公开(公告)号：KR1020010068227A

公开(公告)日：2001-07-23

申请号：KR1020000000034

申请日：2000-01-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박문수 ,  김대열

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: An apparatus for preventing cross-contamination of an SMIF(Standard Mechanical Interface) system is provided to prevent cross-transfer contamination of a pollution source by arranging a chamber on a loader and separately providing a pod purge line a chamber purge line. CONSTITUTION: A loader(100) loads and unloads a wafer to a process room. A pod(110) is formed on an upper part of the loader(100). A pod purge hole(120) is arranged to purge an inside space of the pod(110). A chamber(200) is arranged on an inside of the loader(100). The chamber(200) contains a wafer cassette(300) and is separated from the inside space of the pod(110). A chamber purge hole(400) is arranged to purge an inside of the chamber(200). The purging process is carried out in a state that the wafer and the pod(110) are separated from each other, so that a pollution source is prevented from being cross-transferred between the pod(110) and the wafer. Accordingly, defective proportion of semiconductor devices becomes decreased and thereby productivity is increased.

Abstract translation: 目的：提供一种用于防止SMIF（标准机械接口）系统的交叉污染的装置，以通过将一个室设置在装载机上并且单独地提供一个舱室吹扫管线，一个室清除管线来防止污染源的交叉转移污染。 构成：装载机（100）将晶片装载和卸载到处理室。 在装载机（100）的上部形成吊舱（110）。 排气孔（120）布置成吹扫舱（110）的内部空间。 在装载机（100）的内侧设置有室（200）。 所述室（200）包含晶片盒（300）并与所述容器（110）的内部空间分离。 腔室吹扫孔（400）布置成吹扫室（200）的内部。 清洗过程在晶片和容器（110）彼此分离的状态下进行，从而防止污染源在容器（110）和晶片之间交叉传输。 因此，半导体器件的比例有所降低，生产率提高。

公开(公告)号：KR1020000060413A

公开(公告)日：2000-10-16

申请号：KR1019990008671

申请日：1999-03-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오윤철 ,  신흥수 ,  김대열 ,  한윤수

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A sterilizing method of a semiconductor ultra-pure water system is provided to prevent the microorganism from propagating by using a polisher resin tower. CONSTITUTION: A heating water heated by a heater(200) is provided such that a resin in a polisher resin tower(202) can not be damaged by the heating water. The polisher resin tower(202) removes ions of city water. The heating water is supplied into the polisher resin tower(202) through a supplying pipe(212). The heating water supplied into the polisher resin tower(202) is flowing through the polisher resin tower(202). Then, the heating water is exhausted into the exterior through an exhaust port(210). The temperature of the heating water is in the range of 50 to 60°C.

Abstract translation: 目的：提供半导体超纯水系统的灭菌方法，以防止微生物通过使用抛光树脂塔传播。 构成：由加热器（200）加热的加热水被设置成使得抛光树脂塔（202）中的树脂不会被加热水损坏。 抛光树脂塔（202）去除城市水的离子。 加热水通过供给管（212）供给至抛光树脂塔（202）。 供给到抛光树脂塔（202）的加热水流过抛光树脂塔（202）。 然后，加热水通过排气口（210）排出到外部。 加热水的温度在50〜60℃的范围内。

公开(公告)号：KR1019990039685A

公开(公告)日：1999-06-05

申请号：KR1019970059854

申请日：1997-11-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대열 ,  박경호 ,  황태진 ,  임기환

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 메인필터의 수명관리를 위하여 메인필터의 오염여부를 용이하게 확인할 수 있도록 하기 위하여 샘플링필터를 취부시킨 반도체 청정실용의 메인필터에 관한 것이다.
본 발명에 따른 샘플링필터가 취부된 반도체 청정실용의 메인필터는, 청정실의 천장에 취부되어 순환되는 프레시에어를 여과하는 메인필터(1)의 상단일측에 샘플링필터(4)를 착탈가능하게 취부시켜서 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 메인필터(1) 상에 취부되어 있는 샘플링필터(4)만을 분리하여 샘플링필터(4)의 오염정도를 확인하는 것만으로 그 직하방에 위치하는 메인필터(1)의 오염정도를 간접적으로 확인할 수 있게 되며, 메인필터(1)의 적절한 교체시기 등을 정하여 유지, 보수를 실시할 수 있도록 하는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980014573A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960033602

申请日：1996-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대열 ,  최재흥

IPC: H01L21/66

Abstract: 스탠드 어론(Stand Alone) 구조의 지지대에 프로브(Probe)를 설치하여 측정하고자 하는 위치 및 높이에서 측정이 이루어지도록 개선시킨 반도체 크린 룸의 파티클 측정설비에 관한 것이다.
본 발명은, 크린 룸에서의 파티클을 측정하기 위한 프로브(Probe)가 튜브에 연결되는 반도체 크린 룸의 파티클 측정설비에 있어서, 상기 프로브를 일정 높이로 지지시키는 지지대를 측정하고자 하는 위치의 그레이팅(Grating)으로 형성되는 바닥에 고정시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 크린 룸에서의 파티클, 온도 및 습도 등을 측정하기 위한 설비의 설치가 용이하고, 또한 공간이동 및 높이조절이 가능하여 다양한 측정범위를 제공함으로서 설비의 효용성을 극대화시키는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970063387A

公开(公告)日：1997-09-12

申请号：KR1019960003626

申请日：1996-02-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대열 ,  전재강

IPC: H01L21/00

Abstract: 청정실 내의 공기 흐름을 측정할 수 있는 기류 편각 장치는 센서들과 그 감지된 값을 변환하고 표시하는 장치만으로도 쉽게 편각을 감지할 수 있으며, 관찰자가 누구든지 상관없이 동일한 데이터를 얻을 수 있으며 기류의 이상적인 방향을 제시함으로써 데이터의 신뢰성을 얻을 수 있다.