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公开(公告)号：CN103148939B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310062603.X
申请日：2013-02-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域，具体的讲是一种抑制二级光谱的紫外光谱测量方法及系统，其中包括当进行110nm-200nm波段的紫外光谱测量时，将真空仓抽真空，紫外辐射透过所述真空仓的氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述氟化镁窗口用于吸收波段在110nm以下的紫外辐射；当进行200nm-400nm波段的紫外光谱测量时，向所述真空仓中注入气体，所述紫外辐射通过所述真空仓中的空气和所述氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述空气吸收波段在200nm以下的紫外辐射。通过本发明的实施例，在紫外光谱测量时光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中，将二级光谱的杂散辐射有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN103017899B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210478694.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种汇聚摆镜，包括摆镜和旋转位移平台，其中，摆镜包括两块非反射面贴合的凹面反射镜，两块反射镜中心轴线重合，所述凹面反射镜曲面半径范围为50mm～5000mm，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm高反射膜，另一块反射面B镀60nm～200nm高反射膜，低于60nm光谱反射率较低。所述摆镜通过旋转位移平台进行平移和旋转运动。本发明可实现标准光源与待测光源的快速切换；并且可实现在光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中高级次光谱杂散辐射的有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN103148939A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310062603.X
申请日：2013-02-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域，具体的讲是一种抑制二级光谱的紫外光谱测量方法及系统，其中包括当进行110nm-200nm波段的紫外光谱测量时，将真空仓抽真空，紫外辐射透过所述真空仓的氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述氟化镁窗口用于吸收波段在110nm以下的紫外辐射；当进行200nm-400nm波段的紫外光谱测量时，向所述真空仓中注入气体，所述紫外辐射通过所述真空仓中的空气和所述氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述空气吸收波段在200nm以下的紫外辐射。通过本发明的实施例，在紫外光谱测量时光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中，将二级光谱的杂散辐射有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN119124364A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202310693649.5
申请日：2023-06-12
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供一种超大口径红外相机辐射定标装置温控系统，包括米级面源黑体辐射源、温度采集及控制系统、加热片组、程控电源组、低温电磁阀组、液氮供液系统、嵌入式控制系统；温度采集及控制系统通过温度传感器实时采集辐射面温度传送给控制系统，与设定温度进行比较，采用PID控制，通过两路输出分别控制制冷和加热功率，黑体辐射源液氮管路通过若干个低温线性电磁阀控制米级面源黑体辐射源，实现黑体辐射源区域制冷；程控电源组控制加热片组实现黑体辐射源区域加热；嵌入式控制系统实现数据的输入输出、控制策略的实现和数据的远程传输和通信。该系统能够对黑体的温度进行高精度的控制以及快速测量，提高了米级面源黑体的均匀性和稳定性。
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公开(公告)号：CN114353965B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113916386B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202010644796.X
申请日：2020-07-07
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J9/00
Abstract: 一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置，包括：真空紫外光源为气体放电光源，前端窗口为氟化镁窗口，用来提供覆盖120nm～200nm波段范围的光谱能量；真空紫外单色分光系统包括入射狭缝、分光光栅、出射狭缝，真空紫外光源的光经入射狭缝进入，经分光光栅分光形成单色光，经出射狭缝出射；真空紫外准直系统包括多片光学镜片，使得真空紫外准直系统的焦面位置与真空紫外单色分光系统的出射狭缝位置重合，对真空紫外单色分光系统的出射光进行准直，形成平行光出射；真空紫外漫射系统为长方形，铝基底材料进行打磨制成，其表面为漫反射表面；真空紫外切换机构为圆形转台或平移导轨，可将漫射系统移入移出。
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公开(公告)号：CN114381709A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134111.3
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出涂层、用途及制备方法，包括催化剂中间层和碳基涂层，催化剂中间层为岛状结构，碳基涂层沉积在岛状结构的催化剂中间层上。本发明制备特殊的催化剂中间层，将等离子体增强化学气相沉积制备的碳纳米结构引入到黑体涂层中，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，且与基底材料结合力好，提高稳定性和耐久性。
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公开(公告)号：CN114381147A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134103.9
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出一种涂层、用途及其制备方法，包括二氧化硅层和附着在二氧化硅层上的金属纳米层。本发明通过制备具有高粗糙度的二氧化硅中间涂层，将金属纳米涂层引入到黑体涂层中，使金属纳米涂层具有了高粗糙度，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，满足黑体涂层的要求。
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公开(公告)号：CN107560828A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610515828.X
申请日：2016-07-01
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供了一种微光像增强器信噪比校准装置，包含标准卤钨灯光源、滤光片、积分球、圆孔光阑、共轭对称透镜系统、测试屏蔽罩、微弱照度计，所述标准卤钨灯光源所发出的光经过滤光片组衰减后在积分球内多次漫反射，然后在积分球出口处形成均匀光斑，积分球照亮其前面的圆孔光阑，光阑最后经过共轭透镜聚焦在放置在暗箱内的标准微弱照度计上形成一直径为0.2mm的圆光斑，再将标准微弱照度计切换至待测像增强器，由此实现对微光像增强器信噪比的校准。本发明可实现对微光像增强器信噪比校准精度的有效提升，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN107014494A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710141240.7
申请日：2017-03-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/00
CPC classification number: G01J5/00 , G01J2005/0048
Abstract: 本发明涉及红外辐射测量与校准技术领域，尤其涉及一种能够在真空低温条件下应用的高精度面源黑体辐射源装置，主要包括：黑体辐射源主体模块、真空舱、舱内控制电缆、穿墙航插、舱外控制电缆、制冷铜辫和控制器模块，所述黑体辐射源主体模块放置在所述真空舱内，所述黑体辐射源主体模块通过制冷铜辫与所述真空舱的内壁相连接，所述黑体辐射源主体模块依次通过所述舱内控制电缆、穿墙航插、舱外控制电缆与所述控制器模块相连。本发明的有益效果为：有效解决了现有技术无法同时满足有效发射率、温度均匀性、温度范围宽的问题，为红外探测设备的标定和测试以及建立真空环境下低温目标性能测试系统提供了应用基础。
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