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公开(公告)号：KR100906508B1
公开(公告)日：2009-07-07
申请号：KR1020080055066
申请日：2008-06-12
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
Abstract: A 3D measurement system using digital holography is provided to improve measuring speed and lateral resolution and to minimize the test space for reflective sample. A 3D measurement system using digital holography comprises a first wave plate(30) which performs right-hand circular polarization of the beam linearly polarized by 45°, a beam separation/composition unit(20) dividing the polarized beam into a reference beam and a measurement beam, a second wave plate(31) making the reference beam of P-type waveform and the reference beam of S-type waveform with a phase difference of 90° incident to the beam separation/composition unit, a first polarizer(32) making the measurement beam of P-type waveform and the measurement beam of S-type waveform with a phase difference of 0° incident to the beam separation/composition unit, and interference beam separation units(40) separating an interference beam from the beam separation/composition unit into first and second interference beam.
Abstract translation: 提供了使用数字全息术的3D测量系统，以提高测量速度和横向分辨率，并使反射样品的测试空间最小化。 使用数字全息术的3D测量系统包括执行线偏振45°的光束的右旋圆偏振的第一波片（30），将偏振光束分成参考光束的光束分离/合成单元（20） 测量光束，使得P型波形的参考光束和入射到光束分离/合成单元的90°的相位差的S型波形的参考光束的第二波片（31），第一偏振器（32） 使P型波形的测量光束和入射到光束分离/合成单元的相位差为0°的S型波形的测量光束，以及将干涉光束与光束分离分离的干涉光束分离单元（40） /组合单元转换成第一和第二干涉光束。
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公开(公告)号：KR100838586B1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：KR1020070104273
申请日：2007-10-17
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
CPC classification number: G03B35/24 , G02B27/2292 , G02B27/28 , G03H1/0005 , G03H1/0443
Abstract: A 3D measurement apparatus using digital holography and a 3D measurement method thereof are provided to solve a measurement speed problem of an on-axis method and a horizontal resolution problem of an off-axis method. A 3D measurement apparatus using digital holography includes first and second imaging units(23,24), a beam source(10), a beam splitter(13), a first wave plate(18), a prism unit(19), and a second wave plate(20). The beam splitter splits the beam emitted from the beam source into reference beam and measuring beam to enter a reference surface(3) and a measurement object(1) respectively. The first wave plate polarizes the reference beam and the measuring beam to right circularly polarized beam and left circularly polarized beam so that the reference beam and the measuring beam interfere with each other to form interference beam. The prism unit splits the interference beam into first interference beam and second interference beam with a phase difference of 180 degrees. The second wave plate is interposed between one of the first and second imaging units and the prism unit and delays a phase of one of the first interference beam and the second interference beam so that the first interference beam and the second interference beam have a phase difference of 90 degrees.
Abstract translation: 提供了使用数字全息术的3D测量装置及其3D测量方法来解决轴上方法的测量速度问题和离轴方法的水平分辨率问题。 使用数字全息术的3D测量装置包括第一和第二成像单元（23,24），光束源（10），分束器（13），第一波片（18），棱镜单元（19）和 第二波片（20）。 分束器将从光束源发射的光束分成参考光束和测量光束，分别进入参考表面（3）和测量对象（1）。 第一波片将参考光束和测量光束偏振到右圆偏振光束和左圆偏振光束，使得参考光束和测量光束彼此干涉以形成干涉光束。 棱镜单元将干涉光束分成第一干涉光束和第二干涉光束，相位差为180度。 第二波片介于第一和第二成像单元之一和棱镜单元之间，并且延迟第一干涉波束和第二干涉波束之一的相位，使得第一干涉波束和第二干涉波束具有相位差 90度。
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公开(公告)号：KR100747044B1
公开(公告)日：2007-08-07
申请号：KR1020050004237
申请日：2005-01-17
Applicant: (주)펨트론
