公开(公告)号：KR1020040107953A

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：KR1020030038657

申请日：2003-06-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양재현 ,  황태진 ,  김현준 ,  이병무 ,  안요한

IPC: B01D46/12

CPC classification number: B01D46/0019 ,  B01D46/0002 ,  B01D46/42

Abstract: PURPOSE: To provide an apparatus for filtering air, which is able to eliminate inconveniency of replacing a chemical filter and maximize contaminants collection efficiency. CONSTITUTION: The apparatus (100) comprises a housing (110) that includes an air inlet (112) and an air outlet (114), a pre-filter (120) that collects particulate contaminants in the air flown in the housing, a medium filter (130) that is connected to the pre-filter and collects the particulate contaminants in the air flown in the housing, a filter assembly (150) that collects chemical contaminants in the air flown in the housing, a ventilator (170) that inhales the air inside of the housing to filter and discharges the inhaled air to the outside of the housing, and a HEPA filter (140) that is equipped at the air outlet of the housing to collect the particulate contaminants contained in the air to be discharged.

Abstract translation: 目的：提供过滤空气的设备，能够消除更换化学过滤器的不便之处，并最大限度地提高污染物的收集效率。 构成：装置（100）包括壳体（110），其包括空气入口（112）和空气出口（114），预过滤器（120），其收集在壳体内流动的空气中的颗粒污染物，介质 过滤器（130），其连接到所述预过滤器并收集在所述壳体中流动的空气中的颗粒污染物;过滤器组件（150），其收集在所述壳体中流动的空气中的化学污染物;吸入器 所述壳体内部的空气将所述吸入空气过滤并排出到所述壳体的外部;以及HEPA过滤器（140），所述HEPA过滤器（140）装备在所述壳体的空气出口处以收集要排放的空气中所含的微粒污染物。

公开(公告)号：KR1020040025749A

公开(公告)日：2004-03-26

申请号：KR1020020056297

申请日：2002-09-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황태진 ,  황정성 ,  김현준 ,  안요한 ,  김재봉 ,  김기두 ,  이건형

IPC: B01D53/86

CPC classification number: B01D53/885 ,  A61L9/205 ,  B01D53/22 ,  B01D53/8628 ,  B01D2255/20707 ,  B01D2255/20776 ,  B01D2255/20792 ,  B01D2255/802 ,  B01D2257/40 ,  B01D2257/50 ,  B01D2257/708

Abstract: PURPOSE: An air purifying device is provided which is capable of easily removing contaminants in the air and preventing reverse contamination by contaminant removing device. CONSTITUTION: The air purifying apparatus comprises a lower structure(10); a photocatalyst containing layer(20) comprising a photocatalyst(22) which is positioned on the lower structure to remove ambient contaminants by reacting with light; and a protection layer(30) positioned on the photocatalyst containing layer to prevent reverse contamination by the photocatalyst, wherein the lower structure is a wall surface of clean room for manufacturing semiconductors, facility for manufacturing semiconductors or a separate panel, wherein the photocatalyst containing layer is a paint comprising the photocatalyst, wherein the photocatalyst is one or more of photocatalysts selected from the group consisting of titanium oxide (TiO2), zinc oxide (ZnO), cadmium sulfide (CdS) and tungsten oxide (WO3), wherein the ambient contaminants are volatile organic compounds, carbon oxides (COx) or nitrogen oxides (NOx), wherein the protection layer is a membrane filter for passing the light and ambient contaminants except the photocatalyst, and wherein the membrane filter comprises pores having diameter of 10 μm or less.

