公开(公告)号：KR101632397B1

公开(公告)日：2016-06-21

申请号：KR1020140149767

申请日：2014-10-31

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  권오대

IPC: H01L21/205 ,  H05H1/46 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은플라즈마화학기상장치에관한것으로서, 기재가위치하는공정영역을갖는진공챔버; 상기진공챔버내부의진공도를조절하는진공조절부; 상기진공챔버내부에공정가스를공급하는가스공급부; 상기진공챔버내에설치되어상기공정영역에플라즈마를형성하며, 외주면에표면거칠기를갖는적어도하나의전극유닛; 상기전극유닛에전원을공급하는전원공급부를포함하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR101596402B1

公开(公告)日：2016-02-22

申请号：KR1020130121897

申请日：2013-10-14

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대 ,  정성훈

IPC: H01L21/02

Abstract: 본발명은 N2 환경챔버의표면처리방법및 이에의해제작된 N2 환경챔버에관한것으로서, 상기표면처리방법은상기챔버의표면처리대상표면을전처리하는전처리단계; 전처리된상기표면에무정전재료를도장하는도장단계; 상기무정전재료가도장된표면을후처리하는후처리단계를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 챔버의제작시간과제작비를절감함과동시에, 제작이용이하고수분및 아웃가스발생을방지할수 있는 N2 환경챔버의표면처리방법및 이에의해제작된 N2 환경챔버가제공된다.

公开(公告)号：KR1020160014897A

公开(公告)日：2016-02-12

申请号：KR1020140097008

申请日：2014-07-30

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대 ,  정성훈

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/35 ,  C23C14/3407

Abstract: 본발명은막 형성장치용롤에관한것으로서, 중공체로마련되는내부관과, 상기내부관의둘레를열교환유체순환공간을두고둘러싸는외부관을갖는롤본체; 상기롤본체의중심에결합되는중공관체의롤회전축; 상기롤회전축의축선방향양측에서상기열교환유체순환공간과상기롤회전축의내부를연결하는적어도하나씩의내부유입유로및 내부배출유로; 상기롤회전축과구동원을연결하면서중심에외부배출구가관통되어있는조인트블록; 상기롤회전축의내부에마련되어상기외부배출구와상기내부배출유로를연결하는배출연결유로를형성하며, 중심에상기외부배출구와동축선상에위치하는유입관삽입구가형성되어있는로터리블록; 상기외부배출구와상기유입관삽입구에삽입되어외부로부터열교환유체를상기롤회전축내부로공급하는유입관;을포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 막형성장치의구성에서기재히팅을위한별도의구성을구비할필요가없는막 형성장치용롤이제공된다. 또한, 롤의기능적특성저하를방지함과동시에열교환유체의소모량을줄일수 있는막 형성장치용롤이제공된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种成膜装置用卷筒，其特征在于，包括：辊本体，其包括中空内管和围绕所述内管周围的外管，具有使所述热交换流体循环的空间; 联接到辊体的中心的中空管状辊旋转轴; 至少一个内部入口通道和内部出口通道，其连接所述空间以使所述辊旋转轴的轴线方向的两侧上的热交换流体和所述辊旋转轴的内部循环; 连接所述辊旋转轴和驱动源的接头块，其中外部出口穿过所述接头块的中心; 旋转块，布置在辊旋转轴内部，以形成连接外部出口和内部出口通道的出口连接通道，其中位于与外部出口的同轴线上的入口管插入孔形成在中心 的旋转块; 以及插入外部出口的入口管和入口管插入孔，以从辊旋转轴的外部向内部供应热交换流体。 因此，本发明提供一种用于成膜装置的辊，其不必包括用于加热基材的任何单独的部件。 此外，可以防止辊的功能特征的脱落，并且能够降低热交换流体的消耗。

公开(公告)号：KR200478365Y1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：KR2020130008414

申请日：2013-10-14

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대 ,  정성훈

IPC: H01L21/02

Abstract: 본고안은기판처리시스템의상호인접하는양측챔버를연결하는연결어댑터에관한것으로서, 상기양측챔버의기판배출구및 기판유입구둘레에각각결합되며, 중앙영역에기판통과구가형성되어있는한 쌍의플랜지부; 상기양 플랜지부사이에상기기판통과구를둘러싸도록개재되어양 단부가상기양 플랜지부에연결되고, 중간부분에접힘및 전개되는접힘단이형성되어있으며, 상기양 플랜지부의거리및 평면적위치조절이가능한가변연결부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 인접하는양측챔버간의위치및 거리오차를용이하게보정함과동시에, 연결형태의변형을최소화하여기판이동을저해하지않는기판처리시스템의챔버연결어댑터가제공된다. 또한, 양챔버의상호대향하는기판출입구및 배출구간의평면적위치오차의보정이매우용이함과동시에, 구조를간단히하고제작단가를현격하게절감할수 있는기판처리시스템의챔버연결어댑터가제공된다.

