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21.发明专利
公开(公告)号：JP2003336751A
公开(公告)日：2003-11-28
申请号：JP2002143005
申请日：2002-05-17
Applicant: Nippon Itf Kk , Sumitomo Electric Ind Ltd , 住友電気工業株式会社 , 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Inventor： UKEKAWA JIHEI , IKEGAYA AKIHIKO , FUJINAMI YASUSHI , OHARA HISANORI
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a valve element made of alumina ceramics as a base substance and has high corrosion resistance of its slideway, and also to provide a warm water faucet valve using the valve element and having excellent durability.
SOLUTION: The alumina ceramics valve element is made of alumina ceramics as the base substance, the slideways of the base substance is covered with amorphous alumina and the top of it is covered with diamond-like carbon. The warm water faucet valve has at least a pair of valve elements which slide each other, and the alumina ceramics valve element of this constitution is used for at least one valve element.
COPYRIGHT: (C)2004,JPOAbstract translation: 要解决的问题：提供一种由氧化铝陶瓷制成的阀体元件作为基础物质，并且具有高的滑道耐腐蚀性，并且还提供使用该阀元件并具有优异的耐久性的温水龙头阀。
解决方案：氧化铝陶瓷阀元件由氧化铝陶瓷作为基体物质，基体的滑道被无定形氧化铝覆盖，顶部覆盖有类金刚石碳。 温水龙头阀具有至少一对彼此滑动的阀元件，并且该结构的氧化铝陶瓷阀元件用于至少一个阀元件。 版权所有（C）2004，JPO
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公开(公告)号：JP2003062705A
公开(公告)日：2003-03-05
申请号：JP2002169117
申请日：2002-06-10
Applicant: Nippon Itf Kk , Nissin Electric Co Ltd , Sumitomo Electric Ind Ltd , 住友電気工業株式会社 , 日新電機株式会社 , 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Inventor： OTANI SATOSHI , OKAZAKI NAOTO , OGATA KIYOSHI , FUKUI HARUYO , IRIE YOSHINORI , SETOYAMA MAKOTO , MORIGUCHI HIDEKI , UCHIUMI YOSHIHARU , OHARA HISANORI
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tool clad with a film of amorphous carbon excellent in wear resistance and deposition resistance, and to provide its manufacturing method. SOLUTION: This tool clad with the amorphous carbon is provided with a base material made of one kind selected from among high-speed steel, carbon tool steel and alloy tool steel and the film of the amorphous carbon used to clad at least a cutting edge on this base material. Hydrogen is contained not more than 5 atomic % within the film of the amorphous carbon. The maximum thickness of the film of the amorphous carbon at the cutting edge is made to be not less than 0.05 μm and not more than 0.5 μm. This film of the amorphous carbon is formed by physical vapor deposition in which graphite is made as a raw material. It is optimum to be applied to a rotationally cutting tool such as a drill, an end-mill and a reamer, a cutting tip capable of changing the cutting edge used for a milling tool and a turning tool, and a cut-off tool such as a cutter, a knife and a slitter or the like.
