公开(公告)号：KR1020060002354A

公开(公告)日：2006-01-09

申请号：KR1020040051355

申请日：2004-07-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이상호 ,  최진필 ,  신동화 ,  채승기 ,  박병철

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70208

Abstract: Provided are methods and apparatus for exposing multiple substrates within a single exposing apparatus using only a single light source wherein a first substrate is exposed in a series of steps or shots during which light transmitted along a primary optical path is directed onto a primary surface of the substrate with the substrate being repositioned between sequential shots. A second substrate is exposed during the period of time while the first substrate is being repositioned by altering the optical path to divert the light from the light source into a secondary optical path that will expose a region on the second substrate. When the first substrate has been repositioned, the diversion of the light is terminated so that the light will again be transmitted along the primary optical path in order to expose the next sequential shot on the primary surface of the first substrate.

公开(公告)号：KR1020050017444A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020030055193

申请日：2003-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기상 ,  신동화 ,  박병철

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A semiconductor substrate exposing apparatus including a plurality of reticle transfer arms is provided to rapidly perform an exposure process by installing a plurality of reticle transfer arm for supporting and transferring a reticle and by preparing one reticle while another reticle is used. CONSTITUTION: An exposure process is performed on a semiconductor substrate in a process chamber. A light emitting part generates light of a predetermined wavelength, installed in the process chamber. An illumination part converts the light generated from the light emitting part into surface light. A transfer part irradiates the surface light to at least one of a plurality of reticles(R), installed under the illumination part to support the plurality of reticles. A lens part irradiates the light passing through the reticle to the semiconductor substrate, installed under the transfer part.

Abstract translation: 目的：提供包括多个掩模版传送臂的半导体衬底曝光设备，通过安装多个用于支撑和传送掩模版的掩模版传送臂并通过在使用另一个掩模版时制备一个掩模版来快速执行曝光处理。 构成：在处理室中的半导体衬底上进行曝光处理。 发光部分产生安装在处理室中的预定波长的光。 照明部将从发光部产生的光转换成表面光。 转印部件将表面光照射到安装在照明部分下方的多个掩模版（R）中的至少一个以支撑多个光罩。 透镜部分将通过掩模版的光照射到安装在转印部分下面的半导体衬底上。

公开(公告)号：KR1019990086873A

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019980020048

申请日：1998-05-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H01H13/04

Abstract: 목적 : 본 발명은 긴급을 요하거나 비상사태 등 기계 설비의 가동을 긴급히 정지시킬 필요가 있을 때 외에는 오동작되지 않도록 한 비상스위치를 제공한다.
구성 : 본 발명의 비상스위치는 내부 공동을 보유하고 일측면이 개구된 스위치바디와,상기 스위치바디의 내부 소정 위치에 장착되는 스위치와,선단부에 간편하게 당겨 조작할 수 있는 손잡이를 갖추고, 하반부가 상기 스위치바디의 공동 내에 축 지지되고, 상기 손잡이에 연동하여 상기 스위치의 두 단자를 단락시키는 버튼과,상기 버튼의 이동을 구속하여버튼의 이동 위치를 유지시켜 주는 래칫기구와,상기 래칫기구를 연동하여 상기 버튼의 구속을 해방시키는 릴리즈가 구비된 것을 특징으로 한다.
효과 : 본 발명의 비상스위치는 간단하게 버튼을 당기는 조작만으로 기계 설비를 비상 정지시키는 것이면서도,예기치 않게 오동작되는 것을 방지할 수 있는 구조를 포함하고 있어서 사용자 과실로 인한 오조작을 방지할 수 있으므로, 기계 설비의 고장이나 제조 물류의 피해를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990070778A

公开(公告)日：1999-09-15

申请号：KR1019980005814

申请日：1998-02-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강현태 ,  박병철

IPC: H01L21/00

Abstract: 미스-얼라인 측정 장치용 카세트 받침대가 제공된다. 본 발명에 따른 미스-얼라인 측정 장치용 카세트 받침대는 카세트 받침용 몸체와 마찰 방지대로 구성된다. 카세트 받침용 몸체에는 사진 공정이 완료된 복수개의 웨이퍼가 담긴 카세트가 로딩된다. 그리고 마찰 방지대는 상기 몸체의 상면중 상기 몸체와 상기 카세트가 접촉하는 부위에 설치되어 상기 카세트와 상기 카세트 받침용 몸체간의 마찰을 방지한다.
본 발명에 따르면, 마찰 방지대에 의해 카세트와 카세트 받침용 몸체간의 직접 접촉에 의한 마찰 및 마찰에 의한 불순물 생성을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100188006B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019950047591

申请日：1995-12-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H03G3/00

Abstract: 본 발명은 2가지 속도로 볼륨레벨을 조정하여 원하는 볼륨레벨을 빠르게 조절할 수 있는 볼륨조절장치에 관한 것이다.
본 발명의 볼륨조절장치의 특징은 기설정된 초기값을 오른쪽 또는 왼쪽으로 쉬프트시키면서 볼륨의 업 또는 다운을 조절하는 제1 쉬프트 레지스터와 제2 쉬프트 레지스터를 구비한 볼륨조절장치에 있어서, 소정 주파수의 제1클럭신호를 소정배 분주한 제2클럭신호를 생성하고, 빠른 조절속도 또는 정상의 조절속도를 선택하기 위해 입력되는 볼륨조절속도 선택신호에 따라 상기 제1클럭신호와 상기 제2클럭신호를 선택적으로 출력하는 볼륨조절속도 선택부; 및 빠른 조절속도를 선택할 경우에는 상기 볼륨 업 또는 다운신호에 응답하여 제1클럭신호를 상기 제1 쉬프트 레지스터에 공급하고, 정상 조절속도를 선택할 경우에는 볼륨 업 또는 다운신호에 응답하여 상기 제2클럭신호를 상기 제1 쉬프트 레지스터에 공급하는 클럭공급부를 구비함에 있다.

