Abstract:
본 명세서에서는 비구면 형태의 실리콘 몰드, 마이크로 렌즈 어레이 및 상기 실리콘 몰드와 마이크로 렌즈 어레이를 제조하는 방법을 제공한다. 본 명세서의 일 실시예에 따른 비구면 형태의 실리콘 몰드를 제조하는 방법은 기판의 일면에 산화막을 증착하고, 상기 증착한 산화막에 포토 레지스트를 도포하는 단계, 상기 도포된 포토 레지스트에 소정의 간격을 가지도록 패터닝하여 포토 레지스트 마스크를 형성하는 단계, 상기 패터닝된 포토 레지스트 마스크에 대하여 소정의 전해질 용액으로 에칭하는 단계, 및 상기 에칭이 완료된 기판의 산화막을 제거하는 단계를 포함하며, 상기 전해질 용액은 HF와 DMSO가 포함되어 있는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
일 실시 예에 의한 FET 형 바이오 센서는 회로 기판 상에 배치되고 소스, 드레인 및 게이트를 포함하는 전계효과트랜지스터(FET)를 포함한다. 또한, FET 형 바이오 센서는 바이오 물질을 감지할 수 있는 금속막을 포함하는 전극판 및 상기 회로 기판 상에 배치되고 상기 전극판을 부착 및 탈착시킬 수 있는 전극판 소켓을 포함한다. 상기 전극판 소켓 내에 부착되는 전극판과 상기 FET의 게이트는 서로 전기적으로 연결된다.
Abstract:
PURPOSE: A solar cell using a wire array and a manufacturing method thereof are provided to improve the efficiency of the solar cell at a wide temperature range by preventing the recombination of carriers at low and high temperatures by minimizing a moving distance of minority carriers. CONSTITUTION: A substrate(300) and a wire(312) are formed on a wire array. A transparent electrode layer(320) is formed on the surface of the wire array. A filling layer(330) made of insulation materials fills a space between wires with the transparent electrode layer. A top transparent electrode layer(340) is formed on the upper surface of the filling layer. A top electrode(350) is formed on the upper surface of the transparent electrode layer.
Abstract:
The present invention relates to a method of manufacturing a CIGS light absorbing layer. According to one embodiment of the present invention, the method of manufacturing a CIGS light absorbing layer includes a step of forming a CIGS thin film; a selenization step; and a thermal treatment step. According to one embodiment of the present invention, the CIGS thin film is formed on a substrate by using a selenium precursor solution. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) Forming a CIGS thin film on a substrate in a solution method; (S20) Selenizing the CIGS thin film in the solution method; (S30) Thermal treatment in a nitrogen atmosphere chamber
Abstract:
PURPOSE: A silicon solar cell and a manufacturing method thereof are provided to reduce a refractive index in comparison with an antireflection layer of a thin film structure by applying zinc oxide of a nanorod structure with an air gap to an antireflection layer of a silicon solar cell. CONSTITUTION: A light absorption layer(210) includes silicon doped with a P type or N type. An emitter layer(220) includes silicon with opposite conductive type to the light absorption layer. A first electrode(230) is formed on the lower side of the light absorption layer. A second electrode is formed on a part of the emitter layer. An antireflection layer(250) includes a fine structure(221) of a microsize and an ultra fine structure(251) of a nanosize.