발열 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 발열 기판
    21.
    发明授权
    발열 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 발열 기판 有权
    用于加热基板和加热基板的制造方法

    公开(公告)号:KR101601830B1

    公开(公告)日:2016-03-10

    申请号:KR1020140194212

    申请日:2014-12-30

    CPC classification number: H05B3/10 H05B3/20 H05B3/38 H05B2214/04

    Abstract: 본발명은기판상부에과불소중합체패턴을형성하는단계(단계 1); 상기단계 1에서패턴이형성된기판에탄소나노튜브를포함하는나노물질; 및전도성고분자, 탄소나노플레이트, 금속나노와이어, 금속입자, 세라믹입자, 그래핀및 산화그래핀으로이루어지는군으로부터선택되는 1 종이상을포함하는보조물질;을도포하는단계(단계 2); 상기단계 2의기판에형성된과불소중합체패턴을제거하는단계(단계 3);를포함하는발열기판의제조방법을제공한다. 본발명에따른발열기판의제조방법은리프트-오프방법으로탄소나노튜브를포함하는나노물질패턴을제조함에있어서, 과불소중합체를사용하기때문에포토레지스트와탄소나노튜브등의나노물질을도포할때 사용되는용매의화학적반응에대한문제가없으며, 과불소중합체패턴을제거하는것이용이한효과가있다. 이와같이, 기판및 탄소나노튜브를포함하는패턴에손상을가하지않기때문에발열기판으로서의성능이우수한효과가있다.

    Abstract translation: 本发明提供一种加热基板的制造方法,包括以下步骤:(1)形成基板上侧的全氟聚合物图案; (2)扩展包括碳纳米管和辅助材料的纳米材料,其包括选自由导电聚合物,碳纳米板,金属纳米线,金属颗粒,陶瓷颗粒,石墨烯和碳纳米管组成的组中的至少一种 在其中在步骤(1)中形成图案的基板上形成氧化石墨; 和(3)除去在步骤(2)的基板上形成的全氟聚合物图案。 当以剥离法制造包括碳纳米管的纳米材料图案时,根据本发明的加热基板的制造方法对于用于铺展纳米材料如光致抗蚀剂的溶剂的化学反应没有问题 ,碳纳米管等,由于使用全氟聚合物,能够容易地除去全氟聚合物图案。 因此,作为加热基板的性能优异,因为包括基板和碳纳米管的图案不被损坏。

    나노 물질 패턴의 제조방법
    22.
    发明授权
    나노 물질 패턴의 제조방법 有权
    纳米材料的制造方法

    公开(公告)号:KR101588290B1

    公开(公告)日:2016-01-26

    申请号:KR1020140077599

    申请日:2014-06-24

    Abstract: 본발명은기판상부에과불소중합체패턴을형성하는단계(단계 1); 상기단계 1의패턴이형성된기판에나노물질이분산되어있는분산액을도포하는단계(단계 2); 및상기단계 2의기판에형성된과불소중합체패턴을제거하는단계(단계 3);를포함하는나노물질패턴의제조방법을제공한다. 본발명에따른나노물질패턴의제조방법은리프트-오프방법으로유기기판에삽입된나노물질패턴을제조함에있어서, 과불소중합체를사용하여나노물질패턴을형성하고난후의과불소중합체패턴을제거하는것이용이하며, 기판및 나노물질에손상을가하지않기때문에우수한나노물질패턴을형성할수 있다.

    패턴의 형성방법
    23.
    发明公开
    패턴의 형성방법 有权
    形成图案的方法

    公开(公告)号:KR1020150070609A

    公开(公告)日:2015-06-25

    申请号:KR1020130157035

    申请日:2013-12-17

    Abstract: 본발명은볼록부와오목부가형성된고분자몰드를준비하는단계(단계 1); 폴리(퍼플루오로알킬메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는폴리(퍼플루오로알킬아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)를포함하는고분자용액을준비하는단계(단계 2); 상기단계 1에서준비된고분자몰드에상기단계 2에서준비된고분자용액을도포하여고분자몰드의볼록부표면에고분자층을형성하는단계(단계 3); 및상기단계 3에서고분자층이형성된고분자몰드를기판에접촉시켜고분자몰드의볼록부표면에형성된고분자층을전사하는단계(단계 4);를포함하는패턴의형성방법을제공한다. 본발명에따른패턴의형성방법은미세인쇄접촉기술을이용하여간단하게패턴을구현함과동시에, 폴리(퍼플루오로알킬메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는폴리(퍼플루오로알킬아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate) 고분자를사용하여표면처리없이패턴을형성할수 있고, 상온에서인쇄가가능하다. 또한, 상기패턴이형성된기판을사용하여금속을증착시키고, 패턴을제거하여금속패턴이형성된기판을제조하는경우플루오르계용매를사용하여기판에손상을최소화할수 있다.

