公开(公告)号：KR1020000011593A

公开(公告)日：2000-02-25

申请号：KR1019990027645

申请日：1999-07-09

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬

IPC: C04B35/71

CPC classification number: B28B17/0018 ,  Y10T225/12

Abstract: PURPOSE: Ceramic board and its manufacturing method are provided which has no decrease of the strength and has the excellent dimensional accuracy. CONSTITUTION: Ceramic boards are manufactured by dividing of the ceramic sintered body through the grooves generated with the scraper. The line terminal equipment of the scraper is desirable to be made of cemented carbide or diamond. The depth of the groove is suitable between 1/100 and 1/10 to the thickness of ceramic board. This process is very simple, so the manufacturing cost is decreased, And, ceramic board that has no decrease of the strength and has the excellent dimensional accuracy can be obtained.

Abstract translation: 目的：提供陶瓷板及其制造方法，其强度不降低，尺寸精度优良。 构成：通过用刮刀产生的凹槽将陶瓷烧结体分开来制造陶瓷板。 刮刀的线路终端设备最好由硬质合金或金刚石制成。 槽的深度适合于陶瓷板厚度的1/100至1/10。 这个过程非常简单，因此制造成本降低，并且可以获得没有强度降低且尺寸精度优异的陶瓷板。

公开(公告)号：KR1019980033231A

公开(公告)日：1998-07-25

申请号：KR1019970055573

申请日：1997-10-28

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나카타히로히코

IPC: G03G15/20

Abstract: 본 발명은, 가열정착장치에 관하여, 보다 특정적으로는 가공롤러에 의한 가압과 내열성필름을 개재한 세라믹스히터에 의한 가열에 의해서, 내열성필름과 가압롤러와의 사이에 끼워져서 이동하는 종이 등의 전사재의 표면위에 형성된 토우너화상을 정착시키는 가열정착장치에 관한 것으로서, 단열효율을 개선한 세라믹스히터와 스테이와의 장착구조를 제공함으로써, 가열정착장치의 소비전력의 저감을 도모하는 것을 과제로 한 것이며, 그 해결수단으로서, 가열정착장치에 있어서 스테이(6)와 세라믹스히터(10)와의 사이에 단열층(11)을 형성하고, 단열층(11)의 열전도율이 스테이의 열전도율보다도 낮은 것을 특징으로 한 것이다.

公开(公告)号：KR100934827B1

公开(公告)日：2009-12-31

申请号：KR1020030023262

申请日：2003-04-14

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬 ,  구이비라아끼라

IPC: H01L21/68

Abstract: An inexpensive workpiece holder having high reliability and a processing apparatus equipped with the workpiece holder are provided, in which damage caused by oxygen in the air is prevented. The holder comprises: a ceramic body which has an electrode and a heater circuit and which can holds a workpiece; a tubular member having an end portion connected to the ceramic body; a sealing member which is disposed inside the tubular member and which isolates a space inside the tubular member into two regions: a region on the first end portion (""sealed portion"") and a region on the opposite side (""opposite region""); and power supply conductive members which extend from the opposite region side, penetrating the sealing member to the sealed region side, and which are electrically connected to the electrode and the heater circuit.

Abstract translation: 提供了一种具有高可靠性的廉价工件夹持器和一种装配有工件夹持器的加工设备，其中防止了由空气中的氧气引起的损坏。 该保持器包括：具有电极和加热器电路并且可以保持工件的陶瓷体; 具有连接到陶瓷主体的端部的管状构件; 密封构件，该密封构件布置在管状构件的内部并且将管状构件内的空间分隔成两个区域：第一端部（“密封部分”）上的区域和相对侧（“密封部分” ;“相对区域”）; 以及供电导电构件，其从相对区域侧延伸，穿过密封构件到密封区域侧，并且电连接到电极和加热器电路。

公开(公告)号：KR100919734B1

公开(公告)日：2009-09-29

申请号：KR1020047007498

申请日：2003-03-19

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬 ,  구이비라아끼라 ,  하시꾸라마나부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68757 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67248

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 보유 지지 가열할 때의 국소적인 가열을 억제하여 웨이퍼 보유 지지면의 균열성을 높인 웨이퍼 보유 지지 부재를 제공하고, 이 웨이퍼 보유 지지 부재를 이용함으로써 대구경의 웨이퍼의 처리에도 적합한 반도체 제조 장치를 제공하는 것이다.
세라믹스 기체(2) 중에 저항 발열체(3) 등을 갖고, 리드(4)가 반응 용기(6)를 관통하여 설치된 웨이퍼 보유 지지 부재(1)이며, 리드(4)를 통형의 가이드 부재(5) 내에 수납하여 가이드 부재(5)와 반응 용기(6) 사이 및 가이드 부재(5)의 내부에서 기밀 밀봉되어 있다. 가이드 부재(5)와 세라믹스 기체(2)는 접합되어 있지 않고, 내부 밀봉된 가이드 부재(5) 내의 세라믹스 기체(2)측의 분위기가 반응 용기(6) 내의 분위기와 실질적으로 동일한 것이 바람직하다.