公开(公告)号：KR101555246B1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：KR1020140016468

申请日：2014-02-13

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  권오대

IPC: C23C16/50

Abstract: 본발명은플라즈마화학기상장치용전극에관한것으로서, 중공체로마련되는내부관; 상기내부관의둘레를열교환유체수용공간을두고둘러싸는외부관; 상기내부관에수용되는적어도하나의자기장발생부재를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 자기장발생부재의손상및 기능적특성저하를방지함과동시에, 열교환유체소모량을줄일수 있는플라즈마화학기상장치용전극이제공된다.

公开(公告)号：KR1020150093316A

公开(公告)日：2015-08-18

申请号：KR1020140013920

申请日：2014-02-07

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  정성훈 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대

IPC: B65H35/04 ,  B65H23/02 ,  B65H20/02

CPC classification number: B65H35/04 ,  B65H2301/51512 ,  B65H2301/5153

Abstract: 본 발명은 연질의 기재가 감아 도는 롤의 인접 영역에 마련되어 상기 기재의 커팅을 가이드하는 롤커팅가이더에 관한 것으로서, 상기 롤의 중심축 길이 방향의 적어도 일 측에 착탈 가능하게 결합되는 축결합부와, 상기 축결합부로부터 상기 중심축의 반경 방향으로 연장되는 커팅가이드지지부를 갖는 축지지부재; 상기 중심축에 평행하게 배치되도록 상기 커팅가이드지지부에 결합되며, 상기 기재를 향하는 측에 길이방향을 따라 커팅가이드홈이 형성되어 있는 커팅가이드부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 롤투롤 형태의 기재 이송 장치의 기재 이송 구간 중 임의의 선택된 영역에서 기재를 커팅할 수 있는 범용적인 호환성을 갖는 롤커팅가이더가 제공된다.
또한, 롤투롤 형태의 기재 이송 장치의 신규 제작 장치 또는 기존 장치 모두에 대해 범용적인 호환성을 갖는 롤커팅가이더가 제공된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种在与其上缠绕有柔性衬底的辊相邻的区域中制备的辊切割导向器，以引导衬底的切割。 根据本发明，辊切割导向器包括：轴支撑构件，其包括组合在所述辊的中心轴的纵向方向上的至少一个侧面上的轴组合部分，以及延伸到 所述中心轴从所述轴组合部的径向方向; 以及与所述切割引导件支撑部件组合的切割引导部件，所述切割引导件支撑部件与所述中心轴平行布置，所述中心轴在纵向方向上具有切割引导槽朝向基板。 本发明具有以下的效果：在基板转印装置的基板转印部分中以与卷筒对卷形式相对应的新型制造装置或现有装置具有通用兼容性的随机选择区域中的基板 以卷对卷形式的基片传送装置。

公开(公告)号：KR1020150081726A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：KR1020140001490

申请日：2014-01-06

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대

IPC: C23C14/35 ,  H01L21/203

Abstract: 기재의증착대상면에박막을증착하는원통형스퍼터링캐소드장치및 이를이용한박막증착방법에관한것으로서, 외주면에타겟을가지고상호평행하게이격배치된적어도한 쌍의원통형타겟조립체; 상기각 타겟조립체내부에마련되며, 상기타겟조립체의축선을중심으로미리설정된회전각범위로회전가능한마그네트조립체; 상기타겟조립체를회전시키며, 상기마그네트조립체를회전및 회전위치유지시키는구동수단; 상기박막의증착과정에서증착두께별로미리설정된적어도 2단계의증착단계에따라상기마그네트조립체의회전각을미리설정된상기증착단계별회전각을갖도록상기구동수단의구동을제어하는제어부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 기재의재질이한정되지않고, 기재및 초기증착층이플라즈마에의한데미지를입지않으면서고속으로안정적인박막증착이가능한원통형스퍼터링캐소드장치및 이를이용한박막증착방법이제공된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种圆柱形溅射阴极器件，在基材的沉积靶表面上沉积薄膜，以及通过使用该薄膜沉积薄膜的方法。 该装置包括彼此平行分离的一对圆柱形目标组件; 放置在每个目标组件中并且以旋转角度范围围绕目标组件的轴线旋转的磁体组件; 操作单元旋转目标组件，并将目标组件保持在旋转位置; 以及控制部分，其控制所述操作单元的操作，以使所述目标组件的旋转角度根据至少两级的沉积程度，通过沉积层级而成为旋转角度，所述至少两层的沉积程度根据沉积薄膜的过程期间的沉积厚度而预先设定 电影。 因此，提供了一种圆柱形溅射阴极器件和通过使用它的沉积薄膜的方法，其能够稳定地沉积薄膜而不会损坏等离子体到基底材料和初始沉积层，而不限制基底材料 。

