표면형상 측정장치
    1.
    发明申请
    표면형상 측정장치 审中-公开
    用于测量表面轮廓的装置

    公开(公告)号:WO2009142390A2

    公开(公告)日:2009-11-26

    申请号:PCT/KR2009/001611

    申请日:2009-03-30

    CPC classification number: G01B11/24 G01B11/2509 G01N21/956 G01N2021/95638

    Abstract: 본 발명은 측정대상물의 표면의 2D 이미지를 촬상하는 표면형상 측정장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면형상 측정장치는 제1 단색광을 상기 측정대상물의 표면에 조사하는 제1 광원과; 상기 제1 단색광과 상이한 색상의 제2 단색광을 상기 측정대상물의 표면에 조사하는 제2 광원과; 상기 제1 광원 및 상기 제2 광원으로부터 조사되어 상기 측정대상물의 표면으로부터 반사된 상기 제1 단색광 및 상기 제2 단색광을 촬상하는 흑백 카메라와; 상기 제1 단색광 및 상기 제2 단색광이 상기 측정대상물의 표면에 각각 조사되는 상태에서 상기 제1 단색광 및 상기 제2 단색광에 각각 대응하는 제1 흑백 이미지 데이터 및 제2 흑백 이미지 데이터가 획득되도록 상기 제1 광원, 상기 제2 광원 및 상기 흑백 카메라를 제어하며, 상기 제1 흑백 이미지 데이터 및 상기 제2 흑백 이미지 데이터를 이용하여 상기 측정대상물의 표면에 대한 합성 컬러 이미지를 생성하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 저비용의 흑백 카메라를 이용하여 컬러 2D 이미지를 획득 가능하게 되고, 컬러 카메라보다 처리 속도가 빠른 흑백 카메라를 이용함으로써 처리 속도 또한 향상시킬 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于测量表面轮廓的装置,其检测待测物体的表面的二维图像。 本发明包括将第一单色光照射到待测量物体的表面上的第一光源,将与所述第一光源不同的单色的第二单色光照射到所述第一光源的表面上的第二光源 要测量的对象,以及感测由所述第一和第二光源照亮的被测量物体的表面反射的所述第一单色光和所述第二单色光的单色相机。 它还包括控制单元,其控制所述第一光源,所述第二光源和所述单色相机以分别响应于所述第一单色光获得第一和第二单色图像数据,并且所述第二单色光源分别照射到 所述待测量对象被使用所述第一和第二单色图像数据生成所述要测量对象的表面的复合彩色图像。 因此,可以使用低成本的单色相机获得2-D彩色图像,并且通过使用具有比彩色照相机更高的处理速度的单色相机来提高处理速度。

    CT 검사 장치
    2.
    发明申请
    CT 검사 장치 审中-公开

    公开(公告)号:WO2023063551A1

    公开(公告)日:2023-04-20

    申请号:PCT/KR2022/011789

    申请日:2022-08-08

    Applicant: (주)펨트론

    Abstract: 본 발명은 CT 검사 장치에 관한 것으로, 검사 대상에 대해 N 장의 프로젝션 영상을 촬영하는 CT 촬영부와, 상기 CT 촬영부에 의해 촬영된 N장의 상기 프로젝션 영상을 입력받아 상기 검사 대상에 대한 CT 단층 영상을 출력하는 인공지능 기반의 AI 모델을 갖는 CT 영상 생성부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 적은 수의 프로젝션 영상, 예를 들어 4장의 프로젝션 영상의 촬영 만으로 높은 화질과 해상력을 갖는 CT 단층 영상을 생성할 수 있다.

    인쇄회로기판 상의 컨포멀 코팅 검사 장치

    公开(公告)号:KR1020180085424A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:KR1020170008882