    Abstract translation: 本发明提供一种图案形成方法。 图案形成方法包括:制备包括凹形单元和凸起单元的聚合物模具的第一步骤; 制备包括聚全氟烷基甲基丙烯酸酯或聚全氟烷基丙烯酸酯的聚合物溶液的第二步骤; 将在第二步骤中制备的聚合物溶液涂布到在第一步骤中制备的聚合物模具上以在聚合物模具中的凸起单元的表面上形成聚合物层的第三步骤; 以及第四步骤,使具有第三步骤中形成的聚合物层的聚合物模具与基底接触,以转移形成在聚合物模具中凸起单元表面上的聚合物层。 根据本发明,图案形成方法使用文件印刷接触技术简单地实现图案,使用聚全氟烷基甲基丙烯酸酯或聚全氟烷基丙烯酸酯形成图案而不进行表面处理工艺,并在室温下印刷。 此外,本发明使用具有金属沉积图案的基板,并且当通过去除图案形成金属图案来制造基板时,使用氟基溶剂来最小化对基板的损伤。

    발광다이오드용 방열기판 및 이의 제조방법
    24.
    发明公开
    발광다이오드용 방열기판 및 이의 제조방법 审中-实审
    LED的散热基板及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020140103717A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:KR1020130017499

    申请日:2013-02-19

    Inventor: 박세근 김명수

    CPC classification number: H01L33/641 H01L2933/0075

    Abstract: The present invention relates to a heat radiating substrate for light emitting diode and a method for manufacturing the same comprising a substrate; and a thick film of poly-crystalline silicon carbide (SiC) formed on the surface of the substrate. According to the present invention, a heat radiating substrate for light emitting diode is able to enlarge area of the heat radiating substrate with poly-crystalline silicon carbide capable of enlarging area compared to the previous single-crystalline silicon carbide, and has an excellent effect in terms of price competitiveness due to relatively low manufacturing costs. In addition, because the poly-crystalline silicon carbide has similar level of heat conductivity compared to the previous single-crystalline silicon carbide, the present invention of heat radiating substrate has an advantage in demonstrating good heat radiation property.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于发光二极管的散热基板及其制造方法,该方法包括一基板; 以及形成在基板表面上的多晶碳化硅(SiC)的厚膜。 根据本发明,与先前的单晶碳化硅相比,能够扩大面积的多晶碳化硅能够扩大发光二极管用散热基板的面积,具有优异的效果 由于制造成本相对较低,价格竞争力的条件。 此外,由于与先前的单晶碳化硅相比,多晶碳化硅具有相似的热导率,本发明的散热衬底具有显示良好的散热性能的优点。

    플립칩형 발광 소자용 서브 마운트 기판 및 제조 방법
    25.
    发明授权
    플립칩형 발광 소자용 서브 마운트 기판 및 제조 방법 有权
    用于包装发光二极管的安装基板和用于制造的方法

    公开(公告)号:KR101432728B1

    公开(公告)日:2014-08-21

    申请号:KR1020130019210

    申请日:2013-02-22

    Inventor: 박세근 이다혁

    Abstract: Disclosed is a fabricating method of a sub-mount substrate for a flip chip type light emitting device. The fabricating method of the sub-mount substrate for a flip chip type light emitting device comprises a first progress step to a fifth progress step. The first progress step is a step of providing a substrate. The second progress step is a step of forming a first region and a second region having a step by partially etching the substrate. The third step is a step of forming a contact hole passing through the first region and second region. The fourth step is a step of forming an insulating thin film on the surface of the substrate on which the contact hole is formed. The fifth step is a step of forming a conductive layer in the contact hole. The first region and the second region are configured to be in contact with a flip chip for a light-emitting device.