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种包覆耐磨性和耐沉积性优异的无定形碳膜的工具，并提供其制造方法。 解决方案：该无机碳包覆工具设有从高速钢，碳工具钢和合金工具钢中选择的一种基材，用于至少包覆切削刃的无定形碳膜 这种基础材料。 在无定形碳的膜内氢含量不超过5原子％。 将切削刃处的无定形碳膜的最大厚度设定为0.05μm以上0.5μm以下。 该无定形碳膜通过物理气相沉积形成，其中石墨作为原料。 适用于诸如钻头，立铣刀和铰刀的旋转切削刀具，能够改变用于铣削刀具的切削刃的切削刀片和车削刀具，以及诸如 作为切割器，刀和切割机等。
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公开(公告)号：JP2021021098A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2019136859
申请日：2019-07-25
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】非晶質硬質炭素膜を厚膜に成膜した場合でも、膜表面の平滑性が維持されており、また、耐摩耗性にも優れている非晶質硬質炭素膜の成膜技術を提供する。 【解決手段】表面粗さRa(μm)を膜厚d(μm)で除した面粗さ指数Ra/dが、0.035以下であり、膜中のグラファイトのC軸が、基材表面に対して平行に配向している非晶質硬質炭素膜。真空中でカーボンを主成分とする円柱状の陰極の外周面にアークスポットを形成させ、アーク放電を生じさせることにより、アークスポットからカーボンを昇華させて、基材の表面に非晶質硬質炭素膜を成膜する非晶質硬質炭素膜の成膜方法であって、基材に0〜−50Vのバイアス電圧を印加すると共に、アーク電流を10〜200A、炉内圧力を5.0Pa以下に制御して、基材の温度を250〜350℃に制御しながら、基材の表面に非晶質硬質炭素膜を成膜する非晶質硬質炭素膜の成膜方法。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019196806A
公开(公告)日：2019-11-14
申请号：JP2018091262
申请日：2018-05-10
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社
IPC: F16J15/06
Abstract: 【課題】貼り付きの発生を十分に抑制し、さらに気体に対しても十分なシール機能を確保することができる流体のシール技術を提供する。 【解決手段】硬質部材のシール面と弾性部材のシール面とを接触させて流体をシールする流体のシール構造であって、硬質部材のシール面が、二乗平均平方根粗さが11〜35nmの面粗度を有する硬質炭素膜で被覆されている流体のシール構造および流体のシール構造が設けられているシール部品。 【選択図】図3
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6578491B2
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：JP2017534065
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 本田技研工業株式会社
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公开(公告)号：JP6364685B2
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：JP2015562604
申请日：2014-02-13
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 本田技研工業株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0036 , C23C14/025 , C23C14/0605 , C23C16/0272 , C23C16/0281 , C23C16/26 , C23C16/50
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公开(公告)号：JP6343767B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2016548483
申请日：2014-09-17
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 日本ピストンリング株式会社
CPC classification number: C10M103/02 , C01B32/05 , C01P2002/82 , C01P2004/04 , C10M2201/0413 , C10N2230/20 , C23C14/06 , C23C14/0605 , C23C14/325
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公开(公告)号：JPWO2017104822A1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2017519015
申请日：2016-12-16
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 日本ピストンリング株式会社
Inventor： 森口 秀樹 , 秀樹 森口 , 明宣 柴田 , 明宣 柴田 , 竹彦 大城 , 竹彦 大城 , 伊東 義洋 , 義洋 伊東 , 孝弘 岡▲崎▼ , 孝弘 岡▲崎▼ , 宏幸 杉浦 , 宏幸 杉浦
Abstract: PVD法でありながら耐久性に優れた厚膜の硬質炭素膜を成膜することができると共に、成膜された硬質炭素膜の耐チッピング性と耐摩耗性とを両立させると共に、低摩擦性と耐剥離性を改善させることができる技術を提供する。基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき、相対的に白で示される白色の硬質炭素層と、黒で示される黒色の硬質炭素層とが厚み方向に交互に積層されて1μmを超え、50μm以下の総膜厚を有しており、白色の硬質単素層は、厚み方向に扇状に成長した領域を有している被覆膜。PVD法を用いて基材の表面に被覆膜を成膜する被覆膜の製造方法であって、基材が50℃を超え200℃以下の低温域と200℃を超え300℃以下の高温域との間で昇温と降温を交互に繰り返すように基材への成膜条件を制御すると共に、基材を自転および/または公転させる被覆膜の製造方法。
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公开(公告)号：JP2017171988A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016059233
申请日：2016-03-23
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】PVD法でありながら耐久性に優れた厚膜の硬質炭素膜を成膜することができると共に、成膜された硬質炭素膜の耐チッピング性と耐摩耗性とを両立させると共に、低摩擦性と耐剥離性を改善させることができる技術を提供する。 【解決手段】基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき、相対的に白で示される白色の硬質炭素層と、黒で示される黒色の硬質炭素層とが厚み方向に交互に積層されて1μmを超え、50μm以下の総膜厚を有しており、白色の硬質単素層は、厚み方向に柱状に成長した領域を有している被覆膜。PVD法を用いて基材の表面に被覆膜を成膜する被覆膜の製造方法であって、基材が50℃を超え250℃未満の低温域と250℃以上400℃以下の高温域との間で昇温と降温を交互に繰り返すように基材への成膜条件を制御すると共に、基材を自転および/または公転させる被覆膜の製造方法。 【選択図】図1
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