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公开(公告)号：CN100358115C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200510070914.6
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/302 , B08B3/02 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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公开(公告)号：CN1249492C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN02121836.6
申请日：2002-06-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，在将基板沿水平方向传送并通过多个处理部，在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中，其中，在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分，设置液膜式的缝隙喷嘴，该缝隙喷嘴具有向基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的喷嘴本体，以及防止从该喷嘴本体喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件，所述遮挡部件设置在所述喷嘴本体的前端外侧。
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公开(公告)号：CN1684235A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510070914.6
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/302 , B08B3/02 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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公开(公告)号：CN1627993A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN02829087.9
申请日：2002-06-05
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: B05B1/14 , B05C5/00 , B65G49/07 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC classification number: B05C5/027 , B05B1/20 , H01L21/6715
Abstract: 本发明是关于能防止涂敷结束时的液体滴落，用少量的处理液可在基板上形成膜厚度均匀的处理液膜的喷嘴装置及基板处理装置。喷嘴装置(10)，具有在下面形成的多个排出口(18)、将所供应的处理液滞留的液体滞留室(22)、与所述各排出口(18)分别连通，使处理液从各排出口(18)排出的多个液体排出流路(17)。各个液体排出流路(17)的上端设置为高于所述液体滞留室(22)的上端，他们通过连接通道(23)相互连通。并且，连接通道(23)内部的最低高度设定为0.05mm以上0.2mm以下，所述各个液体排出流路(17)的最小口径设定为0.35mm以上1.0mm以下。
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公开(公告)号：CN1613144A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN02826680.3
申请日：2002-11-28
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/31 , H01L21/302 , C23C16/455
CPC classification number: H01L21/6708
Abstract: 本发明是关于一种臭氧处理装置，是对半导体基板或液晶基板等的基板表面吹送臭氧气体，来进行氧化膜的形成或改性、抗蚀膜的去除等处理。臭氧处理装置1，是由用以载置基板K的载置台20，用以将载置台20上的基板K加热的加热装置，与载置台20上的基板K呈对向配置、且具有开口于与基板K对向的面并将臭氧气体朝基板K喷出的喷出口的多个对向板40，以及对各对向板40的喷出口供给臭氧气体而使得气体喷出气体供给装置60所构成。各对向板40是以邻接的对向板40间形成间隙的方式配置在同一平面内。对向板40的体积小，即使对向板40与基板K之间发生热移动，由于对向板40与基板K可在短时间达成热平衡状态，所以基板K的温度管理变得容易。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1398425A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN01804737.8
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708
Abstract: 本发明的目的在于提供适用于Al腐蚀、可以将Al层的边缘面形成为适合下一层的层积的平缓的倾斜面的传送式基板处理装置。为了实现该目的，在从多个喷射喷嘴(34a)向基板(100)的整个表面供给处理液的喷淋单元(34)的下游侧，设置一级或多级缝隙喷嘴(35)，向基板表面的宽度方向整个区域膜状地供给处理液。通过使用缝隙喷嘴(35)的化学刮刀处理，实现在基板(100)的表面上较薄地载置处理液的涂浆的状态。
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公开(公告)号：CN115280099B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202180021348.7
申请日：2021-03-23
Applicant: 住友精密工业株式会社
Inventor： 森口孝文
IPC: G01C19/5776 , G01C19/567
Abstract: 该振动型角速度传感器(100)中，初级侧控制电路(2)和次级侧控制电路(3)构成为，能够更换作为初级侧控制电路(2)的功能和作为次级侧控制电路(3)的功能，更换后的偏移值和更换前的偏移值为相对于规定的基准值对称的值。
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公开(公告)号：CN115280100B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202180021313.3
申请日：2021-03-23
Applicant: 住友精密工业株式会社
Inventor： 森口孝文
IPC: G01C21/12 , G01C19/5649
Abstract: 该方位角姿势角测量装置(100)具备角速度传感器(103a)和控制部(101)。角速度传感器包括振子(11)、初级侧控制电路(12)及次级侧控制电路(13)。控制部构成为进行如下控制：将角速度传感器的状态切换到第1状态和第2状态中的任一个，该第1状态是更换初级侧控制电路和次级侧控制电路的功能而检测角速度，该第2状态是不更换初级侧控制电路和次级侧控制电路的功能而检测角速度。
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公开(公告)号：CN115315612B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202080098570.2
申请日：2020-07-16
Applicant: 住友精密工业株式会社
Inventor： 森口孝文
IPC: G01C19/5776 , G01C19/567
Abstract: 该振动型角速度传感器(100)具备第1角速度传感器部(101)和第2角速度传感器部(102)。通过第2角速度传感器部在规定期间内进行如下处理：通过次级侧控制电路(17)检测基于振子(11)的次级振动的角速度；及更换功能而通过初级侧控制电路(16)检测基于振子的次级振动的角速度。通过第1角速度传感器部在规定期间内检测角速度。根据在规定期间内通过第1角速度传感器部检测出的第1检测结果和在规定期间内通过第2角速度传感器部检测出的第2检测结果来计算第1角速度传感器部的偏置成分。
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公开(公告)号：CN116157354A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180058559.8
申请日：2021-04-26
Applicant: 住友精密工业株式会社
Inventor： 德竹滋和
IPC: C01B13/11
Abstract: 控制装置具有存储部，该存储部根据臭氧产生部中的不同的气体流量，存储表示电源输出和与电源输出对应的臭氧浓度之间的关系的两个以上的函数。控制装置根据臭氧产生部的设定臭氧浓度、表示臭氧产生部的气体流量的指标、检测臭氧浓度以及多个所述函数，来求出与设定臭氧浓度对应的第一电源输出和与检测臭氧浓度对应的第二电源输出，根据第一电源输出和第二电源输出之差，来执行控制电源输出的反馈控制。
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