    申请日:2017-01-18

    Applicant: (주)펨트론

    Inventor: 조철훈 이창준

    CPC classification number: G01B11/0616 G06F17/10 H04N5/225 H05K3/282

    Abstract: 본발명은인쇄회로기판상의컨포멀코팅검사장치에관한것으로, 상기인쇄회로기판에광을조사하는조명모듈과, 광이조사된상기인쇄회로기판을촬영하는카메라모듈과, 상기카메라모듈에의해촬영된영상의각 픽셀데이터를색도좌표계상의색좌표데이터로변환하는색좌표변환부와, 상기색좌표데이터의좌표평균값을산출하고, 상기좌표평균값이기 설정된기준범위를벗어나는경우상기컨포멀코팅의불량으로판단하는양불판단부와, 상기조명모듈이적색광, 녹색광및 UV 광을선택적으로조사하도록상기조명모듈을제어하고, 상기조명모듈이적색광, 녹색광및 UV 광을각각조사할때 상기카메라모듈이상기인쇄회로기판을각각촬영하도록제어하는메인제어부를포함하고; 각각의상기픽셀데이터는적색광에대응하여촬영된적색데이터와, 녹색광에대응하여촬영된녹색데이터와, UV 광에대응하여촬영된 UV 데이터를포함하는것을특징으로한다. 이에따라, 인쇄회로기판의검사영역으로부터컬러데이터및 UV 데이터를포함하는픽셀데이터를획득하고, 픽셀데이터를색도좌표계상의색좌표데이터로변환하여검사영역의각 픽셀의색좌표데이터의평균값을이용하여컨포멀코팅의불량여부를판단함으로써, 코팅영역과코팅이되지않은영역간의대조(Contrast)의차이가명확하지않은경우에도보다정확한검사가가능하게된다.

    SPI 데이터 관리 시스템
    4.
    发明公开
    SPI 데이터 관리 시스템 无效
    SPI数据管理系统

    公开(公告)号:KR1020140116721A

    公开(公告)日:2014-10-06

    申请号:KR1020130031640

    申请日:2013-03-25

    Applicant: (주)펨트론

    Inventor: 김민욱 강상형

    CPC classification number: G06Q50/04 G05B19/4183

    Abstract: The present invention relates to an SPI data management system. According to the present invention, the system comprises: a local client to collect and transmit inspection data from an SPI device; and a central processor which builds a database by receiving the inspection data from the local clients, and derives the operation information of a production line corresponding to the SPI device interacting with each local client by analyzing the database. The analyzed data collected from the SPI device is collected and integrally managed, and a process result of the production line can be provided.

    Abstract translation: 本发明涉及一种SPI数据管理系统。 根据本发明,该系统包括:本地客户端从SPI设备收集和发送检查数据; 以及通过从本地客户端接收检查数据构建数据库的中央处理器,通过分析数据库,得出与每个本地客户端交互的SPI设备相应的生产线的操作信息。 从SPI设备收集的分析数据被收集并整体管理,并且可以提供生产线的处理结果。

    전자빔얼라인먼트 조정장치 및 이를 이용한 전자빔얼라인먼트 조정방법
    5.
    发明授权
    전자빔얼라인먼트 조정장치 및 이를 이용한 전자빔얼라인먼트 조정방법 有权
    用于控制电子束辐照器对准的装置及其方法

    公开(公告)号:KR101416559B1

    公开(公告)日:2014-07-10

    申请号:KR1020130127683

    申请日:2013-10-25

    Applicant: (주)펨트론

    Abstract: According to an embodiment of the present invention, a device for adjusting the alignment of electronic beams includes: an electronic beam radiating body which is installed in the upper part of a chamber to be connected to the chamber in which a sample is placed and has a hollow shape; an electronic gun which includes an electronic beam radiation member installed inside the electronic beam radiating body and radiating electronic beams to the sample and a guide tube for guiding electronic beams; and a beam alignment unit which includes a first quadrupole unit made up of a plurality of first polar bobbins which are placed separately in a radial shape with regular intervals frame each other from the guide tube and on the outer circumferential surface of which coils are wound and a second quadrupole unit made up of a plurality of second polar bobbins which are placed separately in a radial shape with regular intervals from each other and in parallel to the first polar bobbins in two lines and on the outer circumferential surface of which coils are wound. The beam alignment unit adjusts the alignment of electronic beams to radiate electronic beams passing through the guide tube by first repulsion force among the first polar bobbins and second repulsion force among the second polar bobbins on the same line with the central axis of the guide tube, when current is applied to the first and the second quadrupole unit.

