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公开(公告)号：KR101805805B1
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020150177385
申请日：2015-12-11
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은기판; 및상기기판상부에형성된폴리(퍼플루오로알킬메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는폴리(퍼플루오로알킬아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)를포함하는불소계고분자박막;을포함하고, 상기불소계고분자박막은규칙적으로반복된원형패턴이볼록하게형성된것을특징으로하는항균소재를제공한다. 본발명에따른불소계고분자박막이형성된항균소재는, 패턴이형성된불소계고분자박막으로인해, 상기박막표면의세균증식을억제하고, 높은소수성을띄며, 광투과율이높아의료기기용카메라등에적용가능한장점이있다. 또한, 본발명에따른불소계고분자박막이형성된항균소재의제조방법은, 복잡한공정과정으로수행되지않고, 후처리가필요하지않으며, 박막의제거역시간단한장점이있다.
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公开(公告)号：KR101638340B1
公开(公告)日：2016-07-12
申请号：KR1020150030853
申请日：2015-03-05
Applicant: 인하대학교 산학협력단
CPC classification number: G02B3/0012 , B29D11/00365 , G02B1/041
Abstract: 본발명은이중마이크로렌즈의제조방법및 이에따라제조되는이중마이크로렌즈에관한것으로써, 상세하게는기판상에포토레지스트를 1 내지 300 ㎛의두께로코팅한후, 2 내지 600 ㎛직경인복수개의원형패턴으로노광하는단계(단계 1); 상기단계 1의노광이수행된포토레지스트상부에 5 내지 600 ㎛의두께로포토레지스트를코팅한후, 10 내지 3000 ㎛직경인복수개의원형패턴으로노광하는단계(단계 2); 노광이수행된포토레지스트를제거하는단계(단계 3); 상기단계 3에서포토레지스트가제거된기판상부로고분자를코팅한후 경화시키는단계(단계 4); 및상기단계 4에서경화된고분자를박리시키는단계(단계 5);를포함하는이중마이크로렌즈의제조방법을제공한다. 본발명의제조방법은기존의제조방법과비교하여저비용으로이중마이크로렌즈를제조할수 있는효과가있다. 또한, 본발명의제조방법에따라제조되는이중마이크로렌즈는 LED 소자의광추출효율및 광확산각도를증대시킬수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种双微透镜及其制造的双微透镜的制造方法。 双微透镜的制造方法包括：在光致抗蚀剂以1-300μm的厚度涂布在基板上之后，将直径为2-600μm的多个圆形图案的光曝光的步骤（步骤1）; 在光致抗蚀剂被涂布在执行步骤1中的曝光的光致抗蚀剂的上部上的10-3000μm直径的多个圆形图案中的光的曝光步骤（步骤2）的厚度为 5-600μm; 去除其中进行曝光的光致抗蚀剂的步骤（步骤3）; 在步骤3中在其上除去光致抗蚀剂的基板的上部上涂覆聚合物并使聚合物硬化的步骤（步骤4） 以及在步骤4中分离硬化的聚合物的步骤（步骤5）。根据本发明，与现有的制造方法相比，制造方法可以以低成本制造双微透镜。 此外，根据本发明的制造方法制造的双微透镜可以增加光漫射角度并且可以提高LED元件的光提取效率。
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公开(公告)号：KR101617718B1
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020140166294
申请日：2014-11-26
Applicant: 인하대학교 산학협력단
CPC classification number: B29C59/00 , B29C41/085
Abstract: 본발명은패턴이형성된몰드를준비하는단계(단계 1); 상기단계 1에서준비된몰드에폴리(퍼플루오로알킬메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는폴리(퍼플루오로알킬아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)를포함하는고분자용액을도포하여고분자층을형성하는단계(단계 2); 및상기단계 2에서고분자용액이도포된몰드를기판에접촉시켜고분자층을전사하여고분자패턴을형성하는단계(단계 3);를포함하는초소수성박막의제조방법을제공한다. 본발명에따른초소수성박막의제조방법은미세인쇄접촉기술을이용하여간단하게초소수성박막을제조함으로써, 종래기술에비하여매우빠른시간에저비용으로초소수성박막을제조할수 있는효과가있다. 또한, 플루오르계고분자를사용하여표면처리없이패턴을형성할수 있고, 상온에서인쇄가가능하다.본발명에따른초소수성박막은금속기판에형성되었을경우우수한부식방지효과가있으며, 투명기판에형성되었을경우우수한투과도를나타낼수 있다.
