Procédé de fabrication de microstructures par conformation multicouche d'une résine photosensible et microstructures ainsi obtenues
    271.
    发明公开
    Procédé de fabrication de microstructures par conformation multicouche d'une résine photosensible et microstructures ainsi obtenues 失效
    一种用于生产由一个光致抗蚀剂的多层结构的微结构,从而制备微结构处理

    公开(公告)号:EP0851295A1

    公开(公告)日:1998-07-01

    申请号:EP97122259.1

    申请日:1997-12-17

    CPC classification number: B81C99/008 B81B2201/035 G03F7/00 G04B13/022

    Abstract: Procédé de fabrication d'une microstructure tridimensionnelle consistant à :

    a) créer sur une plaquette-support (4) un revêtement sacrificiel (5);
    b) étaler en une seule fois 150 µm et 700 µm de photorésist négatif (6, 21), sensible au rayonnement ultraviolet;
    c) chauffer;
    d) effectuer à travers un masque (7, 12) une illumination UV;
    e) effectuer un recuit;
    f) reproduire au moins une fois les étapes b) à e) en utilisant, si nécessaire en fonction du contour désiré pour la structuration de la nouvelle couche (8, 23, 27) de photorésist, un masque (9, 24, 28) différent pour l'étape d);
    g) développer en une ou plusieurs fois, et
    h) séparer de la plaquette-support (4) la microstructure par dissolution du revêtement sacrificiel (5).

    Microstructures obtenues par ledit procédé, tels qu'une roue dentée surmontée d'un pignon, un micromoule pour l'obtenir, et un microcapteur de flux thermique.

    Abstract translation: 三维微结构的制造包括:(a)在基材上施加,到牺牲性涂层(5)(4),150-700微米厚的UV敏感负性光刻胶(6)由含有多官能环氧漆的层 组合物和三芳基锍盐光引发剂; (B)加热在90-95摄氏度的时间取决于其厚度的层(6); (C)将所述层,通过图案化的掩模,于UV光,在200至1000毫焦/厘米<2>(在365nm波长下测量),这取决于该层厚度; (D)再加热该层(6),以使聚合; (E)重复步骤(a)至(d),任选地使用不同的掩模(9),用于构建新的光致抗蚀剂层(8); (F)通过与GBL(γ-丁内酯)或PGMEA(丙二醇甲基乙基乙酸酯)作为溶剂未曝光的光刻胶的显影溶解; 及(g)由所述牺牲性涂层(5)的溶解分离从基板(4)所得到的微结构。 所以声称通过上述方法获得的显微结构,其中(i)所述第一光致抗蚀剂层以带齿的轮与所述第二光致抗蚀剂层的形式在小齿轮的形式被构造的结构; 或(ii)3的光刻胶层被构造为获得中空微结构具有两个开口上的三个电阻任一侧形成热传感器。

    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE ET LADITE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE
    274.
    发明公开
    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE ET LADITE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE 有权
    制造定时器微机电零件的方法和称为微机电的钟表零件

    公开(公告)号:EP3141520A1

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:EP15184189.7

    申请日:2015-09-08

    Inventor: Dubois, Philippe

    Abstract: L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
    a) se munir d'un substrat à base de silicium (1),
    b) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère.
    L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1), des pores (2) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于由硅基衬底(1)制造制表微机械部件的方法,依次包括以下步骤:a)提供衬底 硅基底(1),b)在所述硅基衬底(1)的至少一部分表面的至少一部分表面上形成深度至少为10μm的孔隙(2),优选 至少50微米,更优选至少100微米,所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面。 本发明还涉及一种制表微机械部件,其包括在所述硅基衬底(1)的至少一部分表面上具有孔(2)的硅基衬底(1) 的深度为至少10μm,优选至少50μm,并且更优选至少100μm,所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面

    PIECE A BASE DE SILICIUM AVEC AU MOINS UN CHANFREIN ET SON PROCEDE DE FABRICATION
    275.
    发明公开
    PIECE A BASE DE SILICIUM AVEC AU MOINS UN CHANFREIN ET SON PROCEDE DE FABRICATION 审中-公开
    WERKSTÜCKAUF SILIZIUMBASIS MIT MINDESTENS EINER FASE,UND SEIN HERSTELLUNGSVERFAHREN

    公开(公告)号:EP3109199A1

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:EP16170668.4

    申请日:2016-05-20

    Inventor: Gandelhman, Alex

    Abstract: L'invention se rapporte à une pièce à base de silicium avec au moins un chanfrein formé à partir d'un procédé combinant au moins une étape de gravage de flancs obliques avec un gravage du type « Bosch » de flancs verticaux permettant notamment l'amélioration esthétique et l'amélioration de la tenue mécanique de pièces formées par micro-usinage d'une plaquette à base de silicium.

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有至少一个倒角的硅基组件,该方法将至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤与垂直侧壁的“博世”蚀刻结合在一起,从而使得美学改进和组件的机械强度得到改善 通过微加工硅基晶片形成。

    Procédé de fabrication d'une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts
    280.
    发明公开
    Procédé de fabrication d'une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts 审中-公开
    一种用于制造微机械部件整体式,其包括至少两个不同水平的过程

    公开(公告)号:EP2767869A1

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:EP13155068.3

    申请日:2013-02-13

    Abstract: L'invention se rapporte à un procédé (1) de fabrication d'une pièce de micromécanique (31, 41, 61, 91) monobloc comportant au moins deux niveaux distincts. Selon l'invention, le procédé (1) comporte un processus LIGA à un seul niveau combiné avec un usinage du dépôt LIGA directement sur le substrat (2).
    L'invention concerne le domaine des pièces de micromécanique horlogères.

    Abstract translation: 该方法包括:形成包括导电上顶面的硅基板。 甲模具从感光性树脂构造成与由所述顶面的导电上沉积感光性树脂层由导电顶表面形成的基极的空腔。 该模具的空腔由电铸填充以形成一个金属部分(21)。 的金属部分的一部分被选择性地机械加工,以形成具有不同功能级别的单件微机械器件。 该组分从底物和感光性树脂释放。 金属部件是由镍 - 磷基形成。 因此独立claimsoft包括用于钟表。

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