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公开(公告)号:CN101160026A
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200710193674.8
申请日:2004-05-21
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H05K3/38 , H05K1/02 , C09D179/08 , B32B27/06
Abstract: 本发明的目的是提供能够以足够的强度接合绝缘体层和表面不太粗糙的导体箔的树脂底漆、带有树脂的导体箔、层叠板及其制造方法。本发明的树脂底漆含有具有薄膜形成能力且断裂能量为0.15J以上的树脂。另外,本发明带有树脂的导体箔具有导体箔和由所述树脂底漆组成的树脂层。此外,本发明的层叠体具有导体箔、与导体箔对向设置的绝缘层、和设置在导体箔和绝缘层之间并与这些接触的由所述树脂底漆组成的树脂层。该层叠板可以通过对具有所述带有树脂的导体箔和层叠在该树脂层上的半固化浸胶材料的层叠体进行加热和加压而制造。
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公开(公告)号:CN102498238B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201080041044.9
申请日:2010-09-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B22F9/26 , B22F1/02 , B22F9/22 , B22F9/24 , B22F2201/01 , B22F2301/10 , B22F2302/25 , B22F2999/00 , B32B15/01 , C22C5/04 , C22C9/00 , H01B1/026 , H05K1/097 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0224 , H05K2201/0272 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T156/10 , Y10T428/12903 , B22F2201/013 , B22F2202/13
Abstract: 本发明提供基板粘附性、低体积电阻率、深部金属性优良的金属铜膜、及能够在不损伤基板的情况下还原至深部来制造该金属铜膜的金属铜膜的制造方法。该金属铜膜的特征在于,其是通过将铜系粒子堆积层用加热到120℃以上的气体状的甲酸和/或甲醛进行处理而形成的,所述铜系粒子堆积层同时含有铜氧化物、和金属状的过渡金属或合金或者包含金属元素的过渡金属配合物。作为所述铜氧化物,优选为氧化亚铜和/或氧化铜;作为所述过渡金属、合金、或金属配合物,分别优选为选自由Cu、Pd、Pt、Ni、Ag、Au及Rh组成的组中的金属、或包含该金属的合金、或包含该金属元素的配合物。
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公开(公告)号:CN102498238A
公开(公告)日:2012-06-13
申请号:CN201080041044.9
申请日:2010-09-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B22F9/26 , B22F1/02 , B22F9/22 , B22F9/24 , B22F2201/01 , B22F2301/10 , B22F2302/25 , B22F2999/00 , B32B15/01 , C22C5/04 , C22C9/00 , H01B1/026 , H05K1/097 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0224 , H05K2201/0272 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T156/10 , Y10T428/12903 , B22F2201/013 , B22F2202/13
Abstract: 本发明提供基板粘附性、低体积电阻率、深部金属性优良的金属铜膜、及能够在不损伤基板的情况下还原至深部来制造该金属铜膜的金属铜膜的制造方法。该金属铜膜的特征在于,其是通过将铜系粒子堆积层用加热到120℃以上的气体状的甲酸和/或甲醛进行处理而形成的,所述铜系粒子堆积层同时含有铜氧化物、和金属状的过渡金属或合金或者包含金属元素的过渡金属配合物。作为所述铜氧化物,优选为氧化亚铜和/或氧化铜;作为所述过渡金属、合金、或金属配合物,分别优选为选自由Cu、Pd、Pt、Ni、Ag、Au及Rh组成的组中的金属、或包含该金属的合金、或包含该金属元素的配合物。
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公开(公告)号:CN101711100B
公开(公告)日:2012-03-28
申请号:CN200910207270.9
申请日:2005-06-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B32B27/04 , B29K2105/0872 , H05K1/0366 , Y10T29/49124 , Y10T29/49126 , Y10T29/49128 , Y10T29/49155 , Y10T29/53883
Abstract: 一种多层印制电路板的制造方法,其在印制电路板的表面上,配置印制电路板用预浸料片,进而在该印制电路板用预浸料片的表面上配置金属箔或贴有金属箔的叠层板,经过热加压成形,其中,印制电路板的至少1片以上为大于印制电路板用预浸料片的尺寸,并且印制电路板用预浸料片,是在250℃以下、10MPa以下的加热·加压成形条件下,自上述印制电路板用预浸料片的树脂渗出量在3mm以下的印制电路板用预浸料片。根据本发明,能够提供一种吸水率及尺寸变化率小、且在成形印制电路板时能显现优越的折曲特性的多层印制电路板的制造方法。
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公开(公告)号:CN101522744B
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN200780037200.2