Abstract translation: 本发明提供一种制造超疏水性薄膜的方法，包括以下步骤：制备其上形成图案的模具（步骤1）; 通过在步骤1（步骤2）制备的模具上涂布含有聚（全氟烷基甲基丙烯酸酯）或聚（全氟烷基丙烯酸酯）的聚合物溶液形成聚合物层; 并通过使在步骤2中涂覆有聚合物溶液的模具与基底接触以形成聚合物图案以转移聚合物层（步骤3）。 根据本发明的制造超疏水薄膜的方法有助于使用微接触印刷技术制造超疏水薄膜，从而能够以比常规技术更低的成本在更短的时间内制造超疏水性薄膜。 此外，使用氟系聚合物，从而能够在室温下进行表面处理和印刷而形成图案。 根据本发明的超疏水性薄膜具有：在金属基材上形成时具有优良的防腐蚀效果; 并且在形成在透明基板上的情况下具有优异的透光率。
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公开(公告)号：KR1020130120848A
公开(公告)日：2013-11-05
申请号：KR1020120044039
申请日：2012-04-26
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: The present invention relates to a method of fabricating zinc oxide nanorod arrays laterally grown in a single direction which forms a zinc oxide seed layer with the sputtering method in the state of applying a predetermined angle to a substrate, forms metal line patterns on the zinc oxide seed layer with the lift-off method, etches the substrate having metal line patterns formed, and grows zinc oxide nanorods in a single direction by performing the hydrothermal synthesis method to the manufactured substrate. The method of fabricating zinc oxide nanorod arrays laterally grown in a single direction according to the present invention is characterized in comprising a first step of forming a zinc oxide seed layer by applying an angle to a substrate mounted on a substrate holder; a second step of forming at least one metal line pattern on the zinc oxide seed layer formed in the first step with the lift-off method; a third step of etching the zinc oxide seed layer on the substrate patterned with the metal lines; and a fourth step of growing zinc oxide nanorods in a lateral direction by performing the hydrothermal synthesis method to the substrate etched in the third step. [Reference numerals] (AA) Start;(BB) End;(S10) Form a seed layer on a substrate at a certain angle;(S20) Form a metal line pattern using a lift off process;(S30) Etch the patterned substrate;(S40) Grow zinc oxide nanorods in a single direction by performing the hydrothermal synthesis method
Abstract translation: 本发明涉及一种制造在单一方向上横向生长的氧化锌纳米棒阵列的方法，该方法通过溅射方法形成氧化锌种子层，该方法是以向基板施加预定角度的状态，在氧化锌上形成金属线图案 种子层，蚀刻具有形成金属线图案的基板，并通过对制造的基板进行水热合成方法沿单向生长氧化锌纳米棒。 根据本发明的沿单向横向生长的氧化锌纳米棒阵列的制造方法的特征在于包括：通过与安装在基板保持器上的基板成角度形成氧化锌种子层的第一步骤; 在剥离方法的第一步骤中形成的氧化锌种子层上形成至少一种金属线图案的第二步骤; 蚀刻用金属线图案化的衬底上的氧化锌种子层的第三步骤; 以及通过对在第三步骤中蚀刻的基板进行水热合成方法沿横向生长氧化锌纳米棒的第四步骤。 （AA）开始;（BB）结束;（S10）以一定角度在基板上形成种子层;（S20）使用剥离工艺形成金属线图案;（S30）蚀刻图案化基板 ;（S40）通过水热合成法在单一方向生长氧化锌纳米棒
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公开(公告)号：KR101109051B1
公开(公告)日：2012-01-31
申请号：KR1020100035759
申请日：2010-04-19
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명의 엘이디 측정을 위한 하이브리드 MEMS 프로브카드에 따르면, 웨이퍼레벨에서 다수의 엘이디 소자에 대한 광학적 특성을 연속적으로 측정 가능하다.
본 발명에서는 전기적 특성을 측정하기 위한 MEMS 프로브카드와 광학적 특성을 측정하기 위한 광전지소자가 형성된 웨이퍼를 결합하는 것에 의해 하이브리드 MEMS 프로브카드를 구현하였다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101045034B1
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：KR1020100016901
申请日：2010-02-25
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: PURPOSE: A white light emitting diode including a micro lens with a dual layered structure is provided to obtain various light paths by coating the micro lens with different refractive indexes with one or more of red fluorescent and green fluorescent. CONSTITUTION: An N-type semiconductor layer(120), an active layer(130), and a P-type semiconductor layer(140) are successively formed on a substrate(110) in order to prepare a blue light emitting chip. A transparent electrode layer is formed on the P-type semiconductor layer. A positive electrode(171) is formed on the transparent electrode layer. A negative electrode(173) is formed by etching the uppermost surface of the blue light emitting diode chip to the N-type semiconductor layer. A micro lens including a first micro lens(300) and a second micro lens(500) is formed on the transparent electrode layer.
