Abstract:
본 발명은 염기성 페이스트를 이용함으로써 종래의 기술에 비해 공정단가를 낮추고 대면적 공정이 가능하게 되는 금속 배선 기술에 관한 것이다. 본 발명은 「(a) 알칼리 금속을 함유한 염기성 용액에 증점제를 혼합하여 염기성 페이스트를 제조하는 단계; 및 (b) 염기성 반응성 수지로 제작된 기판에 상기 염기성 페이스트를 패터닝하여 알칼리 금속을 상기 기판에 흡착시키는 단계; 를 포함하는 염기성 페이스트를 이용한 알칼리 금속 패터닝 방법」을 제공한다.
Abstract:
탄소나노튜브를 포함하는 저저항 고투과율 플렉서블 FTO 투명 전도막 제조방법은, 내열성 폴리머 필름기재위에 기능성층으로써 탄소나노튜브 복합물질층을 코팅하는 단계; 탄소나노튜브를 포함한 폴리머 필름에 금속 산화막을 코팅하는 단계; 및 상기 탄소나노튜브 복합물질층위에 FTO 투명전도막을 형성하는 단계를 포함하여 구성되고, 상기 탄소나노튜브 복합물질층의 코팅이 스프레이코팅법, 스핀 코팅법, 닥터 블레이등의 캐스팅법, 그라비아코팅, 롤투롤코팅법 중 하나로 이루어지고, 상기 탄소나노튜브와 알칼리 가용성 고분자 및 광중합성 화합물 총중량의 비는 고형분 함량 기준으로 1:10 내지 1:1,000 중량비로 포함되는 탄소나노튜브를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
The present invention relates to a method for improving visible light transmittance on a polyimide substrate by forming a ceramic film on the polyimide substrate, and a polyimide-ceramic-FTO transparent film which improves visible light transmittance by forming an FTO film on the polyimide-ceramic substrate. The present invention provides a method for improving visible light transmittance on a polyimide substrate, wherein the method includes a step (a) of preparing polyimide (PI) substrate and a step (b) of forming a ceramic film with a thickness of 50-150 nm on the polyimide substrate. At this time, the ceramic film can be formed with SiO2.
Abstract:
본 발명은 곡면과 같은 복잡한 형상의 투명 기판위에 FTO 투명전도막을 형성하는 코팅 시스템에 관한 것으로서, 특히, 기판이 공급되어 배출되는 과정까지 비선형 연속이송 장치를 구비하고, 상기 곡면 기판과 동일한 90도 방향에 원료급기 및 배기 노즐을 설치하고, 곡면 기판의 이송방향에 대하여 90도 방향에서 원료가 공급되고, 이에 따라 곡면의 기판에 균일하게 원료가스가 공급되어 균질한 박막을 코팅하는 단계로 구성되는 비선형 연속 이송장치를 겸비한 곡면 FTO 투명전도막 코팅을 수행하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 곡면과 같은 복잡한 형상의 투명 모재 기판위에 FTO 투명전도막을 형성하는 코팅 시스템에 관한 것으로, 특히, 전처리 챔버, 증착챔버, 후처리 챔버가 선형적으로 연결되어 있고, 상기 증착 챔버의 일측면부에 구비되는 곡면화 노즐로부터 FTO 프리커서가 분사되고 곡면의 형상을 갖는 서셉터를 통하여 FTO 박막의 증착이 이루어지는 동시에 반대 측면부에서 석션을 함으로서 FTO 프리커서 플로우가 기판과 평행하게 흐르게 함으로서 가열된 기판에 FTO가 균일 도포되게 하는 곡면 FTO 코팅 시스템에 관한 것이다.