公开(公告)号：KR100877042B1

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：KR1020047003511

申请日：2003-02-26

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 구이비라아끼라 ,  나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  H05B3/74 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67103

Abstract: A heating device for manufacturing semiconductor capable of uniformly heating a wafer or other materials to be treated, and in particular a heating device in a coater-developer used for heat-hardening of resin film for photolithography and for heat-calcining of low-dielectric constant insulating film, is provided. A device of this invention comprises a ceramic holder 1 having a resistive heating element 2 embedded therein, which holds and heats a wafer 6 or another material to be treated; a cylindrical support member 4 which supports the ceramic holder 1; and a chamber 5 which houses these. The support member 4 and ceramic holder 1 are not hermetically sealed, or alternatively the atmospheres within the cylindrical support member 4 and within the chamber 5 are maintained to be substantially the same by adjusting the introduction and evacuation of gas.

Abstract translation: 一种用于制造半导体的加热装置，其能够均匀地加热待处理的晶片或其它材料，特别是用于光刻用树脂膜的热固化和低介电常数的热煅烧的涂覆显影剂中的加热装置 提供绝缘膜。 本发明的装置包括陶瓷夹持器1，陶瓷夹持器1具有嵌入其中的电阻加热元件2，该电阻加热元件2保持并加热晶片6或待处理的另一种材料; 支撑陶瓷支架1的圆柱形支撑件4; 和容纳这些的室5。 支撑构件4和陶瓷支架1不是气密密封的，或者可选地，通过调节气体的引入和排出，圆柱形支撑构件4内和室5内的气氛保持基本相同。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR100778612B1

公开(公告)日：2007-11-22

申请号：KR1020020019365

申请日：2002-04-10

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬 ,  구이비라아끼라 ,  신마겐지

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67103 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68714 ,  Y10T279/23

Abstract: 본 발명의 기판처리장치에서는, 기판을 탑재하는 세라믹스 모듈(1)은, 전기회로(3a, 3b, 3c)와 세라믹스 기체(2)를 가지는 평판형상부를 가지고, 또한 기판(20)을 탑재하는 면 이외의 평판형상부의 적어도 일부의 면이 챔버(4)와 접촉함으로써 챔버(4)에 지지되어 있다.
이에 따라, 균열성을 양호하게 할 수 있고, 비용을 저감할 수 있으며, 장치의 소형화에 유리하면서도 급전용 도전부재 등의 부착 제한을 완화할 수 있는 기판처리장치를 얻을 수 있다.
챔버, 기판 유지체, 세라믹스 기체, 전기회로, 급전용 도전부재, 온도 측정용 단자, 피복부재

公开(公告)号：KR100773211B1

公开(公告)日：2007-11-02

申请号：KR1020060077904

申请日：2006-08-18

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬 ,  구이비라아끼라 ,  신마겐지

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67103

Abstract: 본 발명의 피가열물 탑재용 히터 부재는 피가열물을 탑재하여 가열하는 피가열물 탑재용 히터 부재에 있어서, 반도체 웨이퍼나 액정용 기판 등의 기판(10)을 탑재하는 면 이외의 적어도 일부의 면이 경면이다.
이에 의해, 소정 온도로 가열할 때의 히터로 투입하는 전력을 저감할 수 있어, 지금까지 이상으로 효율적으로 피가열물을 가열할 수 있는 피가열물 탑재용 히터 부재 및 그를 이용한 기판 처리 장치를 얻을 수 있다.
피가열물 탑재용 히터 부재, 반도체 웨이퍼, 액정용 기판, 세라믹스 모듈, 챔버

公开(公告)号：KR1020050042746A

公开(公告)日：2005-05-10

申请号：KR1020047009494

申请日：2003-09-26

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬 ,  구이비라아끼라 ,  하시꾸라마나부

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68792 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143

