公开(公告)号：TW201337246A

公开(公告)日：2013-09-16

申请号：TW102104986

申请日：2013-02-07

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 瓦拉狄米斯基 由利 ,  VLADIMIRSKY, YULI ,  華許 詹姆士H ,  WALSH, JAMES H. ,  亞力夫 穆哈曼德 ,  ARIF, MUHAMMAD ,  弗萊德米斯基 歐賈 ,  VLADIMIRSKY, OLGA

IPC: G01N21/94 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916

Abstract: 本發明揭示一種用於偵測一受檢測物品上的諸如分別具有一第一特性、一第二特性及一第三特性之一或多個第一、第二及第三污染物粒子之污染物粒子的方法及檢測裝置。該檢測裝置包括一光學系統，該光學系統具有與該一或多個第一、第二及第三污染物粒子之該第一特性、該第二特性及該第三特性相關聯之濾光器中之一單一濾光器或該等濾光器之一組合以鑑別該等粒子之化學或機械類型。舉例而言，可藉由使用一彩色濾光器或差分濾光器來區別一硬粒子及兩個不同類型之軟粒子。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于侦测一受检测物品上的诸如分别具有一第一特性、一第二特性及一第三特性之一或多个第一、第二及第三污染物粒子之污染物粒子的方法及检测设备。该检测设备包括一光学系统，该光学系统具有与该一或多个第一、第二及第三污染物粒子之该第一特性、该第二特性及该第三特性相关联之滤光器中之一单一滤光器或该等滤光器之一组合以鉴别该等粒子之化学或机械类型。举例而言，可借由使用一彩色滤光器或差分滤光器来区别一硬粒子及两个不同类型之软粒子。

公开(公告)号：TW201308022A

公开(公告)日：2013-02-16

申请号：TW101122550

申请日：2012-06-22

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 海勒姆斯 彼得 理察 ,  HELMUS, PETER RICHARD ,  維克洛 羅那德A ,  WILKLOW, RONALD A.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L21/6831 ,  G03F7/70708 ,  H01L21/6833 ,  Y10T156/10

Abstract: 一種靜電夾具，該靜電夾具經組態以將一物品靜電地夾持至一微影設備中之一物品支撐件。該夾具包含一第一材料層、安置於該第一層上方之一電極、沈積於該電極之部分之間的一隔離、介電或半介電材料，及安置於該電極上方之一第二層。另外，本發明描述一種製造該靜電夾具之方法。

Abstract in simplified Chinese: 一种静电夹具，该静电夹具经组态以将一物品静电地夹持至一微影设备中之一物品支撑件。该夹具包含一第一材料层、安置于该第一层上方之一电极、沉积于该电极之部分之间的一隔离、介电或半介电材料，及安置于该电极上方之一第二层。另外，本发明描述一种制造该静电夹具之方法。

公开(公告)号：TW201300964A

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：TW101108510

申请日：2012-03-13

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 沃格 赫曼 ,  VOGEL, HERMAN ,  勾森 傑若恩 杰若德 ,  GOSEN, JEROEN GERARD ,  帕休斯 巴特 迪南 ,  PAARHUIS, BART DINAND ,  凡 波克特 法蘭克 喬漢斯 賈柏斯 ,  VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS ,  李景高 ,  LI, JINGGAO

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70908 ,  G03F7/70866

Abstract: 在一實施例中，一種裝置具有：一圖案化元件支撐件，其包括具有一第一流動限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面對該第一流動限定表面之一第二流動限定表面；一支撐件驅動器，其用以沿著某一方向相對於該第二平面器件線性地移動該支撐件，其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面具有在該第一流動限定表面與該第二流動限定表面之間的一或多個突出物及/或凹部，且其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面上之該突出物及/或凹部經配置以在垂直於流動之該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面之每單位寬度提供一流動阻力，相比於抵制垂直於該某一方向之流動之該流動阻力，抵制平行於該某一方向之流動之該流動阻力較低。該等流動限定表面可將氣流引導至產生熱之一驅動器部件上。

Abstract in simplified Chinese: 在一实施例中，一种设备具有：一图案化组件支撑件，其包括具有一第一流动限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面；一支撑件驱动器，其用以沿着某一方向相对于该第二平面器件线性地移动该支撑件，其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面具有在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一或多个突出物及/或凹部，且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力，相比于抵制垂直于该某一方向之流动之该流动阻力，抵制平行于该某一方向之流动之该流动阻力较低。该等流动限定表面可将气流引导至产生热之一驱动器部件上。

