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公开(公告)号：KR100253095B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019970066290
申请日：1997-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: C02F1/725 , B01J19/123 , C02F1/32 , Y10S210/90
Abstract: PURPOSE: A photooxidation treatment equipment of water treatment equipment for manufacturing semi-conductor device is provided, which can prevent any elution of constituents of the catalyst to water by coating the catalyst with polymer film, thereby preventing any contamination of the water and can remove the aromatic organic matter by adsorbing to polymer film and penetrating the film easily to oxidation react at the catalyst. CONSTITUTION: The system comprises the followings: (i) a photooxidation part(22) that has an inlet and an outlet at the side of the cylinder in which UV lamps are installed; (ii) UV lamps(20) fixed in the photooxidation part(22) for irradiating UV of a fixed range of wave length to the pretreated water to oxidize organic matter; and (iii) a catalyst part(30) that is installed inside the photooxidation part(22) for activating oxidation of organic matter.
Abstract translation: 目的：提供半导体器件制造用水处理设备的光氧化处理设备，通过用聚合物膜涂覆催化剂，可以防止催化剂成分向水中的任何溶出，从而防止水分的污染， 通过吸附到聚合物膜上并且容易地渗透到氧化物上的芳族有机物在催化剂下反应。 构成：该系统包括：（i）光氧化部分（22），其在安装有UV灯的圆筒的侧面具有入口和出口; （ii）固定在光氧化部分（22）中的UV灯（20），用于将固定波长范围的UV照射到预处理的水中以氧化有机物质; 和（iii）安装在用于活化有机物氧化的光氧化部分（22）内部的催化剂部分（30）。
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公开(公告)号：KR100237831B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970066719
申请日：1997-12-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: A41D13/00
CPC classification number: A41D13/1263 , A41D13/02 , A41D27/28 , Y10S2/01
Abstract: 본 발명은 청정실 내에서 작업하는 작업자의 인체로부터 발생된 각종 파티클이 유출되어 작업대상체가 오염 또는 손상되는 것을 방지하도록 하는 청정실용 방진복에 관한 것이다.
본 발명은 공기의 흐름이 하향 수직층류 타입으로 이루어진 청정실 내에 작업자가 착용하는 청정실용 방진복에 있어서, 인체의 허리 상측 소정 부위를 커버하는 상의와 상기 허리 하측 소정 부위를 커버하는 하의가 일체형으로 제작되고, 상기 허리 부위를 중심으로 상의 내측과 하의 내측을 상호 연통하도록 연결하는 통풍관이 형성되며, 상기 하의 소정 위치에 내측의 공기가 배출 가능하도록 배출부가 형성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 허리 부위에 형성된 통풍관과 하의 하측에 형성된 배출부를 통해 청정실용 방진복 내부의 공기를 외측으로 배출함에 따라 내측의 파티클 유출을 방지하게 되어 인체로부터 발생되는 파티클에 의한 작업대상체의 오염 및 손상이 방지되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100236717B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970073508
申请日：1997-12-24
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01N15/02
Abstract: 본 발명은 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클 분석방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방진복 분석장치는, 방진복이 착용가능한 인체모형기, 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 에어를 방출시킬 수 있는 에어공급수단 및 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 파티클을 방출시킬 수 있는 파티클공급수단을 구비하여 이루어지며, 본 발명에 따른 방진복 분석방법은, 상기 방진복을 세정하는 단계, 상기 방진복에서 발생되는 파티클의 개수를 측정하는 단계, 상기 인체모형기에 상기 방진복을 착용시키는 단계, 상기 에어공급수단에 의해서 방진복 내부에 에어를 방출하고, 상기 파티클공급수단에 의해서 방진복 내부에 파티클을 소정개수 방출하는 단계 및 상기 방진복 외부에서 파티클의 개수를 측정하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 방진복을 용이하게 분석할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100213437B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019970014264
申请日：1997-04-17
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01N33/367
Abstract: 방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 작업자 인체에 의한 청정실 오염을 방지하기 위해 정전기가 없고 청정실과 같은 습도의 조건에서 방진원단의 여과효율을 정확히 측정하고 방진원단의 사용기한을 결정하는데 그 목적이 있다.
