02N1/008 ,  B81B3/0051 ,  B81B2201/033 ,  G02B7/08

Abstract: 일실시예에서, 액추에이터는제조상태위치와전개된위치사이에서고정프레임에대해대략평행모션을위해복수의길쭉한평행모션플렉셔에의해고정프레임에결합된이동프레임을포함한다. 플렉셔들은이동프레임이제조상태에배치될때 고정프레임과이동프레임둘 다에대해수직으로연장하는선에대해제1 각도로배치되고, 이동프레임이전개된위치에배치될때 동일선에대해제2 각도로배치된다. 제2 프레임에대한제1 프레임의아치형움직임은제1 각도와제2 각도의합의약 절반보다작은값으로제1 각도를제한함으로써제어된다.

公开(公告)号：KR1020150011326A

公开(公告)日：2015-01-30

申请号：KR1020140091824

申请日：2014-07-21

Applicant: 애틀랜틱 이너셜 시스템스 리미티드

Inventor： 호크,트레시 ,  베너블레스,마크 ,  스터랜드,이안 ,  엘레이,레베카

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/265

CPC classification number: B81C1/00531 ,  B81B3/0064 ,  B81B2201/033 ,  B81B2203/033 ,  B81C1/00388 ,  B81C1/00619 ,  B81C2201/0112 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/308

Abstract: 적어도 제 1 및 제 2 에칭된 피처(42, 44)를 형성하기 위해 기판(46)을 반응성 이온 에칭하는 방법이 개시된다. 제 1 에칭된 피처(42)는 제 2 에칭된 피처(44)보다 더 큰 종횡비(깊이:폭)를 갖는다. 제 1 에칭 스테이지에서 기판(46)은 상기 제 1 피처(42)만을 미리 결정된 깊이로 에칭하기 위해 에칭된다. 그 후에 제 2 에칭 스테이지에서, 기판(46)은 상기 제 1 및 상기 제 2 피처들(42, 44) 둘 다를 각각의 깊이로 에칭하기 위해 에칭된다. 마스크(40)는 형태에 있어서 피처들(42, 44)에 상응하는 애퍼처들을 정의하기 위해 도포될 수 있다. 제 2 에칭된 피처(44)가 생성될 기판(46)의 영역은 제 1 에칭 스테이지 동안 제 2 마스컨트(50)로 선택적으로 마스킹된다. 그 다음, 제 2 마스컨트(50)는 제 2 에칭 스테이지 전에 제거된다.

Abstract translation: 本发明涉及对衬底（46）进行反应离子蚀刻以形成至少第一和第二蚀刻特征（42,44）的方法。 第一蚀刻特征（42）具有比第二蚀刻特征（44）更大的纵横比（深度：宽度）。 在第一蚀刻阶段中，蚀刻衬底（46）以仅将第一特征（42）蚀刻到预定深度。 此后，在第二蚀刻阶段，蚀刻衬底（46）以将第一和第二特征（42,44）同时蚀刻到相应的深度。 可以施加掩模（40）以限定形状对应于特征（42,44）的孔。 在第一蚀刻阶段期间，用第二掩模（50）选择性地掩蔽其中要产生第二蚀刻特征（44）的衬底（46）的区域，接下来，在第二掩模（50）在 第二蚀刻阶段。

公开(公告)号：KR101437193B1

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：KR1020097011120

申请日：2007-12-11

Applicant: 프라운호퍼 게젤샤프트 쭈르 푀르데룽 데어 안겐반텐 포르슝 에. 베.

Inventor： 호프만,울리히 ,  올드센,마르텐

IPC: B81B3/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/042 ,  B81C1/00166

Abstract: 본 발명은 마이크로-미러 액튜에이터 제조 방법 및 대응하는 액튜에이터에 관한 것이다. 상기 방법에서, 액튜에이터는 중간층들(102,104,106)을 통해 적어도 부분적으로 전기적으로 서로 절연되어 있는, 적어도 3개의 주요층들(101,103,107)로 된 층 구조로 생성된다. 상기 층들은 마이크로-미러 소자 및 전극들을 형성하도록 구조화되며, 상기 구조화는 프레임 상으로의 커버 플레이트의 부착에 의해 내측 영역의 밀폐되어 밀봉된 캡슐화를 허용하는, 액튜에이터의 내측 영역 주위의 적어도 최상부층(107)으로부터 폐쇄된 프레임(310)이 형성되는 방식으로 실행된다. 또한, 상기 중간층들을 통해 3개의 주요층들로부터 전기적으로 절연된, 도체 레벨(105)이 상기 주요층들 중 적어도 두 개 사이에 생성되어 도체 패스들을 형성하도록 구조화되고, 상기 패스들을 통해 하나 이상의 전극들이 중간층들(102,104,106)의 하나 이상에서의 콘택트 홀들의 형성 후에 상기 프레임(310)의 외측에 전기적으로 콘택트될 수 있다.
액튜에이터의 내측 영역의 밀봉된 캡슐화는 상기 방법을 이용하여 웨이퍼 레벨에서 용이하게 미리 실현될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060034201A