Abstract: 본 발명은 두께 및 형상 측정 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 두께 및 형상 측정 시스템은 광을 방출하는 광원과; 입사되는 광의 경로에 대한 수직 방향에 대해 소정 각도 기울어져 배치되는 기준 미러와; 상기 광원으로부터의 상기 광을 측정 대상물 및 상기 기준 미러로 분리 조사하는 광 분할부와, 상기 기준 미러와 상기 광 분할부 사이에 배치되어 소정의 간섭 파장 범위의 광을 투과하는 간섭 필터를 갖는 광 간섭모듈과; 상기 간섭 파장 범위를 포함하는 파장 분산 범위를 가지며, 상기 측정 대상물로부터 반사되는 광과 상기 기준 미러로부터 반사되는 광을 분광하는 분광부와; 상기 분광부에 의해 분광된 광이 결상되는 결상부와; 상기 결상부에 결상된 광의 파장 범위 중 상기 간섭 파장 범위를 제외한 파장 범위의 광에 기초하여 상기 측정 대상물의 두께에 대한 정보를 산출하고, 상기 산출된 두께에 대한 정보와 상기 결상부에 결상된 광 중 상기 간섭 파장 범위 내의 광에 기초하여 공간-캐리어 위상 측정법(Spatial-carrier phase measurement methods)에 따라 상기 측정 대상물의 형상에 대한 정보를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 두께 및 형상을 측정하는데 소요되는 시간을 감소시키면서도 제조 비용을 절감할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种厚度和形状测量系统。 根据本发明的厚度和形状测量系统包括：发光的光源; 参考反射镜，相对于入射光的路径相对于垂直方向成角度地设置; 光分被设置在分割和参考反射镜和分割光学干涉已被测定，其用于照射来自光源的光分离到物体透射光的预定干扰波长范围内的干涉滤波器的光与参照反射镜之间 一个模块; 具有包括所述干涉波长范围的波长色散范围并用于分离从所述测量对象反射的光和从所述参考反射镜反射的光的光谱部分; 图像形成单元，用于由分光单元形成光束; 光范围成像到上述结果的波长的基础上，具有的波长范围以外的干扰波范围计算关于所述对象的厚度信息光的被测定，并且所述信息和所述光形成以上的结果为计算出的厚度的图像 以及控制器，用于基于干涉波长范围内的光根据空间载波相位测量方法计算关于测量对象的形状的信息。 因此，可以减少测量厚度和形状所需的时间，同时降低制造成本。
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公开(公告)号：KR100681884B1
公开(公告)日：2007-02-12
申请号：KR1020060013878
申请日：2006-02-13
Applicant: (주)펨트론
IPC: G01B11/24
Abstract: An apparatus for measuring surface profile and a control method thereof are provided to extend an exchange period of a light source and reduce the whole measurement time by allowing more than two photographing units to photograph interference light alternately. In an apparatus for measurement of a surface profile, a light source(10) emits light. A first light dividing unit(50a) makes the light of the light source face an object(1). A light interference module(20) irradiates light to the object by the light of the first light dividing unit, and forms interference light on the basis of the light reflected by the object. A first photographing unit(40a) photographs the interference light emitted from the light interference module. At least one second photographing unit(40b) photographs the interference light emitted from the light interference module. A second light dividing unit(50b) divides the interference light emitted from the light interference module and passing through the first light dividing unit to face the first and second photographing units. A transporting unit(30) adjusts a gap between the light interference module and the object. A control unit(60a) receives information about the gap from the transporting unit, makes the first and second photographing units alternately photograph the interference light under a condition of synchronizing an alternate photographing timing of the first and second photographing units with an on timing of the light source on the basis of the information about the gap between the light interference module and the object.
Abstract translation: 提供了一种测量表面轮廓的设备及其控制方法，以通过允许多于两个拍摄单元交替地拍摄干涉光来延长光源的交换周期并减少整个测量时间。 在用于测量表面轮廓的设备中，光源（10）发光。 第一分光单元（50a）使光源的光面向物体（1）。 光干涉模块（20）通过第一分光单元的光向对象照射光，并且基于由对象反射的光形成干涉光。 第一拍摄单元（40a）拍摄从光干涉模块发出的干涉光。 至少一个第二拍摄单元（40b）拍摄从光干涉模块发出的干涉光。 第二分光单元（50b）将从光干涉模块发出并穿过第一分光单元的干涉光分开以面对第一和第二拍摄单元。 传送单元（30）调整光干涉模块和物体之间的间隙。 控制单元（60a）从传送单元接收关于间隙的信息，使得第一和第二拍摄单元在使第一和第二拍摄单元的交替拍摄定时同步的条件下交替地拍摄干涉光， 基于光干涉模块与物体之间的间隙的信息来确定光源的位置。
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公开(公告)号：KR100598572B1
公开(公告)日：2006-07-07
申请号：KR1020050070290
申请日：2005-08-01
Applicant: (주)펨트론
IPC: G01B11/24
Abstract: 본 발명은 표면형상 측정장치 및 그 제어방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면형상 측정장치는 광을 방출하는 광원과; 상기 광원으로부터의 광을 상기 측정 대상물로 향하게 하는 광 분할부와; 상기 광 분할부로부터의 광을 상기 측정 대상물에 조사하고, 상기 측정 대상물로부터 반사되는 광에 기초하여 간섭광을 형성하는 광 간섭모듈과; 상기 광 간섭모듈과 상기 측정 대상물 간의 이격 거리를 조절하는 이송유닛과; 상기 광 간섭모듈로부터의 상기 간섭광이 촬상되는 촬상부와; 상기 이송유닛으로부터 상기 이격 거리에 대한 정보를 제공받고, 상기 이격 거리에 대한 정보에 기초하여 상기 광원의 온 타이밍과 상기 촬상부의 촬상 타이밍을 동기시키는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는데 보다 정밀한 측정이 가능하고, 측정 시간을 단축할 수 있다.