Abstract: A wafer holder capable of preventing fixed cylindrical bodies and/or fixed support bodies from being damaged by a thermal stress at the time of a heating treatment, and a highly reliable semiconductor manufacturing apparatus using the wafer holder, the wafer holder wherein at least two of the fixed cylindrical bodies (5) and/or fixed support bodies are fixed to a ceramic heater (2) at one ends and fixed to a reaction container (4) at the other ends, and where the maximum reaching temperature of the ceramic heater (2) is T1, the coefficient of thermal expansion of the ceramic heater (2) is alpha1, the maximum reaching temperature of the reaction container (4) is T2, the coefficient of thermal expansion of the reaction container (4) is alpha 2, a longest distance between the plurality of fixed cylindrical bodies (5) and/or fixed support bodies on the ceramic heater (2) at the room temperature is L1, and a longest distance between the plurality of fixed cylindrical bodies (5) and/or fixed support bodies on the reaction container (4) at the room temperature is L2, the requirement of a relational expression |(T1 x alpha1 x L1) - (T2 x alpha2 x L2)|

Abstract translation: 一种能够防止固定的圆柱体和/或固定支撑体在加热处理时被热应力损坏的晶片保持器，以及使用该晶片保持器的高度可靠的半导体制造装置，其中至少两个 固定圆筒体（5）和/或固定支撑体一端固定在陶瓷加热器（2）上，并固定在另一端的反应容器（4）上，陶瓷加热器 2）为T1时，陶瓷加热器（2）的热膨胀系数为α1，反应容器（4）的最大到达温度为T2，反应容器（4）的热膨胀系数为α2， 多个固定圆柱体（5）和/或陶瓷加热器（2）之间在室温下的固定支撑体之间的最长距离为L1，多个固定圆柱体（5）和/或 固定 反应容器（4）在室温下的支撑体为L2，关系式|（T1×α1×L1） - （T2×α2×L2）| <= 0.7mm。

公开(公告)号：KR100468346B1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：KR1020027008530

申请日：2001-10-19

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬

IPC: G03G15/20

CPC classification number: G03G15/2064 ,  G03G2215/2016 ,  G03G2215/2035

Abstract: In a heating-type toner-fixing unit using a ceramic heater and a cylindrical fixing film, the shape of the fixing face-side surface of a ceramic heater 10 which comes into contact with a fixing film 3 and the shape of the portions of a heater support 12 at least adjacent to the fixing face-side surface are formed into a shape that is almost identical to a naturally deformed shape of the fixing film 3 in a static state or a traveling state where the fixing film is pressed by a pressure roller 4 at a designated nip width. It is also possible that the nip portion and portions adjacent thereto at the entrance side and exit side are formed into a flat shape and portions other than the flat portions are formed into a curved surface shape along the cylindrical shape of the fixing film 3.

Abstract translation: 在使用陶瓷加热器和圆筒形定影薄膜的加热型调色剂定影单元中，与定影薄膜3接触的陶瓷加热器10的定影表面侧表面的形状和 至少与固定面侧表面相邻的加热器支撑件12被形成为几乎与定影膜3的自然变形形状相同的形状，处于静止状态或行进状态，其中定影膜被加压辊 4在指定的压区宽度。 也可能的是，在入口侧和出口侧的咬合部分和与其相邻的部分形成为平坦形状，并且除了平坦部分以外的部分沿定影膜3的圆柱形状形成为曲面形状。＆lt;＆lt;＆lt;＆lt;＆lt; ;图像＆gt;

公开(公告)号：KR1020030084683A

公开(公告)日：2003-11-01

申请号：KR1020030025633

申请日：2003-04-23

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 구이비라아끼라 ,  나쯔하라마스히로 ,  나까따히로히꼬

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H05B3/143 ,  H05B3/265

Abstract: 세라믹 서셉터의 웨이퍼 보유면은 우수한 등온성을 갖고, 세라믹 서셉터는 반도체 제조 장치 및 액정 제조 장치에의 사용에 적합하다. 판형 세라믹 소결체(1)에 저항 발열체(2)가 형성된다. 세라믹 소결체 외주 엣지(1a)와 실질적인 저항 발열체 영역 외주 엣지(2a) 사이의 풀백 길이(L)의 변동은 ±0.8% 이내이고, 웨이퍼-보유면 전면의 등온비는 ±1.0% 이하이다. 풀백 길이(L)의 변동을 ±0.5% 이내로 함으로서 달성될 수 있는 ±0.5% 이하의 우수한 등온비가 바람직하다.