公开(公告)日：2006-04-21

申请号：KR1020057002249

申请日：2004-06-25

Applicant: 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼

Inventor： 타무라마사야 ,  코바야시신지

IPC: G02B26/08 ,  G02B26/00

CPC classification number: G02B6/358 ,  B81B3/0051 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/045 ,  G02B6/3514 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3544 ,  G02B6/357 ,  G02B6/3572 ,  G02B6/3584 ,  G02B26/0833 ,  H02N1/008 ,  B81B3/0083 ,  B81B2203/0163

Abstract: A buckling type actuator formed to be able to stably hold a movable body at switching positions by forming the connected portions of support beams as rotating support parts so as to increase reliability. The movable body (4) is supported by a substrate (2), fixed parts (6), rotating support parts (8), and support beams (7) displaceably in the Y-axis direction to displace the movable body (4) between the first and second switching positions. Also, the rotating support parts (8) rotatably support the support beams (7) by radially disposed arm parts (9), (10), and (11) so that, when the movable body (4) is displaced, the support arms (7) can be rotated even if end parts (7A) are not largely bent. Thus, the barrier DeltaE of the potential energy of the movable body (4) can be largely set between the first and second switching positions, and even when power supply to electrodes (12) to (15) is stopped, the movable body (4) can be stably held at the switching positions. Also, the arm parts (10) can prevent the movable body (4) from displacing in the X-axis direction.

Abstract translation: 一种翘曲型致动器，其通过将支撑梁的连接部分形成为旋转支撑部，从而能够将切换位置的移动体稳定地保持在可靠性上。 可移动体（4）由基板（2），固定部分（6），旋转支撑部分（8）和支撑梁（7）在Y轴方向上可移动地支撑，以使可移动体（4）在 第一和第二切换位置。 此外，旋转支撑部件（8）通过径向设置的臂部（9），（10）和（11）可旋转地支撑支撑梁（7），使得当移动体（4）移位时，支撑臂 即使端部（7A）没有大的弯曲也能够旋转（7）。 因此，能够在第一和第二切换位置之间大幅度地设定可动体（4）的势能的势垒DeltaE，即使当停止向电极（12）〜（15）供电时，移动体 ）可以稳定地保持在切换位置。 此外，臂部（10）能够防止移动体（X）沿X轴方向移位。

公开(公告)号：KR1020050056954A

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：KR1020057002033

申请日：2002-08-14

Applicant: 후지쯔 가부시끼가이샤

Inventor： 미시야오유우 ,  쯔보이오사무 ,  우에다사또시 ,  사와끼입뻬이

IPC: G02B26/10 ,  G02B26/00

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81B3/007 ,  B81B2201/0235 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/0109 ,  B81B2203/0154 ,  B81B2203/058 ,  B81C1/00142 ,  B81C2201/013

Abstract: A micro rocking device comprises a frame (113) and a rocking member (111) connected to the frame (113) through connecting parts (112). Each connecting part (112) has two torsion bars (112a) each having holes (112b). Therefore, the torsion bars (112a) have relatively high rigidity with respect to the frame (113) and relative low rigidity with respect to the rocking member (111).

Abstract translation: 微摇摆装置包括通过连接部分（112）连接到框架（113）的框架（113）和摆动构件（111）。 每个连接部分（112）具有两个具有孔（112b）的扭杆（112a）。 因此，扭杆（112a）相对于框架（113）具有相对较高的刚性并且相对于摆动构件（111）具有相对低的刚度。

公开(公告)号：KR100486716B1

公开(公告)日：2005-05-03

申请号：KR1020020063853

申请日：2002-10-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고영철 ,  이진호

IPC: G02B26/10

CPC classification number: B81B3/0062 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/058 ,  B81C2201/019 ,  G02B26/0841 ,  H02N1/008