申请日:2007-08-20
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C08G18/34 , B32B15/088 , C08G73/14 , C09J163/00 , C09J179/08 , H05K1/03
CPC classification number: B32B7/12 , B32B3/085 , B32B15/08 , B32B15/088 , B32B27/08 , B32B27/34 , B32B2255/06 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/202 , B32B2307/206 , B32B2307/306 , B32B2307/726 , B32B2457/08 , C08G18/5036 , C08G18/5057 , C08G18/615 , C08G73/14 , C09J179/08 , H05K1/0346 , H05K1/0393 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , Y10S428/901 , Y10T428/31515 , Y10T428/31522 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 本发明涉及一种聚酰胺酰亚胺树脂,其是通过包含使二酰亚胺二羧酸和芳香族二异氰酸酯反应的步骤的方法得到,其中所述二酰亚胺二羧酸包含40摩尔%以上的由下述通式(1)表示的化合物以及20摩尔%以上的由下述通式(2)表示的化合物。
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公开(公告)号:CN101883470A
公开(公告)日:2010-11-10
申请号:CN200910207269.6
申请日:2005-06-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B32B27/04 , B29K2105/0872 , H05K1/0366 , Y10T29/49124 , Y10T29/49126 , Y10T29/49128 , Y10T29/49155 , Y10T29/53883
Abstract: 本发明提供一种印制电路板用预浸料片,其通过使热固化性树脂组合物浸渗在基材中并进行干燥而制得,其中,即使在被切断成宽10mm、长100mm的所述印制电路板用预浸料片上设置5mm厚的板并使该印制电路板用预浸料片90度弯曲后,所述基材也不产生裂纹,所述热固化性树脂组合物含有硅氧烷改性聚酰胺酰亚胺树脂或者丙烯酸树脂,还含有环氧树脂和固化剂。本发明还提供利用本发明的印制电路板用预浸料片形成的贴有金属箔的叠层板。
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公开(公告)号:CN101836268A
公开(公告)日:2010-09-15
申请号:CN200880112547.3
申请日:2008-10-20
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01B13/00 , H01B1/00 , H01B1/22 , H01L21/28 , H01L21/288 , H01L21/3205 , H01L23/52 , H05K3/10
CPC classification number: H05K3/102 , H01B1/026 , H01B1/22 , H01L21/4867 , H01L23/49866 , H01L2924/0002 , H01L2924/09701 , H05K3/105 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T428/12181 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种低电阻的铜配线图案形成方法以及用于其中的氧化铜粒子分散液,其在几乎不使用铜粒子的耐氧化、分散所必须的表面处理剂的情况下,使用电迁移少、材料自身的单价便宜的铜粒子,能够抑制断裂发生。该铜配线图案形成方法的特征在于,其包含下述工序:使用分散有铜系粒子的分散液在基板上形成任意图案的工序,所述铜系粒子具有氧化铜表面;以及利用原子状氢将所述图案中的铜系粒子表面的氧化铜还原成铜,并使还原而生成的铜金属粒子彼此烧结在一起的工序。
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公开(公告)号:CN100546435C
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200610115479.9
申请日:2004-11-11
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C23C18/42
Abstract: 本发明提供一个关于印刷线路板的具体例子,其特征在于,导体电路包含连接于绝缘层的铜层和无电解镀金,绝缘层的10点平均粗度(Rz)小于等于2.0μm或铜箔的连接于绝缘层的面没有进行实质性的粗化处理。通过该印刷线路板,没有树脂上析出镀金的不良状况,可以形成配线精度更微细的配线。
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公开(公告)号:CN101528007A
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200810149260.X
申请日:2005-01-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H05K3/38 , H05K3/46 , H05K3/28 , C09J7/00 , C09J163/00
Abstract: 本发明的一种实施方式涉及带有粘着辅助剂的金属箔,其在金属上具有以环氧树脂为必须成分的粘着辅助剂层,该粘着辅助剂层的厚度是0.1~10μm的。此外,本发明的另一种实施方式涉及一种具有若干层的多层印刷线路板,其特征在于,在绝缘层和绝缘层之间具有至少1层或1层以上的粘着辅助剂层。
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