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公开(公告)号：CN107941351A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201610890674.2
申请日：2016-10-12
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
CPC classification number: G01J5/522 , G01J5/0896 , G01J2005/0048
Abstract: 一种在真空低温条件下应用的红外定标光源，该红外定标光源主要包括外壳及机械安装接口、黑体辐射面、支撑结构、真空封装窗口、供电线路，黑体辐射面置于壳体内，壳体顶部在黑体辐射膜上方留有圆形光阑，黑体辐射面与光阑所在平面平行，壳体设有用于穿过供电线路的孔，壳体外表面具有较高的发射率，内表面具有较低的发射率，黑体辐射膜正对光阑的一面作为黑体辐射面，具有高发射率，用于发射红外辐射；黑体辐射膜另一面具有低发射率，支撑结构，其采用耐高温、低热导率的陶瓷材料制成，供电线路用于为所述黑体辐射面供电，进而控制所述黑体辐射面的温度。
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公开(公告)号：CN107561008A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610515851.9
申请日：2016-07-01
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/01
Abstract: 本发明提供了一种用于真空紫外漫反射板BRDF特性测量的测量装置，包括：依次设置于光路中的标准光源、真空紫外单色分光单元、真空紫外准直光学单元、真空仓内二维旋转机构、真空紫外探测单元和控制单元。采用本发明能够对真空紫外漫反射板的双向反射分布函数进行精确测量，波段范围120nm～200nm，测量角度范围为±60°：真空度：≤1×10-3Pa，测量不确定度：≤6％(k＝2)；本发明能够及时发现真空紫外载荷设计过程中存在的缺陷，减少其研制过程中的反复，节省研制经费，缩短研制周期，避免影响整体进度的顺利开展；同时有效保证了真空紫外空间载荷获取数据的准确性，对获取准确测量数据有着重大意义。
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公开(公告)号：CN103175608B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310065834.6
申请日：2013-03-04
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及紫外-真空紫外辐射计量测试领域，具体的讲是一种紫外光源均光装置，包括复数个漫射器，驱动单元；每个所述的漫射器用于对特定波段的入射紫外光进行均光和聚焦；所述驱动单元用于根据测试的需要调节相应的漫射器位于光路中。通过本发明实施例，由于采用了工作于110nm-400nm紫外光波段范围的复数个漫射镜均光和聚焦，保证了以点光源或面光源作为紫外光源时的光谱辐照度校准既可以产生很好的余弦校正效应，又能保证系统的信噪比。
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公开(公告)号：CN105562307A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510965014.1
申请日：2015-12-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种辐射板、制备工艺及红外标准辐射装置，所述辐射板包括紫铜板基板和基板上喷涂的以掺杂6～10％碳纳米管的SiO2溶胶为底层，以掺杂6～10％碳纳米管的SiO2-PbO溶胶为顶层的双层涂层；所述辐射板制备方法包括：1)将紫铜板表面加工成粗糙表面并喷砂；2)在紫铜板的粗糙表面上喷涂溶胶底层至完全覆盖紫铜板表面；3)在底层涂层的基础上喷涂顶层涂层，4)在常温下稳定24h；所述红外标准辐射装置使用所述辐射板。该装置具有较高的发射率、较好的温度均匀性和稳定性。
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公开(公告)号：CN105417491A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510924564.9
申请日：2015-12-14
Applicant: 苏州诺联芯电子科技有限公司 , 北京振兴计量测试研究所
CPC classification number: B81C1/00015 , B81C1/0069