Abstract translation: 表面形状测量设备及其控制方法技术领域本发明涉 根据本发明的表面形状测量设备包括：发射光的光源; 分光单元，用于将来自光源的光引导至待测物体; 光干涉模块，其将来自所述分光部的光照射到所述测定对象物上，基于来自所述测定对象物的反射光形成干涉光; 传送单元，用于调节光学干涉模块与待测量对象之间的距离; 成像单元，用于成像来自光学干涉模块的干涉光; 以及控制单元，用于接收关于与传送单元的分离距离的信息，并且用于基于关于分离距离的信息来同步光源的开启时刻和成像单元的成像时刻。 因此，可以在测量测量对象的表面形状时进行更精确的测量，并且可以缩短测量时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101005179B1
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：KR1020090004976
申请日：2009-01-21
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 광학적 간섭을 이용한 OCD 측정 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 OCD 측정 방법은 (a) 백색광을 조사하는 단계와; (b) 상기 백색광을 상호 편광 방향이 수직인 TE 편광과 TM 편광 방향에 대해 45°기울어진 방향으로 선형 편광시키는 단계와; (c) 상기 선형 편광된 백색광이 상기 측정 대상물 및 기준 미러로부터 각각 반사된 측정광과 기준광이 상호 간섭되어 간섭광이 형성되는 단계와; (d) 상기 간섭광이 상기 TE 편광 성분과 상기 TM 편광 성분으로 분리되는 단계와; (e) 상기 TE 편광 성분 및 상기 TM 편광 성분이 각각 제1 스펙트로메터 및 제2 스펙트로메터에 입력되는 단계와; (f) 상기 입력된 TE 편광 성분 및 상기 입력된 TM 편광 성분으로부터 각각 TE 스펙트럼 데이터 및 TM 스펙트럼 데이터를 추출하여 상기 TE 편광 성분 및 상기 TM 편광 성분 각각에 대한 진폭 정보 및 위상 정보를 추출하는 단계와; (g) 상기 추출된 진폭 정보 및 상기 추출된 위상 정보를 RCWA(Rigorous coupled-wave analysis) 기법에 적용하여 상기 RCWA 기법 상의 진폭 비율(Ψ) 및 위상차(Δ)를 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 한 번의 촬영(Single shot)으로 SE(Spectroscopic Ellipsometer) 파라미터인 Ψ 및 Δ가 동시에 획득되도록 하여 측정 속도를 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR101005161B1
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：KR1020090006775
申请日：2009-01-29
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복굴절 측정 장치는 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대하여 45°기울어진 편광 방향을 갖는 선형 편광 빔을 생성하는 광원부와; 상기 광원부로부터의 상기 선형 편광 빔을 측정 빔 경로와 기준 빔 경로로 분할하여 출력하는 제1 빔 스플리터와; Off-axis 방식이 적용 가능하도록 상기 기준 빔 경로에 대해 기울어져 배치된 기준 미러와; 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러에 의해 반사되도록 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 기준 미러 방향으로 향하게 하는 제2 빔 스플리터와; 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하도록 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 측정 대상물 방향으로 반사시키는 반사 미러와; 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러로부터 반사되어 형성된 기준빔 및 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하여 형성된 측정빔을 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부 방향으로 분할하여 출력하기 위한 제3 빔 스플리터와; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 측정빔 및 상기 기준빔 간의 간섭에 의해 형성된 간섭광 중 수직 편광 성분을 통과시켜 상기 제1 촬상부로 출력하는 수직 편광판과; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 간섭광 중 수평 편광 성분을 통과시켜 상기 제2 촬상부로 출력하는 수평방향 선편광판; 상기 제1 촬상부에 의해 촬상된 상기 수직 편광 성분과 상기 제2 촬상부에 의해 촬상된 상기 수평 편광 성분 각각에 대해 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피 해석 방식이 적용되어 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 위상 정보와 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 위상 정보가 추출하고, 상기 수직 편광 위상 정보 및 상기 수평 편광 위상 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절의 크기를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR1020100095775A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：KR1020090014764
申请日：2009-02-23
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: A camera aligning method for aligning two cameras applied to an optical system for 3D measurement is provided to remove in-plane mis-alignment and out-of-plane misalignment occurring between two cameras with 6 degrees of freedom. CONSTITUTION: The first camera(51) photographs a hologram about a vertical polarizing element of interference light. The second camera(52) photographs a hologram about a horizontal polarizing element of the interference light. In-plane mis-alignment and out-of-plane misalignment between the first and second cameras are aligned using a correlation technique for a pair of holograms.