Abstract: 2차원 구동 광스캐너 및 이의 제조방법에 관해 개시된다.
개시된 액튜에이터는: 상기 제 1 방향의 회전 중심축을 중심으로 제 1 방향과 제 2 방향에 수직인 제 3 방향으로 시이소 운동하는 스테이지와; 상기 스테이지의 시이소 운동을 지지하는 제 1 지지부와; 상기 스테이지의 하부에 스테이지와 소정간격을 두고 대면하며, 상기 스테이지 지지부에 의해 지지되는 베이스와; 상기 스테이지의 저면과 이에 대면하는 베이스의 상면에 각각 형성되는 제 1 구동 콤전극 및 이에 대응하는 제 1 고정 콤 전극을 구비하는 스테이지 구동부와; 상기 제 2 방향의 회전 중심축을 중심으로 상기 제 1 지지부가 시이소 운동하도록 상기 제 1 지지부를 지지하는 제 2 지지부와; 상기 제 1 지지부의 시이소 운동을 발생시키도록 상기 제 1 지지부에 마련되는 제 2 구동 콤전극과 제 2 구동 콤전극에 대응하게 위치 고정된 제 2 고정 콤 전극을 구비하는 제 1 지지부 구동부를; 구비한다.

公开(公告)号：JP2018531803A

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：JP2018516484

申请日：2016-09-29

Applicant: メムズ ドライブ,インク. ,  MEMS DRIVE,INC.

Inventor： グティエレス,ローマン ,  タン,トニー ,  リウ,シャオレイ ,  エヌジー,マシュー ,  ワン,グイキン

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00476 ,  B81B2201/033 ,  B81C1/00619 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/056

Abstract: 安価で軽量なMEMSデバイスを製造可能とする簡易化されたMEMSデバイスの製造方法及びMEMSデバイスを提供する。方法は、MEMSデバイスに複数の穴又は他の特徴をエッチングし、その後に下方のウエハをエッチング分離し、このエッチングプロセスの後、前記MEMSデバイスが所望の厚みになり、個々のダイが分離され、追加のウエハ薄化ステップやダイのダイシングが不要になる。基板ウエハに複数のトレンチをエッチングして、それらをMEMSベース材料で埋めることにより、大きな力を持つ洗練された高さが高いMEMSデバイスを製造し得る。

公开(公告)号：JP2015023292A

公开(公告)日：2015-02-02

申请号：JP2014148571

申请日：2014-07-22

Applicant: アトランティック・イナーシャル・システムズ・リミテッドAtlantic Inertial Systems Limited ,  Atlantic Inertial Systems Ltd ,  アトランティック・イナーシャル・システムズ・リミテッドAtlantic Inertial Systems Limited

Inventor： TRACEY HAWKE ,  MARK VENABLES ,  IAN STURLAND ,  REBECKA ELEY

IPC: H01L21/3065 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00531 ,  B81B3/0064 ,  B81B2201/033 ,  B81B2203/033 ,  B81C1/00388 ,  B81C1/00619 ,  B81C2201/0112 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】改良された反応性イオンエッチング方法が提供される。【解決手段】少なくとも第1、第2のエッチングされた形体42、44を形成する、基板46の反応性イオンエッチング方法が開示される。第1の形体42が、第2の形体44よりも大きいアスペクト比(深さ:幅)を有する。第1のエッチング段階において、前記第1の形体42のみを所定の深さにエッチングするように基板46がエッチングされる。その後、第2のエッチング段階において、前記第1および前記第2の形体42、44の両方をそれぞれの深さにエッチングするように基板46がエッチングされる。マスク40が、形体42、44に対して形状において対応する開口部を画定するように施され得る。第2の形体44が製造される基板46の領域は、第1のエッチング段階の間、第2のマスク材50で選択的にマスクされる。次いで、第2のマスク材50は、第2のエッチング段階の前に除去される。【選択図】図3F

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种改进的反应离子蚀刻方法。解决方案：公开了一种反应离子蚀刻衬底46以形成至少第一和第二蚀刻特征42,44的方法。 第一蚀刻特征42具有比第二蚀刻特征44更大的纵横比（深度：宽度）。在第一蚀刻阶段中，蚀刻衬底46以便仅将第一特征42蚀刻到预定深度。 此后，在第二蚀刻阶段中，蚀刻衬底46以便将第一和第二特征42,44分别蚀刻到相应的深度。 可以应用掩模40来限定形状对应于特征42,44的孔。在第一蚀刻阶段期间，要在其中产生第二蚀刻特征44的衬底46的区域被第二掩模材料50选择性地掩蔽 。 然后在第二蚀刻阶段之前移除第二掩模材料50。