    Abstract translation: 公开了一种用于倒装芯片型发光器件的子安装基板的制造方法。 用于倒装芯片型发光器件的子安装基板的制造方法包括第一进行步骤至第五进行步骤。 第一进展步骤是提供基板的步骤。 第二进行步骤是通过部分蚀刻基板来形成第一区域和具有台阶的第二区域的步骤。 第三步骤是形成穿过第一区域和第二区域的接触孔的步骤。 第四步骤是在形成有接触孔的基板的表面上形成绝缘薄膜的步骤。 第五步骤是在接触孔中形成导电层的步骤。 第一区域和第二区域被配置为与用于发光器件的倒装芯片接触。

    복층 구조를 가진 마이크로 렌즈 제조 방법
    26.
    发明授权
    복층 구조를 가진 마이크로 렌즈 제조 방법 有权
    双层微透镜的制造方法

    公开(公告)号:KR101127227B1

    公开(公告)日:2012-03-29

    申请号:KR1020100016900

    申请日:2010-02-25

    Inventor: 박세근 김한형

    Abstract: 본 발명은 복층 구조를 가진 마이크로 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, ⒜ 제1 마이크로 렌즈 마스터를 제작함에 기반하여 제1 마이크로 렌즈를 형성하기 위한 제1 몰드(Mold)를 형성하는 단계; ⒝ 제2 마이크로 렌즈 마스터를 제작함에 기반하여 상기 제1 마이크로 렌즈의 표면 위에 제2 마이크로 렌즈를 형성하기 위한 제2 몰드(Mold)를 형성하는 단계; 및 ⒞ 상기 제1 몰드(Mold)에 기반하여 제1 소정의 직경을 갖는 제1 마이크로 렌즈를 소프트 리소그래피(Soft Lithography) 공정을 통해 형성하고, 상기 제2 몰드(Mold)에 기반하여 상기 형성된 제1 마이크로 렌즈의 표면 위에 제2 소정의 직경을 갖도록 형성되는 제2 마이크로 렌즈를 소프트 리소그래피(Soft Lithography) 공정을 통해 형성하는 단계; 를 포함한다.
    따라서, 본 발명에 의하면, 종래에 비해 마이크로 렌즈를 통해 투과한 광원의 집광성이 향상되고 또한 광원 투과성이 향상된 마이크로 렌즈를 제공하는 효과가 있으며, 마이크로 렌즈의 보급 및 활용분야 증대에 기여할 수 있는 효과도 있다.

    임프린팅 공정을 이용한 패턴된 사파이어 기판 제조 방법
    27.
    发明公开
    임프린팅 공정을 이용한 패턴된 사파이어 기판 제조 방법 无效
    使用印花的刨花板基材的制作方法

    公开(公告)号:KR1020120006001A

    公开(公告)日:2012-01-17

    申请号:KR1020110147476

    申请日:2011-12-30

    Inventor: 박세근 김한형

    CPC classification number: B29C59/02 B29C2059/028 G03F7/0002 H01L21/0274

    Abstract: PURPOSE: A patterned sapphire substrate manufacturing method which uses an imprinting process is provided to use a molder in which an intaglio pattern is formed, thereby arranging various shapes of patterns. CONSTITUTION: A molder(10) in which an intaglio pattern is formed is prepared. The molder is manufactured using one or more elements among silicon, polymer resin, nickel, and silica. A polymer resin(30) is laminated on a sapphire substrate(20). The molder is arranged on the sapphire substrate in which the polymer resin laminated. The polymer resin is solidified by applying heat or ultraviolet rays. The sapphire substrate and the molder are separated.

    Abstract translation: 目的:提供使用压印工艺的图案化蓝宝石衬底制造方法,以使用其中形成凹版图案的成型机,从而布置各种形状的图案。 构成:制备形成凹版图案的成型机(10)。 使用硅,聚合物树脂,镍和二氧化硅中的一种或多种元素制造成型机。 聚合物树脂(30)层压在蓝宝石衬底(20)上。 模塑机布置在聚合物树脂层压的蓝宝石衬底上。 聚合物树脂通过加热或紫外线固化。 分离蓝宝石衬底和成型机。

    복층 구조를 가진 마이크로 렌즈 제조 방법
    28.
    发明公开
    복층 구조를 가진 마이크로 렌즈 제조 방법 有权
    具有双层微晶玻璃的制造方法

    公开(公告)号:KR1020110097194A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:KR1020100016900