Abstract translation: 目的：提供一种能够容易地去除空气中的污染物并防止污染物去除装置的反向污染的空气净化装置。 构成：空气净化装置包括下部结构（10）; 含有光催化剂层（20），其包含光催化剂（22），所述光催化剂（22）位于所述下部结构上以通过与光反应来除去环境污染物; 以及位于所述光催化剂含有层上以防止所述光催化剂的反向污染的保护层（30），其中所述下部结构是用于制造半导体的洁净室的壁表面，用于制造半导体的设备或单独的面板，其中所述光催化剂层 是包含光催化剂的涂料，其中光催化剂是选自氧化钛（TiO 2），氧化锌（ZnO），硫化镉（CdS）和氧化钨（WO 3））中的一种或多种光催化剂，其中环境污染物 是挥发性有机化合物，碳氧化物（COx）或氮氧化物（NOx），其中保护层是用于使除了光催化剂之外的光和环境污染物通过的膜过滤器，并且其中膜过滤器包括直径为10μm或更小的孔 。

公开(公告)号：KR100326432B1

公开(公告)日：2002-02-28

申请号：KR1020000028972

申请日：2000-05-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  이병무 ,  김현준 ,  최재흥

IPC: H01L21/027

Abstract: 화학 물질에 의한 공기의 오염과 웨이퍼의 패턴 프로파일의 저하를 방지할 수 있는 새로운 구조의 에어 샤워가 개시되어 있다. 프레임은 웨이퍼위에 제공되어 중앙부에는 웨이퍼의 표면상에 광을 조사하기 위한 구멍이 형성되고, 상기 구멍을 중심으로 구멍에서 멀어질수록 두껍게 형성되어 상면이 원추형 테이퍼상에 대응하는 오목부를 갖고, 하면은 개방되어 웨이퍼를 향하여 배치되며, 외측면은 폐쇄되어 있고, 내부는 외부로부터의 공기를 흡입하기 위한 공간을 구비한다. 프레임의 하면 주변부에 상기 프레임에 스터프가 물리적으로 결합된다. 스터프에는 웨이퍼의 상면을 향하여 균일한 압력으로 에어를 분출할 수 있도록 다수의 미세한 홀들이 형성되어 있다. 결합 부재는 스터프와 프레임을 물리적으로 결합한다. 에어 샤워의 프레임과 스터프간의 접합부위에 접착제를 사용하지 않아서, 접착제로부터 지속적으로 방출되는 유기 물질의 오염을 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000065515A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990011882

申请日：1999-04-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류재준 ,  안요한 ,  황태진 ,  오윤철

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: An apparatus for storing a semiconductor wafer is provided to prevent the semiconductor wafer from being contaminated, by having the apparatus for storing the semiconductor wafer self-control temperature and humidity, and by having the apparatus eliminate a specific ion. CONSTITUTION: In an apparatus for storing a semiconductor wafer comprising a unit for supplying air to an inside space from the exterior, the unit controls and purifies the temperature and humidity of the supplied air. The unit further comprises an evaporator(220), a fan(222), a thermal processing element and a second filter(226). The evaporator controls the humidity of air. The fan supplies air to the inside space from the exterior. The thermal processing element maintains the air at a proper temperature. The second filter eliminates a specific ion of the air.

Abstract translation: 目的：提供一种用于存储半导体晶片的装置，通过使用半导体晶片的自控温度和湿度的存储装置，并且使该装置消除特定离子，以防止半导体晶片被污染。 构成：在用于存储包括用于从外部向内部空间供应空气的单元的半导体晶片的装置中，该单元控制并净化供应空气的温度和湿度。 该单元还包括蒸发器（220），风扇（222），热处理元件和第二过滤器（226）。 蒸发器控制空气的湿度。 风扇从外部向内部空间供应空气。 热处理元件将空气保持在适当的温度。 第二个过滤器消除了特定的空气离子。

公开(公告)号：KR1019970072052A

公开(公告)日：1997-11-07

申请号：KR1019960010292

申请日：1996-04-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  윤진철 ,  양창집 ,  김호왕

