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公开(公告)号：CN1900823B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200610082779.1
申请日：2002-02-21
Applicant: ASML控股公司
Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。
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公开(公告)号：CN1900823A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200610082779.1
申请日：2002-02-21
Applicant: ASML控股公司
Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。
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公开(公告)号：CN1912744B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200610100516.9
申请日：2002-02-21
Applicant: ASML控股公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。
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公开(公告)号：CN1912744A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610100516.9
申请日：2002-02-21
Applicant: ASML控股公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。
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公开(公告)号：TWI698704B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108103547
申请日：2019-01-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 艾堅達 薩帝許 , ACHANTA, SATISH , 阿克丘林 艾雅達爾 , AKCHURIN, AYDAR , 安東諾夫 比瓦多 , ANTONOV, PAVLO , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 鮑克奈格特 傑羅伊恩 , BOUWKNEGT, JEROEN , 法爾 安 蘇菲 M , FARLE, ANN-SOPHIE M. , 梅森 克里斯多福 約翰 , MASON, CHRISTOPHER JOHN , 巴勒摩 羅夫 尼可拉斯 , PALERMO, RALPH NICHOLAS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI679491B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104137749
申请日：2015-11-16
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 , JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS , 阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 , AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 布魯吉 馬克 , BRUIJN, MARC , 布魯斯 理查 喬瑟夫 , BRULS, RICHARD JOSEPH , 戴克斯 傑洛恩 , DEKKERS, JEROEN , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 , KAMALI, MOHAMMAD REZA , 卡默 羅納 哈莫 剛瑟 , KRAMER, RONALD HARM GUNTHER , 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 , 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 里普森 馬修 , LIPSON, MATTHEW , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 黎昂斯 喬瑟夫H , LYONS, JOSEPH H , 露克司 史蒂芬 , ROUX, STEPHEN , 凡 登 波許 吉瑞特 , VAN DEN BOSCH, GERRIT , 凡 登 海吉坎特 山德 , VAN DEN HEIJKANT, SANDER , 凡 得 葛絡夫 珊卓拉 , VAN DER GRAAF, SANDRA , 凡 丹 慕蘭 佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K
IPC: G03F1/62
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公开(公告)号：TW201921156A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133297
申请日：2018-09-21
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 薛瑪 葉伊慈 康斯坦那屈 , SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明提供一種檢測裝置，其包括：一接物鏡，其經組態以自一度量衡目標接收具有正及負繞射階輻射的繞射輻射；一光學元件，其經組態以將該繞射輻射分離成單獨地對應於一或多個輻射特性之複數個不同值或類型中之每一者且單獨地對應於該正繞射階及該負繞射階之部分；及一偵測器系統，其經組態以單獨且同時地量測該等部分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种检测设备，其包括：一接物镜，其经组态以自一度量衡目标接收具有正及负绕射阶辐射的绕射辐射；一光学组件，其经组态以将该绕射辐射分离成单独地对应于一或多个辐射特性之复数个不同值或类型中之每一者且单独地对应于该正绕射阶及该负绕射阶之部分；及一侦测器系统，其经组态以单独且同时地量测该等部分。
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公开(公告)号：TW201816519A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106125004
申请日：2017-07-26
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 艾伯特 雷納德 彼得 , ALBRIGHT, RONALD PETER , 貝克 羅威爾 蘭尼 , BAKER, LOWELL LANE , 波本克 丹尼爾 奈森 , BURBANK, DANIEL NATHAN
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明提供一種微粒捕捉器總成，其經組態以減小具有一較大範圍的大小、材料、行進速度及入射角之污染物微粒到達一微粒敏感環境之可能性。該微粒捕捉器可為位於微影裝置之一靜止零件與一可移動零件之間的一間隙幾何微粒捕捉器。該微粒捕捉器亦可為位於微影或度量衡裝置中之一微粒敏感環境之一表面上之一表面幾何微粒捕捉器。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种微粒捕捉器总成，其经组态以减小具有一较大范围的大小、材料、行进速度及入射角之污染物微粒到达一微粒敏感环境之可能性。该微粒捕捉器可为位于微影设备之一静止零件与一可移动零件之间的一间隙几何微粒捕捉器。该微粒捕捉器亦可为位于微影或度量衡设备中之一微粒敏感环境之一表面上之一表面几何微粒捕捉器。
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公开(公告)号：TW201812439A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106129646
申请日：2017-08-31
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡雷特 凱文 J , VIOLETTE, KEVIN J. , 亞堤司 依格 馬修斯 皮特尼拉 , AARTS, IGOR MATHEUS PETRONELLA , 庫克 海克 維克特 , KOK, HAICO VICTOR , 凱特 艾瑞克 布萊恩 , CATEY, ERIC BRIAN
CPC classification number: G03F9/7019 , G03F7/70516 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F9/708 , G03F9/7084
Abstract: 一種方法，其包括：在一結構至少部分地在一裝置內時將一裝置標記印刷至該結構上，該結構與待由該裝置固持之一基板分離；及使用該裝置內之一感測器系統來量測該裝置標記。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包括：在一结构至少部分地在一设备内时将一设备标记印刷至该结构上，该结构与待由该设备固持之一基板分离；及使用该设备内之一传感器系统来量测该设备标记。
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公开(公告)号：TW201734564A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106106032
申请日：2017-02-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 俄林斯 馬可斯 法蘭西斯 安東尼奧斯 , EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 塔克爾 特尼思 威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 迪 威特 僑漢斯 馬修司 馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 史莫諾夫 史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV
CPC classification number: G02B27/0988 , G01B11/272 , G01N21/49 , G01N21/8806 , G01N2201/0631 , G02B6/0008 , G02B26/008 , G02B27/0927 , G02B27/0994 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70616 , G03F7/70633
Abstract: 本發明提供一種用於使一輻射光束同質化之光束同質化器，及一種照明系統以及包含此類光束同質化器之度量衡裝置。該光束同質化器包含：一濾光器系統，其具有一可控制徑向吸收剖面且經組態以輸出一經濾光之光束；及一光學混合元件，其經組態以使該經濾光之光束同質化。該濾光器系統可經組態以徑向地使有角光束剖面同質化，且該光學混合元件可經組態以在方位角上使該有角光束剖面同質化。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于使一辐射光束同质化之光束同质化器，及一种照明系统以及包含此类光束同质化器之度量衡设备。该光束同质化器包含：一滤光器系统，其具有一可控制径向吸收剖面且经组态以输出一经滤光之光束；及一光学混合组件，其经组态以使该经滤光之光束同质化。该滤光器系统可经组态以径向地使有角光束剖面同质化，且该光学混合组件可经组态以在方位角上使该有角光束剖面同质化。
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