Abstract translation: 目的：提供一种用于对准应用于三维测量光学系统的两台摄像机的摄像机对准方法，以消除在6个自由度的两台摄像机之间发生的平面内错误对准和平面外失准。 构成：第一台相机（51）拍摄一幅关于干涉光垂直偏振元件的全息图。 第二相机（52）拍摄关于干涉光的水平偏振元件的全息图。 使用一对全息图的相关技术来对齐第一和第二相机之间的平面内错误对准和平面外的未对准。
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公开(公告)号：KR1020100085595A
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：KR1020090004976
申请日：2009-01-21
Applicant: (주)펨트론 , 전북대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: An optical critical dimension metrology method and an apparatus using a spectral interferometry are provided to increase measuring speed while obtaining SE parameter through one single shot. CONSTITUTION: A first spectrometer(16) and a second spectrometer(17) are arranged. A light source(10) projects the white light. A polariscope(12) polarizes the white light from the light source to a TM polarizer and a direction of 45 degrees from the TM polarizer. A beam splitter(13) makes a polarized linear white light to a measurement object. An OCD interferometer(14) forms a light interference with a measured light reflected from the target and a reference light reflected from a reference mirror.
Abstract translation: 目的：提供光学关键尺寸测量方法和使用光谱干涉测量的装置，以通过一次拍摄获得SE参数来提高测量速度。 构成：布置第一光谱仪（16）和第二光谱仪（17）。 光源（10）投射白光。 偏振器（12）将来自光源的白光偏振到TM偏振器，并且与TM偏振器成45度的方向。 分束器（13）对测量对象产生偏振线性白光。 OCD干涉仪（14）与从目标反射的测量光和从参考反射镜反射的参考光形成光干涉。
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公开(公告)号：KR100699317B1
公开(公告)日：2007-03-23
申请号：KR1020050008523
申请日：2005-01-31
Applicant: (주)펨트론
Abstract: 본 발명은 두께 및 형상 측정 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 두께 및 형상 측정 시스템은 광을 방출하는 광원과; 기준 미러와, 상기 광원으로부터의 광을 측정 대상물 및 상기 기준 미러로 분리 조사하는 광 분할부와, 상기 기준 미러와 상기 광 분할부 사이에 배치되어 다 파장 범위의 광을 투과하는 간섭 필터를 갖는 광 간섭모듈과; 상기 다 파장 범위를 포함하는 파장 분산 범위를 가지며, 상기 측정 대상물로부터 반사되는 광과 상기 기준 미러로부터 반사되는 광을 분광하는 분광부와; 상기 분광부에 의해 분광된 광이 결상되는 결상부와; 상기 결상부에 결상된 광의 파장 범위 중 상기 다 파장 범위를 제외한 파장 범위의 광에 기초하여 상기 측정 대상물의 두께에 대한 정보를 산출하고, 상기 산출된 두께에 대한 정보와 상기 결상부에 결상된 광 중 상기 다 파장 범위 내의 광에 기초하여 상기 측정 대상물의 형상에 대한 정보를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 두께 및 형상을 측정하는데 소요되는 시간을 감소시키면서도 제조 비용을 절감할 수 있다.
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