公开(公告)号：KR1020150054119A

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：KR1020130136121

申请日：2013-11-11

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대 ,  정성훈

IPC: H01L21/673 ,  B65D85/86

CPC classification number: H01L21/67309

Abstract: 본발명은스토커에수직방향으로복수가적층되며, 상기스토커의피커구동에의해수직방향으로이동가능한스토커용기판트레이에관한것으로서, 동일평면상에서상호수평방향으로평행하게이격배치되는복수의트레이바아로이루어지되; 상기각 트레이바아는바아형상의기판지지바아와, 상기기판지지바아의길이방향양 단부에마련되어상기피커에걸림및 걸림해제되는피커커넥터를갖는것을특징으로한다. 이에의해, 기판의적재간격을최소화여다량의기판들을적재할수 있고, 기판의적재및 인출방향이양방향으로이루어질수 있는스토커용기판트레이가제공된다.

Abstract translation: 一种用于储料器的基板托盘，其多个垂直地堆叠在加料机上并且可以通过推料器的拾取器驱动而垂直移动，以最小化装载基板的间隔，加载多个基板，以及加载和 在两个方向上移除基板。 本发明的用于储料器的基片托盘包括：在同一平面上横向和横向放置的多个托盘杆。 每个托盘杆包括：条形基板支撑杆; 以及拾取器连接器，其位于基板支撑杆的长度方向的两端，并被拾取器捕获或释放。

公开(公告)号：KR1020150021251A

公开(公告)日：2015-03-02

申请号：KR1020130098373

申请日：2013-08-20

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  권오대

IPC: C23C16/509 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/509 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32669 ,  C23C16/513

Abstract: 본 발명은 경질의 기재를 공정 처리 대상으로 하는 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공공간을 형성하는 진공챔버; 상기 진공공간에 마련되어 상기 공정 수행 과정에서 상기 기재를 공급 측에서 배출 측으로 적재 이송시키는 적재이송부; 상기 기재의 공정 대상면의 반대면에 인접 배치되는 전극; 상기 전극으로 전원을 공급하는 전원공급부; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 기재의 공정 대상면 측으로 공정가스를 공급하는 가스공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 경질의 기재를 이송시키면서 그 표면에 고품질 성막이나 식각 또는 표면 처리 공정 중 어느 한 공정을 고속으로 수행할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.

Abstract translation: 本发明涉及具有硬质基材作为被处理物的等离子体化学气相装置。 等离子体化学气相装置包括形成真空空间的真空室; 设置在真空空间中的堆叠和传送单元，用于在执行该过程的同时将基材从供给侧堆叠并转移到排出侧; 邻接地设置在待处理基材表面的相对表面上的电极; 电源单元，向所述电极供电; 真空控制单元，控制真空室内的真空度; 以及将处理气体朝向基材的待处理表面供给的气体供给单元。 因此，提供能够在输送硬质材料的同时在硬质材料的表面上进行高质量成膜，蚀刻或表面处理工序中的一个工序的等离子体化学气相装置。

公开(公告)号：KR101494223B1

公开(公告)日：2015-02-17

申请号：KR1020130010854

申请日：2013-01-31

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  권오대

IPC: C23C16/503 ,  C23C16/505 ,  H01L21/31 ,  H05H1/34

Abstract: 본 발명은 기재에 박막을 증착하기 위한 플라즈마를 발생??는 원통형 플라즈마 캐소드 장치에 관한 것으로서, 상호 평행하게 이격 배치되며 회전 가능한 적어도 한 쌍의 원통형 전극; 상기 원통형 전극 내부에서 상기 원통형 전극과는 독립적으로 회전 가능하게 마련되는 자기장 발생부재; 상기 원통형 전극 외측에 회동 가능하게 마련되어 상기 기재가 상기 플라즈마에 노출되는 영역을 조절하는 회동쉴드커버유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 플라즈마에 의한 기재 손상 및 박막의 특성열화를 방지하는 저손상 성막과 플라즈마 손상과 무관한 일반 성막을 간편하게 변경할 수 있는 원통형 플라즈마 캐소드 장치가 제공된다.
또한, 다양한 재질의 기재에 안정적이고 고품질의 박막 증착이 가능하면서, 성막속도의 조절이 가능하고, 진공챔버의 오염을 방지할 수 있는 원통형 플라즈마 캐소드 장치가 제공된다.
또한, 장치의 제작비용을 절감하고 생산성 및 작업편의성을 현격하게 상승시킬 수 있는 원통형 플라즈마 캐소드 장치가 제공된다.