公开(公告)号：KR100158629B1

公开(公告)日：1998-12-15

申请号：KR1019950020788

申请日：1995-07-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H04N5/60

Abstract: 이 발명은 다단계로 볼륨 조절이 가능한 디지탈 볼륨 제어 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면 종래에는 2dB 스텝만으로만 음량을 조절하였지만, 디지탈 볼륨 제어장치 내에 간단한 로직 게이트를 이용하여 큰 폭의 볼륨(10dB스텝)으로도 조절이 가능한 장치를 구성한 다단계로 볼륨 조절이 가능한 디지탈 볼륨 제어장치에 관한 것이다.
이 발명은 사용자의 욕구에 따라 다양화하는 기능에 하나로서, 간단한 로직 게이트로 멀티플렉서를 구성하여 일반적인 볼륨 제어(2dB 스텝)외에 큰 폭(10dB 스텝)으로 볼륨을 제어할 수 있도록 구성한 것이다.
이 발명의 이러한 효과는 오디오 제품이나 음향 기기가 내장된 가전 제품, 특히 텔레비전에 대한 볼륨 제어 부분에서 폭넓게 이용될 수 있는 장치이다.

公开(公告)号：KR100153112B1

公开(公告)日：1998-12-15

申请号：KR1019950030466

申请日：1995-09-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철 ,  김영철

IPC: H03K23/66

Abstract: 본 발명은 프로그램가능한 카운터를 공개한다. 그 회로는 클럭신호에 응답하여 0에서부터 2
n -1까지의 값을 1씩 증가하면서 카운팅하는 n개의 플립플롭들로 구성된 카운터, 카운터의 n개의 출력신호들과 카운팅 범위를 나타내는 n개의 신호들을 각각 비교하여 n개의 비교 출력신호들을 발생하기 위한 n개의 비교기들로 구성된 비교부, 및 리셋신호에 응답하여 카운터를 리셋하거나 비교부의 n개의 비교 출력신호들이 모두 동일함을 나타내는 신호인 경우에 반전 클럭신호에 응답하여 제어신호를 발생하여 카운터를 리셋하기 위한 리셋부로 구성되어 있다.

公开(公告)号：KR100120591B1

公开(公告)日：1997-10-22

申请号：KR1019940022457

申请日：1994-09-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철 ,  박상봉

IPC: H04N5/60

Abstract: a digital volume storing means to store digital volume value of n bit; a shift means to shift the n bit volume value to the left in response to a clock signal in response to the first signal and to shift the n bit volume value to the right in response to a clock signal in response to the second signal; a detection means to input the n bit volume value of previous state and to detect whether the output signal of the shift means equals to the n bit volume value of previous state; and a control means to control the operation of the shift means in response to the output signal of the detection means.

Abstract translation: 用于存储n位的数字音量值的数字音量存储装置; 移位装置，用于响应于第一信号响应于时钟信号将n位音量值向左移位，并且响应于第二信号响应于时钟信号将n位音量值向右移位; 输入前一状态的n位体积值并检测移位装置的输出信号是否等于先前状态的n位体积值的检测装置; 以及控制装置，用于响应于检测装置的输出信号来控制移位装置的操作。

公开(公告)号：KR1019970055269A

公开(公告)日：1997-07-31

申请号：KR1019950047591

申请日：1995-12-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H03G3/00

Abstract: 본 발명은 2가지 속도로 볼륨레벨을 조정하여 볼륨이 너무 높게 설정되거나 또는 너무 낮게 설정된 경우에 빠른 속도로 볼륨 레벨을 조절하고, 미세조정시에는 통상의 속도로 볼륨레벨을 조절할 수 있는 볼륨조절장치에 관한 것이다.
본 발명의 볼륨조절장치는 5비트 양방향 쉬프 레지스터와 7비트 양방향 쉬프트 레지스터로 구성되어 오른쪽/왼쪽으로 쉬프트하여 볼륨을 업/다운시켜 주는 볼륨조절장치에 있어서, 볼륨이 아주 높게 설정되거나 또는 아주 낮게 설정되어 있는 경우에는 빠른 조절속도를 선택하고, 미세조정시에는 통상의 조절속도를 선택하기 위한 볼륨 조절속도 선택부와, 볼륨 조절속도 선택부의 출력신호에 따라 빠른 조절속도 선택시에는 5비트 양방향 쉬프트 레지스터의 클럭단자를 2분주된 클럭신호로 인에이블시켜 주고, 정상의 조절속도 선택시에는 5비트 양방향 쉬프트 레지스터의 클럭단자를 통상의 클럭신호로 인에이블시켜 주기 위한 클럭 인에이블부로 이루어졌다.

公开(公告)号：KR1019970051886A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950055688

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전기현 ,  김용수 ,  박병철 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.
종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 사진공정장비 라인의 배치에서 웨이퍼 이송부와 인터페이스부를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하여 수리 및 점검시 작업공간을 충분히 확보할 수 있도록 하여 라인 내 공조를 안정시키고 작업시간을 줄여 수율을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.