IPC: H01L21/205

Abstract: 고청정 상태로 송풍되어 유입되는 공기의 흐름이 웨이퍼가 위치한 보트쪽으로 이루어지도록 공기가 유입되는 부분을 개선시킨 화학기상증착설비의 웨이퍼로딩실의 공기흐름안내장치에 관한 것이다.
본 발명은, 화학기상증착을 위한 반응실에 보트를 통하여 로딩되는 웨이퍼의 청정유지를 위하여 웨이퍼로딩실 내부로 청정 공기류를 제공하기 위한 송풍부에 있어서, 상기 송풍부의 내벽에 공기흐름을 일정방향으로 안내하기 위한 안내수단이 설치되어 이루어진다.
따라서, 저압화학기상증착 설비의 웨이퍼로딩실에서의 기류가 원활히 안내되고 와류가 형성되지 않아서 공기의 풍속이 적정 수준으로 유지되므로, 웨이퍼 로딩실내의 파티클 수가 격감되어 웨이퍼의 오염을 크게 줄일 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020100062392A

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：KR1020080121013

申请日：2008-12-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오형섭 ,  김기두 ,  김혁기 ,  안요한 ,  이민선 ,  이우용

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00 ,  H01L21/48

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67265

Abstract: PURPOSE: Machines and a method for manufacturing semiconductor devices are provided to increase or maximize a production yield by emitting a purge gas between a plurality of wafers mounted inside of a front opening unified pod(FOUP) in order to increase purge efficiency. CONSTITUTION: An FOUP(10) in which a plurality of wafers(1) is mounted is loaded on a load port(20). A process module(50) performs semiconductor manufacturing processes of the wafer. A transfer module(40) successively transfers the wafer between the process module and the load port. A machine front end module(30) provides a cleaning space between the process module and the load port. The machine front end module includes an opener which opens and closes the door of the FOUP. A purge module(60) purges inside of the FOUP.

Abstract translation: 目的：提供用于制造半导体器件的机器和方法，以通过在安装在前开口统一容器（FOUP）内部的多个晶片之间发射吹扫气体来增加或最大化生产产量，以便提高净化效率。 构成：其中安装有多个晶片（1）的FOUP（10）被装载在负载端口（20）上。 处理模块（50）执行晶片的半导体制造工艺。 传送模块（40）在处理模块和负载端口之间依次传送晶片。 机器前端模块（30）在处理模块和装载端口之间提供清洁空间。 机器前端模块包括打开和关闭FOUP的门的开启器。 吹扫模块（60）清洗FOUP内部。

公开(公告)号：KR1020070058177A

公开(公告)日：2007-06-08

申请号：KR1020050116512

申请日：2005-12-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조귀영 ,  김대원 ,  양재현 ,  김현옥 ,  최보람 ,  안요한 ,  함동석

IPC: H01L21/02

Abstract: A temperature control system of a clean room for a semiconductor fabricating process is provided to uniformly spray gas supplied from fan filter units by integrally forming the fan filter units, supports and panels, thereby uniformly adjusting internal temperature of the clean room. Plural fan filter units(110) are provided on a ceiling chamber(104) of a clean room. A panel(130) is installed on a lower end of each fan filter unit to uniformly distribute gas supplied from the fan filter unit into the clean room. Plural supports(120) connect the fan filter units with the panels, and support the panels. The supports are fixed to the panels by plural fixing members(122). The fan filter units, the supports, and the panels are integrally formed.

Abstract translation: 提供了一种用于半导体制造工艺的洁净室的温度控制系统，通过一体地形成风扇过滤器单元，支撑件和面板，从而均匀地调节洁净室的内部温度来均匀地喷射从风扇过滤器单元供应的气体。 多个风扇过滤器单元（110）设置在洁净室的顶棚室（104）上。 每个风扇过滤器单元的下端安装面板（130），以将从风扇过滤器单元供应的气体均匀地分配到洁净室中。 多个支撑（120）将风扇过滤器单元与面板连接，并支撑面板。 支撑件通过多个固定构件（122）固定到面板上。 风扇过滤器单元，支撑件和面板是一体形成的。

公开(公告)号：KR1020070019174A

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：KR1020050073884

申请日：2005-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최형석 ,  이용훈 ,  안요한 ,  이옥선

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70983 ,  H01L21/0273 ,  H01L22/24 ,  H01L22/30