Abstract: 本发明提供了一种定标黑体光源的制备方法，包括如下步骤：提供薄片衬底，并在衬底表面制作第一绝缘层；在第一绝缘层背离所述衬底的一侧的表面制作加热源，所述加热源具有可与外电路实现电性连接的引线区；在加热源背离第一绝缘层的一侧的表面制作第二绝缘层；在第一绝缘层或第二绝缘层背离衬底的一侧的表面制作温度传感器；使温度传感器与引线区背离所述衬底的一侧形成向外暴露以与外电路实现电性连接的引线通道；在第二绝缘层背离加热源的一侧的表面制作黑体薄膜。所述定标黑体光源升温、降温速度快，温度稳定时间仅需5-10分钟，对于面积在5cm2的光源芯片，辐射温度达到500℃时，功耗仅在50W以下，并且体积小，易于集成在成像系统内部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105372848A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510846694.5
申请日：2015-11-27
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
CPC classification number: G02F1/0102 , G02F1/17 , G02F1/23
Abstract: 一种红外微辐射阵列，属于红外动态仿真技术领域，涉及红外动态场景生成器件。本发明的红外微辐射阵列主要包括基底、微辐射元、导热层、封装窗口等，其微辐射元将可见光及近红外波段的动态图像，转换为具有一定帧频的中波红外和长波红外的动态图像，减少了衍射现象，提高了图像质量，可作为红外动态场景模拟系统的核心器件，解决了在中波波段和长波波段复杂战场环境的高动态、高分辨率、大动态范围场景模拟技术的难题，具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN114568142B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202011387359.0
申请日：2020-12-01
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种打顶刀具、打顶执行器及打顶方法，该打顶刀具包括：刀具安装环、驱动机构和至少三个刀片；刀片转动连接于刀具安装环，至少三个刀片绕刀具安装环的轴线圆周分布；刀片具有第一刀刃和第二刀刃；驱动机构与刀片连接，用于驱动各个刀片在刀具安装环上转动至打开状态或者闭合状态；当处于打开状态时，待打顶的顶芽能够穿入刀具安装环中，且至少三个刀片包围待打顶的顶芽；当处于闭合状态时，相邻两个刀片中，一个刀片的第一刀刃与另一刀片的第二刀刃相抵接。通过本发明，缓解了现有技术中棉花打顶时容易将棉花顶芽周边的侧枝和叶片损伤，造成棉花产量的降低的技术问题。
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公开(公告)号：CN112229330A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201910634548.4
申请日：2019-07-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明涉及测量技术领域，公开了一种高温环境中位移场测量系统。其中，该系统包括：成像装置，用于对具有特征标示的被测目标进行成像得到包含特征标示的被测目标图像序列；控制处理装置，用于对被测目标图像序列中每个被测目标图像的特征标示进行识别，分析特征标示在对应图像中的坐标位置，并基于坐标位置确定被测目标的位移场；热防护结构腔体，成像装置设置在所述热防护结构腔体内，所述热防护结构腔体具有隔热透光窗口，所述成像装置通过所述隔热透光窗口对被测目标进行成像。由此，可以实现对高温环境下的被测目标的非接触式位移测量。
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公开(公告)号：CN111006773A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201911179919.0
申请日：2019-11-26
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统，属于红外辐射定标技术领域，解决了现有红外辐射面的温度均匀性差的问题。本发明的空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统，包括热匀化导热层、加热层和分离式电极组，热匀化导热层位于加热层和MEMS红外辐射面之间；分离式电极组为加热层供电，使加热层发热；加热层对MEMS红外辐射面进行加热；热匀化导热层对MEMS红外辐射面起到热匀化作用，提升MEMS红外辐射面温度的均匀性。本发明能够大幅度提升空间环境下MEMS红外辐射面的均匀性，温度分布均匀性优于3K，确保其满足红外载荷辐射定标的使用要求。
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公开(公告)号：CN110926620A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201811092252.6
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构，红外靶标包括单晶硅基底，单晶硅基底的厚度为100μm，单晶硅基底上设置有镂空图形，单晶硅基底的反射面上设置有高反射率膜，高反射率膜上设置有保护膜；采用单晶硅作为基底，使其在镂空图形的加工过程中不会产生表面变形，并且便于抛光和镀膜，不产生塑性变形，保证靶标表面的平整度。
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