    申请日:2010-02-25

    Inventor: 박세근 김한형

    CPC classification number: G02B3/0031 B29C59/022 G03F7/0002 G03F7/70325

    Abstract: 본 발명은 복층 구조를 가진 마이크로 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, ⒜ 제1 마이크로 렌즈 마스터를 제작함에 기반하여 제1 마이크로 렌즈를 형성하기 위한 제1 몰드(Mold)를 형성하는 단계; ⒝ 제2 마이크로 렌즈 마스터를 제작함에 기반하여 상기 제1 마이크로 렌즈의 표면 위에 제2 마이크로 렌즈를 형성하기 위한 제2 몰드(Mold)를 형성하는 단계; 및 ⒞ 상기 제1 몰드(Mold)에 기반하여 제1 소정의 직경을 갖는 제1 마이크로 렌즈를 소프트 리소그래피(Soft Lithography) 공정을 통해 형성하고, 상기 제2 몰드(Mold)에 기반하여 상기 형성된 제1 마이크로 렌즈의 표면 위에 제2 소정의 직경을 갖도록 형성되는 제2 마이크로 렌즈를 소프트 리소그래피(Soft Lithography) 공정을 통해 형성하는 단계; 를 포함한다.
    따라서, 본 발명에 의하면, 종래에 비해 마이크로 렌즈를 통해 투과한 광원의 집광성이 향상되고 또한 광원 투과성이 향상된 마이크로 렌즈를 제공하는 효과가 있으며, 마이크로 렌즈의 보급 및 활용분야 증대에 기여할 수 있는 효과도 있다.

    임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물제조방법
    29.
    发明公开
    임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물제조방법 有权
    使用IMPRINTRING LITHOGRAPHY PROCESS和PHOTO LITHOGRAPHY PROCESS制作3D图案的方法

    公开(公告)号:KR1020090054720A

    公开(公告)日:2009-06-01

    申请号:KR1020070121547

    申请日:2007-11-27

    Inventor: 박세근 김한형

    Abstract: A method for manufacturing a three dimensional structure is provided to facilitate the formation of the three dimensional pattern with a complex structure without an additional process for removing a residual layer by using the imprint and a photo lithography process. A photo resist is deposited by performing spin coating in an upper part of a substrate(S110). An imprint process is performed on the deposited photo resist with a predetermined temperature and a predetermined pressure by using a mold with a predetermined pattern(S120). A three dimensional structure with a specific pattern is formed through an exposure process and a development process by using a photo mask with the predetermined pattern on the structure(S130). The thickness of a photo resist residual layer is controlled through an imprint process time. The imprint process time is 1 to 60 seconds.

    Abstract translation: 提供一种用于制造三维结构的方法,以便利用复杂结构形成三维图案,而不需要通过使用压印和光刻工艺去除残留层的附加工艺。 通过在基板的上部进行旋涂来沉积光致抗蚀剂(S110)。 通过使用具有预定图案的模具在预定温度和预定压力下对沉积的光致抗蚀剂进行压印处理(S120)。 通过在结构上使用具有预定图案的光掩模,通过曝光处理和显影处理形成具有特定图案的三维结构(S130)。 通过压印处理时间控制光致抗蚀剂残留层的厚度。 打印处理时间为1到60秒。

    센서용 전극의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 센서
    30.
    发明授权
    센서용 전극의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 센서 有权
    使用传感器和传感器的电极的制造方法

    公开(公告)号:KR101651108B1

    公开(公告)日:2016-08-26

    申请号:KR1020150020162

    申请日:2015-02-10

    Abstract: 본발명은기판에과불소중합체를사용하여중합체패턴을형성하며, 상기형성된중합체패턴에은 나노와이어를포함하는분산액을도포하여패턴을형성하고, 상기은 나노와이어패턴상부에산화아연나노로드를포함하는분산액을도포하여적층시키고, 상기적층된산화아연나노로드상부에은 나노와이어를포함하는분산액을도포한후, 과불소중합체패턴을제거하여센서용전극을제조하는방법을제공한다. 본발명에따른센서용전극의제조방법은은 나노와이어및 산화아연나노로드를패턴화및 적층시키는방법으로, 기판에손상을가하지않고은 나노와이어및 산화아연나노로드를패턴화시킬수 있다. 또한, 은나노와이어및 산화아연나노로드를교차코팅함으로서개별산화아연나노로드간의전기적연결성이우수하여유연성기판에적용할수 있다. 특히, 유기기판의손상없이은 나노와이어및 산화아연나노로드가패턴화된유연성전극을제조할수 있는방법이다. 또한, 제조되는센서용전극을가스센서또는 UV 센서로응용하는경우우수한반응특성을나타낸다.

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