公开(公告)号：TWI380339B

公开(公告)日：2012-12-21

申请号：TW093140143

申请日：2004-12-22

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 安德魯 古顏

IPC: H01L

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 根據本發明之一態樣，本發明提供了一種用於一晶圓處理裝置之分配頭。該分配頭可包含一入口、至少一出口、一排放口，及一穿過其中且與通道該入口、該出口與該排放口互連之通道。該入口可位於該通道之底部上方之一第一高度處，該出口可位於該底部上方之一第二高度處，且該排放口可位於該底部上方之一第三高度處。一第一閥可連接至該入口，且一第二閥可連接至該排放口。當該第一閥打開且該第二閥關閉時，流體流入該入口且自該出口流出。當該第二閥打開且該第一閥關閉時，流體自該通道流出該排放口。一泵可連接至該排放口。

Abstract in simplified Chinese: 根据本发明之一态样，本发明提供了一种用于一晶圆处理设备之分配头。该分配头可包含一入口、至少一出口、一排放口，及一穿过其中且与信道该入口、该出口与该排放口互连之信道。该入口可位于该信道之底部上方之一第一高度处，该出口可位于该底部上方之一第二高度处，且该排放口可位于该底部上方之一第三高度处。一第一阀可连接至该入口，且一第二阀可连接至该排放口。当该第一阀打开且该第二阀关闭时，流体流入该入口且自该出口流出。当该第二阀打开且该第一阀关闭时，流体自该信道流出该排放口。一泵可连接至该排放口。

公开(公告)号：TW201232696A

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：TW100136322

申请日：2011-10-06

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 海勒姆斯 彼得 理察 ,  里普森 馬修 ,  維克洛 羅那德A ,  肯儂 詹姆士 ,  懷特 肯納德 ,  理查曼二世 韋伯 喬丹

IPC: H01L ,  G03F

CPC classification number: G03F7/70708 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/6833 ,  H02N13/00

Abstract: 本發明揭示一種供一微影裝置中使用之靜電鉗,該靜電鉗包括瘤節及一電極,該電極係藉由鄰近瘤節之間的一絕緣體及/或一介電材料環繞。在一實施例中,兩個或兩個以上介電材料層提供於鄰近瘤節之間且環繞提供於鄰近瘤節之間的一電極。該靜電鉗可用以在一微影裝置中將一物件夾持至一物件支撐件。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种供一微影设备中使用之静电钳,该静电钳包括瘤节及一电极,该电极系借由邻近瘤节之间的一绝缘体及/或一介电材料环绕。在一实施例中,两个或两个以上介电材料层提供于邻近瘤节之间且环绕提供于邻近瘤节之间的一电极。该静电钳可用以在一微影设备中将一对象夹持至一对象支撑件。

公开(公告)号：TW201224673A

公开(公告)日：2012-06-16

申请号：TW100136329

申请日：2011-10-06

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 阿米 夏席迪 卓亞

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/707

Abstract: 本發明提供用以在一微影裝置之一圖案化裝置載物台之移動期間實質上消除圖案化裝置滑動的配置。一種此類配置包括一固持系統及一支撐輸送裝置。該固持系統包括一支撐裝置、一固持裝置,及一磁致伸縮式致動器。該固持裝置將該圖案化裝置可釋放式地耦接至該支撐裝置。該磁致伸縮式致動器可釋放式地耦接至該圖案化裝置以將一加速度力施加至該圖案化裝置。該支撐輸送裝置耦接至該支撐裝置,且與藉由該磁致伸縮式致動器對力之該施加同時地移動該支撐裝置,以防止圖案化裝置滑動。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用以在一微影设备之一图案化设备载物台之移动期间实质上消除图案化设备滑动的配置。一种此类配置包括一固持系统及一支撑输送设备。该固持系统包括一支撑设备、一固持设备,及一磁致伸缩式致动器。该固持设备将该图案化设备可释放式地耦接至该支撑设备。该磁致伸缩式致动器可释放式地耦接至该图案化设备以将一加速度力施加至该图案化设备。该支撑输送设备耦接至该支撑设备,且与借由该磁致伸缩式致动器对力之该施加同时地移动该支撑设备,以防止图案化设备滑动。

公开(公告)号：TWI358615B

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：TW095143977

申请日：2006-11-28

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML控股公司

Inventor： 賈庫巴 菲德利克 菲索 克林哈瑪 ,  理孚 瑞理考夫 ,  修伯特 維瑟 ,  史考特 庫斯東 ,  艾達 裘布 ,  亨利 喬漢那斯 皮楚 明克 ,  葉伊慈 康斯坦那屈 薛瑪

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70075

Abstract: 本發明提供一種用於大體均勻化一輻射光束並自該輻射光束中移除至少某些相干性之系統及方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于大体均匀化一辐射光束并自该辐射光束中移除至少某些相干性之系统及方法。

公开(公告)号：TW201128321A

公开(公告)日：2011-08-16

申请号：TW099140238

申请日：2010-11-22

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 薩羅德森 羅伯特 亞伯特 ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  卡提 艾瑞克 布來恩 ,  許瑪瑞福 耶夫根尼 康斯坦丁諾夫契 ,  賈庫柏斯 理查 大衛

