热屏蔽构件和层压玻璃
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102189735B

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201110035086.8

    申请日:2011-01-30

    CPC classification number: B60J3/00 G02F1/1335

    Abstract: 本发明公开了一种热屏蔽构件和层压玻璃,所述热屏蔽构件包括第一光反射层,在400nm至小于850nm的波长范围内和在大于850nm至1300nm的波长范围内均具有反射率峰值,并且满足C>A>B。“A”表示在400nm至小于850nm的波长范围内的最大反射率;“B”表示在850nm波长的反射率;“C”表示在大于850nm至1300nm的波长范围内的最大反射率;并且“B”等于或小于50%。

    光反射膜的制造方法
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102460241B

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201080025632.3

    申请日:2010-06-10

    CPC classification number: G02B5/26 G02B5/208 G02B5/3016

    Abstract: 本发明提供一种可稳定地制造光反射膜的方法,所述光反射膜的透明性高,光反射性优异且具有多个胆甾醇型液晶层。所述光反射膜的制造方法为至少具有两个固定胆甾醇型液晶相而成的光反射层的光反射膜的制造方法,其中,包括:在固定胆甾醇型液晶相而成的第一光反射层上,使固化性的液晶组合物成为胆甾醇型液晶相的状态的第一工序;以及;对所述固化性的液晶组合物照射紫外线而使之发生固化反应,固定胆甾醇型液晶相而形成第二光反射层的第二工序,在第二工序中,经由具有至少使波长340nm以下的紫外线的强度降低的作用的部件,对所述固化性的液晶组合物照射紫外线。

    曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

    公开(公告)号:CN103365112A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310064443.2

    申请日:2013-02-28

    Abstract: 本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊支撑第一处理膜(10A)并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模(28),来自光源的光隔着掩模对第一处理膜(10A)进行照射。在掩模(28)上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝(29)。掩模(28)具有矩形的板(28A)、形成在板(28A)的一面上的掩蔽膜(28B)以及形成在掩蔽膜(28B)上的高折射率层(28C)。高折射率层(28C)由对光源的光具有透射性并具有板(28A)的材质的折射率以上的折射率的原材料形成。

    光反射性膜的制造方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102692664A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201210075191.9

    申请日:2012-03-21

    CPC classification number: G02B5/26

    Abstract: 本发明提供可以在不降低膜的透明度的情况下、防止液晶层与支撑体的结块的光反射性膜的制造方法。本发明的光反射性膜的制造方法包括以下工序:使用一个表面的表面粗糙度为4.5~25nm的支撑体、在支撑体的另一个表面上涂布含有固化性胆甾醇型液晶化合物的固化性液晶组合物的涂布工序;对所涂布的固化性液晶组合物施加热量、使固化性胆甾醇型液晶化合物取向、形成胆甾醇型液晶相的状态的取向工序;使固化性液晶组合物的固化反应进行、形成固定有胆甾醇型液晶相的光反射层的照射工序;以及使支撑体和光反射层同极地带电的带电工序。

    烧成膜及其制造方法、以及输送载体及其制造方法

    公开(公告)号:CN102532995A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110303850.5

    申请日:2011-09-28

    Inventor: 冲和宏 作山弘

    Abstract: 本发明提供烧成膜的制造方法、以及输送载体的制造方法,所述烧成膜的制造方法包含:在基板上丝网印刷含有至少包含聚二甲基硅氧烷的聚二甲基硅氧烷组合物且在25℃下的粘度为10Pa·s~200Pa·s的涂布液而形成平均厚度100μm以上的涂膜的涂膜形成工序和烧成所述涂膜的烧成工序。所述输送载体的制造方法包含:在基板的至少一部分形成孔部或者凹部的孔部或者凹部形成工序、在将所述孔部或者凹部用设置于丝网版的掩模覆盖后,丝网印刷含有至少包含聚二甲基硅氧烷的聚二甲基硅氧烷组合物的涂布液而形成涂膜的涂膜形成工序和烧成所述涂膜的烧成工序。

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