방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 가스 이온화부가 이온화된 가스를 챔버에 주입하고 가습부가 챔버내에 수증기를 주입하고 파티클 발생부가 파티클을 챔버 내에 주입하고 파티클 카운팅부가 챔버 내에 주입된 파티클의 수를 카운팅하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성에 의하면, 챔버 내의 정전기가 이온화된 가스에 의해 제거되고 챔버 내의 습도가 청정실과 동일한 습도로 유지된 상태에서 파티클이 주입될 때, 시료를 통과하기 전, 후의 파티클의 수가 카운팅되고 시료의 여과효율이 연산된다. 따라서, 청정실 내에서 사용할 수 있는 방진복, 방진마스크, 방지장갑, 와이퍼(wiper) 등 방진제품의 방진원단이 개발 가능하고 방진원단의 사용기한 설정이 가능하므로 사용기한 내에서는 작업자 인체에서 발생한 파티클이 청정실로 방출하는 것이 차단되고 청정실의 고청정도가 유지되어 반도체소자의 수율이 향상된다.-
公开(公告)号：KR1019990053807A
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019970073508
申请日：1997-12-24
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클 분석방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방진복 분석장치는, 방진복이 착용가능한 인체모형기, 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 에어를 방출시킬 수 있는 에어공급수단 및 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 파티클을 방출시킬 수 있는 파티클공급수단을 구비하여 이루어지며, 본 발명에 따른 방진복 분석방법은, 상기 방진복을 세정하는 단계, 상기 방진복에서 발생되는 파티클의 개수를 측정하는 단계, 상기 인체모형기에 상기 방진복을 착용시키는 단계, 상기 에어공급수단에 의해서 방진복 내부에 에어를 방출하고, 상기 파티클공급수단에 의해서 방진복 내부에 파티클을 소정개수 방출하는 단계 및 상기 방진복 외부에서 파티클의 개수를 측정하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 방진복을 용이하게 분석할 수 있는 효과가 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100182167B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960007387
申请日：1996-03-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67028
Abstract: 본 발명은 반도체의 제조 라인에서 사용되는 웨이퍼 캐리어의 건식 세정 장치에 관한 것으로서, 외측 상면에 테이블을 갖는 함체와, 상기 함체의 테이블에 웨이퍼 캐리어 박스 및 덮개를 개방한 상태로 각 각 분할지지한 후 소정의 분사 가스의 분출력에 의하여 동시에 세정할 수 있도록 설치된 세정 수단과, 상기 함체 내부에 캐리어 박스 및 덮개로부터 탈락된 미세 입자를 진공력으로 수집한 후 배기관을 통하여 배출시킬 수 있도록 내장 설치된 배기 덕트와, 상기 세정 수단을 통하는 가스 유입관에 가스 공급 수단으로부터 유입되는 가스를 정화시킬 수 있도록 부설되는 가스 정화 수단과, 공급 가스의 공급량을 조절하고 세정 시간을 셋팅할 수 있는 제어수단으로 구비된 것을 특징으로 하여 일회의 세정 작동으로 웨이퍼 캐리어의 상, 하부를 동시에 세정할 수 있으므로 작업의효율성이 더욱 향상되는 등 반도체 생산 라인에서 웨이퍼의 이동이나 보관 등에 수반되는 파티클의 발생을 효율적으로 저지할 수 있으므로 제조 수율 및 신뢰성의 향상에 기여하는 바가 매우 큰 것이다.
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公开(公告)号：KR1019990011926A
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019970035181
申请日：1997-07-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은 크린룸에 설치되는 필터를 용이하게 교체하도록 하는 크린룸의 필터교체용 보조장치에 관한 것이다.
본 발명의 필터교체용 보조장치는 필터와, 상기 필터가 탑재되는 복수개의 격자보 형상으로 공정라인 상부에 설치되며, 하측부가 공정라인 내측으로 하향 돌출부 형상을 갖는 필터프레임을 구비하는 공기여과장치에서 상기 필터의 교체 전에 상기 필터 하부의 필터프레임의 돌출부의 규격에 대응하여 설치되어 공기의 투과를 방지하도록 형성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 교체가 요구되는 필터의 하측 필터프레임 상에 필터교체용 보조장치를 설치하여 그 부위의 공기의 흐름을 차단한 상태에서 교체하게 됨에 따라 크린룸 내부에 공기가 순환을 차단하지 않고, 생산설비를 구동하는 상태에서 손상된 필터를 신속하고, 용이하게 교체토록 함으로써 공정라인의 오염을 방지하게 되고, 생산성 향상과 설비 복원 시간을 단축되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980077235A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970014264
申请日：1997-04-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 작업자 인체에 의한 청정실 오염을 방지하기 위해 정전기가 없고 청정실과 같은 습도의 조건에서 방진원단의 여과효율을 정확히 측정하고 방진원단의 사용기한을 결정하는데 그 목적이 있다.
방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 가스 이온화부가 이온화된 가스를 챔버에 주입하고 가습부가 챔버내에 수증기를 주입하고 파티클 발생부가 파티클을 챔버 내에 주입하고 파티클 카운팅부가 챔버 내에 주입된 파티클의 수를 카운팅하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성에 의하면, 챔버 내의 정전기가 이온화된 가스에 의해 제거되고 챔버 내의 습도가 청정실과 동일한 습도로 유지된 상태에서 파티클이 주입될 때, 시료를 통과하기 전, 후의 파티클의 수가 카운팅되고 시료의 여과효율이 연산된다. 따라서, 청정실 내에서 사용할 수 있는 방진복, 방진마스크, 방지장갑, 와이퍼(wiper) 등 방진제품의 방진원단이 개발 가능하고 방진원단의 사용기한 설정이 가능하므로 사용기한 내에서는 작업자 인체에서 발생한 파티클이 청정실로 방출하는 것이 차단되고 청정실의 고청정도가 유지되어 반도체소자의 수율이 향상된다.-
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公开(公告)号：KR1019910004821B1
公开(公告)日：1991-07-13
申请号：KR1019880003401
申请日：1988-03-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: C09J5/04
Abstract: The doping method comprises doping 0.5-5mm adhesive layer of ethylene- ethylacrylate copolymer and polyamide in the ratio of 10:90-90:10 at an interval of 1-50mm alternately on the longitudinal inside of heat-contractive product. Ethyleneethylacrylate copolymer contains 5-40% ethylene group and has 400 g/10min melt index and 50-90% hydrolysis degree. Polyamide adhesive has a molecular weight of 5000-30000, a softening point of 5-200 deg.C, and amine valve of 5-14.
Abstract translation: 掺杂方法包括在热收缩产物的纵向内部交替地以1-50mm的间隔以10：90-90：10的比例掺杂乙烯 - 丙烯酸乙酯共聚物和聚酰胺的0.5-5mm粘合剂层。 丙烯酸乙烯酯共聚物含有5-40％的乙烯基，并具有400g / 10min的熔体指数和50-90％的水解度。 聚酰胺粘合剂的分子量为5000-30000，软化点为5-200℃，胺阀为5-14。
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