IPC: G03F

CPC classification number: G03H1/00 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95607 ,  G01N21/95623 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84 ,  G03H1/02 ,  G03H1/041 ,  G03H1/0443 ,  G03H1/08 ,  G03H2001/0204 ,  G03H2222/15 ,  G03H2222/43 ,  G03H2222/45 ,  G03H2223/12 ,  G03H2223/26 ,  G03H2223/53

Abstract: 本發明揭示用於全像光罩檢測之裝置、方法及微影系統。一種全像光罩檢測系統可包括一照明源、一空間濾光器，及一影像感測器。該照明源可經組態以將一輻射光束照明至一光罩之一目標部分上。該空間濾光器可配置於一光學系統之一光瞳平面中，其中該空間濾光器自該光罩之該目標部分接收一反射輻射光束之至少一部分。該光學系統可經配置以組合該反射輻射光束之該部分與一參考輻射光束以產生一組合輻射光束。另外，該影像感測器可經組態以俘獲該組合輻射光束之一影像。該影像可含有一或多個光罩缺陷。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示用于全像光罩检测之设备、方法及微影系统。一种全像光罩检测系统可包括一照明源、一空间滤光器，及一影像传感器。该照明源可经组态以将一辐射光束照明至一光罩之一目标部分上。该空间滤光器可配置于一光学系统之一光瞳平面中，其中该空间滤光器自该光罩之该目标部分接收一反射辐射光束之至少一部分。该光学系统可经配置以组合该反射辐射光束之该部分与一参考辐射光束以产生一组合辐射光束。另外，该影像传感器可经组态以俘获该组合辐射光束之一影像。该影像可含有一或多个光罩缺陷。

公开(公告)号：TW201109620A

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：TW099121550

申请日：2010-06-30

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 里昂 喬瑟夫H

IPC: G01B ,  G03F

CPC classification number: B26F1/00 ,  B26F2001/4418 ,  B26F2001/4427 ,  C08F220/14 ,  C08F222/1006 ,  G01B13/12 ,  G02B1/04 ,  G03F9/7057 ,  Y10T428/24843 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/31855 ,  C08L33/00 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2222/108

Abstract: 本發明提供一種用於表面量測之流體近接感測器,其具有:一量測腔室,其具有一量測噴嘴;一參考腔室,其具有一參考噴嘴;及一隔膜,其在該量測腔室與該參考腔室之間形成一界面。封閉該量測噴嘴及該參考噴嘴之一護罩在該護罩與經量測之一工作表面之間提供一周邊間隙。藉由將一部分真空供應器或一部分流體供應器連接至該護罩,可升高或降低內部護罩壓力,且因此最佳化該近接感測器之增益-頻率操作規程。可藉由光學方式、電容性方式或電感性方式來感測回應於差動壓力改變的該隔膜之移動。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于表面量测之流体近接传感器,其具有:一量测腔室,其具有一量测喷嘴;一参考腔室,其具有一参考喷嘴;及一隔膜,其在该量测腔室与该参考腔室之间形成一界面。封闭该量测喷嘴及该参考喷嘴之一护罩在该护罩与经量测之一工作表面之间提供一周边间隙。借由将一部分真空供应器或一部分流体供应器连接至该护罩,可升高或降低内部护罩压力,且因此最优化该近接传感器之增益-频率操作规程。可借由光学方式、电容性方式或电感性方式来传感回应于差动压力改变的该隔膜之移动。

公开(公告)号：TWI337298B

公开(公告)日：2011-02-11

申请号：TW092134588

申请日：2003-12-08

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 約瑟夫 拉甘薩 ,  喬治 伊弗迪 ,  佛羅倫斯 羅

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70983 ,  G03F1/64

Abstract: 本發明提供一種用以保持光微影系統中的光學結構之間的光學間隙之方法和裝置。框界定第一和第二相對表面。第一相對表面界定第一開口，第二相對表面界定第二開口。在一觀點中，框的至少一邊緣具有貫穿它的開口。多孔過濾材料經由框的邊緣填滿每一開口。在另一觀點中，在第一開口周圍的第一相對表面上間隔開複數間隔構件。間隔構件具有被配置成與第一光學結構表面緊密配合的實質上共面表面。接合劑密封第一相對表面和第一光學結構之間的第一開口周圍之空間。框藉以圍住第一光學結構和第二光學結構之間的光學間隙。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用以保持光微影系统中的光学结构之间的光学间隙之方法和设备。框界定第一和第二相对表面。第一相对表面界定第一开口，第二相对表面界定第二开口。在一观点中，框的至少一边缘具有贯穿它的开口。多孔过滤材料经由框的边缘填满每一开口。在另一观点中，在第一开口周围的第一相对表面上间隔开复数间隔构件。间隔构件具有被配置成与第一光学结构表面紧密配合的实质上共面表面。接合剂密封第一相对表面和第一光学结构之间的第一开口周围之空间。框借以围住第一光学结构和第二光学结构之间的光学间隙。