Abstract:
본 발명은, 제1스테이지와, 상기 제1스테이지에 대해 이동가능하게 마련된 제2스테이지를 구비한 스테이지장치에 관한 것으로서, 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지를 연결하는 적어도 하나의 플렉쳐힌지와; 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지 사이에 마련되어 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지를 가압하며, 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지의 중심에 대해 대칭을 이루도록 마련된 복수의 액추에이터와; 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지 중 어느 하나에 대한 다른 하나의 이동을 조절하도록 상기 복수의 액추에이터를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 초정밀의 위치제어가 가능하도록 위치오차를 용이하게 줄일 수 있다.
Abstract:
본 발명에 따른 반도체패키지용 에폭시몰딩컴파운드는, 충진재, 수지 및 첨가재로 이루어지는데, 특히 충진재는 실리카와, 실리카보다 낮은 유전율을 갖는 충진물질을 포함한다. 이와 같은 본 발명에 따르면, 에폭시몰딩컴파운드의 유전율이 감소되고, 그에 따라 인터커넥션 지연의 감소에 따른 신호지연을 감소시킬 수 있어서 소자의 동작특성을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
영구자석의 형상을 개선하여 누설 자속이 감소되도록 하는 모터를 제공한다. 모터는 스테이터코어들과, 상기 스테이터코어들에 감긴 코일을 가지는 스테이터; 상기 스테이터와 전자기적으로 상호 작용하여 회전하도록 구성되는 로터; 상기 로터와 함께 회전하도록 상기 로터에 결합되는 모터축;을 포함하며, 상기 로터는 상기 모터축이 삽입되는 축공을 가지는 슬리브; 상기 로터의 원주방향을 따라 서로 이격되도록 배열되는 복수의 로터코어; 상기 슬리브를 중심으로 방사형으로 연장되도록 상기 각각의 로터코어 사이에 배치되는 복수의 영구자석;을 포함하며, 상기 영구자석은 상기 로터의 회전 시 상기 로터의 반경방향 양측으로 비산이 방지되도록 내측단과 외측단 사이에 상기 내측단 및 외측단보다 두꺼운 두께를 갖는 비산 방지부가 마련되는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
웨이퍼의 전 표면에 박막을 균일하게 형성시킬 수 있게 구성된 반도체 제조장치가 개시된다. 본 발명의 반도체 제조장치는 반응챔버, 샤워헤드, 웨이퍼 구동유닛을 포함한다. 웨이퍼 구동유닛은 웨이퍼를 받치는 받침대, 받침대에 연결된 회전축, 회전축과 연결된 회전모터를 구비하여 웨이퍼를 회전시킬 수 있도록 한다. 받침대와 회전축은 하우징과 주름통, 그리고 승강통과 밀폐씰로 둘러싸여서 베어링 하우징의 내부에 설치되어 밀폐실과 회전모터를 연결하는 벨트에 의해 회전하게 된다. 웨이퍼 구동유닛은 승강모터를 더 구비하여 받침대를 상하로 이동시킬 수 있게 한다.
Abstract:
본 발명은, 이송장치에 관한 것으로서, 권취된 코일을 갖는 코일조립체와, 상기 코일조립체를 사이에 두고 서로 다른 극성을 가지며 상호 이격 배치된 한 쌍의 기동자석을 포함하는 적어도 4개의 미세구동유닛과; 상기 미세구동유닛들이 임의의 직선에 대해 대칭되게 한 쌍의 그룹으로 배치되도록 상기 적어도 4개의 코일조립체를 지지하는 코일지지부재와; 상기 각 코일조립체에 대응하여 상기 적어도 4쌍의 기동자석을 지지하는 자석지지부재와; 상기 코일지지부재 및 상기 자석지지부재 중 어느 하나에 대해 다른 하나의 이동을 조절하도록 상기 미세구동유닛들을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 초정밀의 위치제어가 가능하도록 위치제어오차를 용이하게 줄일 수 있다.