    Abstract translation: 根据本发明的实施例,用于调整电子束对准的装置包括:电子束辐射体,其安装在室中的上部,以连接到放置样品的室,并具有 中空形状; 电子枪,其包括安装在电子束辐射体内部并将电子束辐射到样品的电子束辐射构件和用于引导电子束的引导管; 以及光束对准单元,其包括由多个第一极坐标轴组成的第一四极单元,所述第一极坐标线圈分别以径向形状放置,与所述导管和所述线圈的外周表面相互间隔规则间隔地卷绕, 第二四极单元,其由多个第二极性线轴组成,所述第二极性线轴分别以径向形状彼此间隔开并且平行于两条线中的第一极性线轴并且缠绕在其外圆周表面上。 光束对准​​单元调整电子束的对准,以使第一极轴中的第一排斥力和第二极轴之间的第二排斥力与引导管的中心轴线在同一直线上,通过引导管辐射电子束, 当电流施加到第一和第二四极单元时。

    진공 모드 전환 전자빔 조사장치
    6.
    发明授权
    진공 모드 전환 전자빔 조사장치 有权
    用于转移真空模式的电子束辐射器

    公开(公告)号:KR101413683B1

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:KR1020120097121

    申请日:2012-09-03

    Applicant: (주)펨트론

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 모드 전환 전자빔 조사장치는 내부에 시료가 안착되는 공간이 마련되고, 공간과 연통되는 구조를 가진 컬럼이 설치된 챔버; 챔버의 공간과 연통가능하게 챔버의 일측에 설치된 밸브본체와, 밸브본체의 내부에 설치된 개폐밸브가 구비된 밸브부; 제 2 공기관에 의해 밸브본체에 연결되어, 챔버의 내부압력이 고진공압력이 되도록 챔버 내부의 공기를 흡입하는 제 1 펌프; 제 3 공기관에 의해 밸브본체에 연결되고 제 4 공기관에 의해 제 1 펌프에 연결되어, 챔버의 내부압력이 저진공압력이 되도록 챔버 내부의 공기를 흡입하는 제 2 펌프; 및 밸브본체와 컬럼을 연결하는 제 1 공기관, 제 2 공기관, 제 3 공기관과, 제 1 펌프와 제 2 펌프를 연결하는 제 4 공기관이 구비된 관부를 포함하고, 개폐밸브는 제 1 펌프와 제 2 펌프의 작동시, 제 3 공기관을 폐쇄하고 제 2 공기관을 개방토록 작동되어, 챔버와 컬럼 내의 공기가 제 2 공기관을 경유하여 제 1 펌프로 흡입된 후 제 4 공기관을 경유하여 제 2 펌프로 흡입되는 제 1 흐름경로를 따라 유동되도록 하고, 제 2 펌프의 작동시, 제 3 공기관을 개방하고 제 2 공기관을 폐쇄토록 작동되어, 챔버 내의 공기가 제 3 공기관을 경유하여 제 2 펌프로 흡입되는 제 2 흐름경로를 따라 유동되도록 하는 것이 바람직하다.

    레이저 리페어 장치
    7.
    发明公开
    레이저 리페어 장치 失效
    激光修复装置

    公开(公告)号:KR1020120131526A

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:KR1020110049745

    申请日:2011-05-25

    Applicant: (주)펨트론

    Inventor: 박노중 임재우

    CPC classification number: G02F1/1309 B23K26/0054 B65G49/061 G02F1/1313

    Abstract: PURPOSE: A laser repair device is provided to transfer a display module to be inspected and a display module inspected at the same time and to reduce process time. CONSTITUTION: A display module(2) to be inspected is settled in a settling unit. A display module is settled in an unloading settling unit. A loading unit(100) successively transfers the display module in a cassette(3a,3b) to the settling unit. An unloading unit(700) unloads the display module. A rotation module of an index table(400) rotates the settling unit to be between an inspection position and a standby position. A transport module of a transfer unit(500) transfers the display module to the settling unit by first and second absorbing units. After inspection, the display module is transferred to the unloading settling unit.

