公开(公告)号：CN108260266B

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201711420309.6

申请日：2017-12-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中孝佳 ,  阿野诚士

IPC: H05F3/00

Abstract: 本发明提供一种除静电装置，能够根据基板主面的各区域适当地降低基板主面上积累的电荷的量。除静电装置(10)对带静电基板(W1)进行降低带静电量的处理。除静电装置(10)具有基板保持机构(1)和紫外线照射机构(2)。基板保持机构(1)保持基板(W1)。紫外线照射机构(2)能够以对基板(W1)的主面进行划分而成的多个区域互不相同的照射量对基板的主面照射紫外线。

公开(公告)号：CN109545702A

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201810993368.0

申请日：2018-08-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中孝佳 ,  大跡明

IPC: H01L21/67

Abstract: 通过将疏水剂的液体供给至基板(W)的表面而形成覆盖基板(W)的整个表面的疏水剂的液膜。之后，一面维持基板(W)的整个表面由疏水剂的液膜覆盖着的状态一面使基板(W)上的疏水剂的液量减少。之后，在基板(W)上的疏水剂的液量已减少的状态下，将第1有机溶剂的液体供给至由疏水剂的液膜覆盖着的基板(W)的表面，由此以第1有机溶剂的液体来置换基板(W)上的疏水剂的液体。之后，使基板(W)干燥。

公开(公告)号：CN108257891A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201711406516.6

申请日：2017-12-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 井上正史 ,  田中孝佳 ,  岩田智巳 ,  谷口宽树 ,  新庄淳一 ,  高桥弘明 ,  樋口鲇美 ,  大迹明 ,  中野佑太

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种使用紫外线进行多个处理也能抑制尺寸增加的基板处理装置。基板处理装置具有紫外线照射装置(2)和基板保持装置(31、32)。紫外线照射装置2位于处理室(11、12)的边界，并且能够向处理室(11、12)照射紫外线。基板保持装置31配置于处理室(11)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。基板保持装置(32)配置于处理室(12)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。

公开(公告)号：CN108257890A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201711404713.4

申请日：2017-12-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 井上正史 ,  泷昭彦 ,  谷口宽树 ,  田中孝佳 ,  中野佑太

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/311

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764

Abstract: 本发明提供一种在更短时间内将基板和紫外线照射器之间的空间的环境气体变为规定的环境气体的基板处理装置。基板处理装置(10)具备基板保持台(1)、紫外线照射机构(2)、筒构件(3)和气体供给机构(41、42)。紫外线照射机构以隔着作用空间(H1)与基板(W1)相对的方式配置，并向基板照射紫外线。筒构件具有包围基板保持台的侧表面1b)的内表面(3a)，在内表面中的与侧表面相对的至少一个位置上具有至少一个开口部(31a)。气体供给机构(42)经由至少一个开口部，向基板保持台(1)的侧表面(1b)和筒构件(3)的内表面(3a)之间的空间供给气体。气体供给机构(41)向基板和紫外线照射机构(2)之间的作用空间(H1)供给气体。