Abstract: 본 발명은 반도체 노광 설비 및 펠리클 검사 방법에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 노광 설비는, 레티클과 펠리클이 분리되어 상기 레티클은 레티클 척의 상면에 탑재되고 상기 펠리클은 상기 레티클 척의 하면에 탈착가능하게 고정되어 상기 레티클 및 펠리클 사이에 일정한 공간을 형성하고, 상기 공간에 퍼징 기체를 도입 및 배출시키는 개구가 상기 레티클 척에 형성된 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 레티클 척 구조상에 간단하고 유용한 퍼징 시스템을 구현할 수 있어서 레티클의 패턴면에 대한 오염제어가 용이한 효과가 있다.
반도체, 레티클, 레티클 스테이지, 레티클 척, 펠리클

公开(公告)号：KR100612421B1

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：KR1020040086315

申请日：2004-10-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김현옥 ,  김대원 ,  안요한 ,  윤동환

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 수용하는 용기와 공정 설비간에 웨이퍼를 이송하는 기판 이송 시스템에 관한 것이다. 본 발명인 기판 이송 시스템은 기판들이 수용되는 용기가 놓여지는 용기수납부와; 상기 용기수납부와 공정설비 사이에 배치되어, 상기 용기수납부에 놓여진 용기와 상기 공정설비간 기판을 이송하는 이송로봇이 설치되는 크린부스와; 상기 크린부스 천정에 설치되어 상기 크린부스 내부로 공급되는 공기를 필터링 하는 필터; 및 상기 필터의 상부에 설치되어 상기 크린부스 내부로 공급되는 공기 내의 정전기를 제거하는 이오나이저(ionizer)를 포함한다. 이러한 구성을 갖는 본 발명의 기판 이송 시스템은 이오나이저의 유지 보수가 용이하고, 크린부스 내의 파티클 검출양을 줄일 수 있고, 이오나이저를 유지 보수하는 동안에도 설비 다운이 발생되지 않는다.
EFEM, FOUP, 압력, 송풍팬, 기판 이송 시스템

Abstract translation: 本发明涉及用于在容纳晶片的容器和处理设备之间传送晶片的衬底传送系统。 根据本发明的基板传送系统包括：容器容纳部分，其中放置容纳基板的容器; 一个设置在容器储存单元和处理设备之间并具有放置在容器储存单元上的容器和用于在处理设备之间传送基片的传送机器人的洁净室; 安装在洁净展台天花板上的过滤器，用于过滤进入洁净展台的空气; 并在过滤器上安装一个离子发生器，以清除供应到洁净室的空气中的静电。 具有这种构造的本发明的基板传送系统便于维护离子发生器，减少在洁净室中检测到的颗粒量，并且即使在维护离子发生器期间也不会导致设备停机。

公开(公告)号：KR1020060037147A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：KR1020040086315

申请日：2004-10-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김현옥 ,  김대원 ,  안요한 ,  윤동환

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67196

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 수용하는 용기와 공정 설비간에 웨이퍼를 이송하는 기판 이송 시스템에 관한 것이다. 본 발명인 기판 이송 시스템은 기판들이 수용되는 용기가 놓여지는 용기수납부와; 상기 용기수납부와 공정설비 사이에 배치되어, 상기 용기수납부에 놓여진 용기와 상기 공정설비간 기판을 이송하는 이송로봇이 설치되는 크린부스와; 상기 크린부스 천정에 설치되어 상기 크린부스 내부로 공급되는 공기를 필터링 하는 필터; 및 상기 필터의 상부에 설치되어 상기 크린부스 내부로 공급되는 공기 내의 정전기를 제거하는 이오나이저(ionizer)를 포함한다. 이러한 구성을 갖는 본 발명의 기판 이송 시스템은 이오나이저의 유지 보수가 용이하고, 크린부스 내의 파티클 검출양을 줄일 수 있고, 이오나이저를 유지 보수하는 동안에도 설비 다운이 발생되지 않는다.
EFEM, FOUP, 압력, 송풍팬, 기판 이송 시스템