    Abstract translation: 目的:提供一种激光修复装置,用于传输待检查的显示模块和同时检查的显示模块,并缩短处理时间。 构成:待检查的显示模块(2)在安置单元中结算。 显示模块安装在卸载沉降单元中。 一个加载单元(100)将显示模块依次传送到一个盒(3a,3b)中到达沉降单元。 卸载单元(700)卸载显示模块。 分度台(400)的旋转模块使沉降单元旋转在检查位置和待机位置之间。 传送单元(500)的传送模块通过第一和第二吸收单元将显示模块传送到沉降单元。 检查后,将显示模块转移到卸载沉降单元。

    노이즈 제거 효과가 향상된 주사 전자 현미경 및 그 제어방법
    8.
    发明公开
    노이즈 제거 효과가 향상된 주사 전자 현미경 및 그 제어방법 无效
    扫描电子显微镜及其改善噪声去除效果的控制方法

    公开(公告)号:KR1020110120684A

    公开(公告)日:2011-11-04

    申请号:KR1020100040210

    申请日:2010-04-29

    Applicant: (주)펨트론

    CPC classification number: H01J37/28 H01J37/3007 H01J37/302 H01J2237/28

    Abstract: PURPOSE: A scanning electron microscope and a control method thereof are provided to eliminate noise by focusing electronics which is accelerated by an electron gun module to a sample. CONSTITUTION: An electron gun module(10) accelerates electronics. The electron gun module is arranged on the upper side of the inside of housing. An electromagnetic lens module(20) focuses the electronics which is accelerated by the electron gun module to a sample. A detector module(30) detects a secondary electron which is generated from the sample. A controller(40) successively gets measurement data. The controller controls the electron gun module, the electromagnetic lens module, and the detector module and creates a measurement image about the sample.

    Abstract translation: 目的:提供扫描电子显微镜及其控制方法以通过将由电子枪模块加速的电子器件聚焦到样品来消除噪声。 构成:电子枪模块(10)加速电子学。 电子枪模块设置在壳体内侧的上侧。 电磁透镜模块(20)将由电子枪模块加速的电子器件聚焦到样品上。 检测器模块(30)检测从样品产生的二次电子。 控制器(40)连续获得测量数据。 控制器控制电子枪模块,电磁透镜模块和检测器模块,并创建关于样品的测量图像。

    표면형상 측정방법
    9.
    发明授权
    표면형상 측정방법 有权
    轮廓技术

    公开(公告)号:KR100719352B1

    公开(公告)日:2007-05-17

    申请号:KR1020040044292

    申请日:2004-06-16

    Abstract: 본 발명은 바닥면과, 상기 바닥면에 일 영역 도포된 오브젝트를 갖는 표면형상 측정방법에 있어서, 기준면을 결정하는 단계와; 상기 기준면으로부터 상기 기판의 표면까지의 제1 높이 데이터를 측정하는 단계와; 상기 바닥면 상에서 상기 오브젝트가 도포된 영역을 포함하는 관심 영역을 결정하는 단계와; 블롭 해석(Blob Analysis) 기법을 이용하여 상기 관심 영역 내에서 상기 오브젝트의 경계를 결정하는 단계와; 상기 제1 높이 데이터와, 결정된 상기 오브젝트의 경계에 기초하여 상기 기판의 표면 형상을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 기판의 표면형상을 측정하는데 있어 기판의 실제 바닥면에 대한 데이터를 반영하여 기판의 실제 바닥면에 대한 기판의 표면형상, 특히 솔더 등의 오브젝트의 형상을 보다 정확하게 측정할 수 있다.

    두께 및 형상 측정방법 및 측정장치
    10.
    发明授权
    두께 및 형상 측정방법 및 측정장치 有权
    用于测量厚度和表面轮廓的装置和方法

    公开(公告)号:KR100647493B1

    公开(公告)日:2006-11-23

    申请号:KR1020040026014

    申请日:2004-04-16

    Applicant: (주)펨트론

    Inventor: 유영웅 최영진

    Abstract: 본 발명은 두께 및 형상 측정방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 측정방법은 적어도 3 이상의 상호 상이한 파장의 광에 대해 위상 천이 간섭법을 이용하여 위상 데이터를 획득하는 단계와; 상기 위상 데이터를 분석하여 상기 박막의 두께 및 형상을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 측정시간, 측정된 데이터의 량, 측정된 데이터를 분석하기 위한 데이터의 처리시간을 현저히 감소시켜, 실제 반도체 등의 제조 공정에 용이하게 적용할 수 있다.

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