Abstract translation: 目的：提供一种包括具有双层结构的微透镜的白色发光二极管，以通过用红色荧光和绿色荧光体中的一种或多种涂覆具有不同折射率的微透镜来获得各种光路。 构成：为了制备蓝色发光芯片，在衬底（110）上依次形成N型半导体层（120），有源层（130）和P型半导体层（140）。 在P型半导体层上形成透明电极层。 在透明电极层上形成正极（171）。 通过将蓝色发光二极管芯片的最上表面蚀刻到N型半导体层来形成负极（173）。 在透明电极层上形成包括第一微透镜（300）和第二微透镜（500）的微透镜。
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7.发明授权임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물제조방법 有权使用IMPRINTRING LITHOGRAPHY PROCESS和PHOTO LITHOGRAPHY PROCESS制作3D图案的方法
公开(公告)号：KR100906627B1
公开(公告)日：2009-07-10
申请号：KR1020070121547
申请日：2007-11-27
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , B81C1/00031 , B81C2201/0153 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 본 발명은 임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 공정시간의 제어만으로 임프린트 공정에서 문제가 되고 있는 잔여층의 높이를 제어함으로써 새로운 3차원 구조물 제조방법을 제안하고, 포토 리소그래피 공정을 추가시켜 공정을 마무리함으로써 잔여층 제거를 위한 추가 공정 없이 3차원 구조물을 제조할 수 있는 임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물 제조방법을 제공함에 그 특징적인 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, (a) 기판(substrate) 상부에 스핀 코팅하여 포토 레지스트를 증착하는 단계; (b) 상기 (a) 단계를 통해 증착된 포토 레지스트 위에 소정 패턴이 기록된 금형(mold)을 이용하여 소정 온도 및 소정 압력으로 임프린트하는 단계; 및 (c) 상기 (b) 단계를 통해 제작된 구조물 위에 소정 패턴이 기록된 포토 마스크(photo mask)를 마련하여, 노광(expose) 및 현상(develop) 공정을 통해 특정 패턴을 갖는 3차원 구조물을 형성하는 단계; 를 포함한다.
임프린트, 포토 리소그래피Abstract translation: 本文公开了使用压印光刻工艺和光刻工艺制造三维图案化结构的方法，其中通过仅控制压印中的处理时间来控制对控制有问题的残留光致抗蚀剂层的高度 然后再进行光刻工艺，由此制造新的三维图案结构，而不需要额外的去除残余光致抗蚀剂层的工艺。 制造三维图案结构的方法包括：（a）通过旋涂在衬底上沉积光致抗蚀剂; （b）使用具有预定图案的模具在预定温度和压力下印刷沉积的光致抗蚀剂以制造结构; 和（c）在所制造的结构上提供具有预定图案的光掩模，然后曝光和显影该结构以形成具有特定图案的三维图案结构。
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公开(公告)号：KR1020090041088A
公开(公告)日：2009-04-28
申请号：KR1020070106611
申请日：2007-10-23
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: A method for fabricating a sapphire substrate patterned by using an imprinting process is provided to improve efficiency of illuminance by using the sapphire substrate with various surface patterns as a reflector through difference of a refractive index. A molder with an engraved pattern is manufactured. The polymer resin is laminated on a sapphire substrate(20). The molder with the engraved pattern is covered on the sapphire substrate laminated with the polymer resin. When the molder is covered on the sapphire substrate, the polymer resin is cured by applying the heat or UV after giving the pressure. The sapphire substrate and the molder are separated. The molder is made by using at least one of silicon, polymer resin, nickel, and silica or more. The polymer resin is thermosetting polymer resin or UV curable polymer resin.
Abstract translation: 提供了通过使用压印工艺制造蓝宝石衬底的方法，以通过使用具有各种表面图案的蓝宝石衬底作为反射器，通过折射率的差异来提高照度的效率。 制造了具有雕刻图案的成型机。 聚合物树脂层叠在蓝宝石基板（20）上。 具有雕刻图案的成型机被层叠有聚合物树脂的蓝宝石衬底覆盖。 当模塑机被覆在蓝宝石衬底上时，聚合物树脂通过在施加压力之后施加热量或UV来固化。 分离蓝宝石衬底和成型机。 通过使用硅，聚合物树脂，镍和二氧化硅等中的至少一种来制造成型机。 聚合物树脂是热固性聚合物树脂或UV可固化聚合物树脂。
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公开(公告)号：KR1020160000563A
公开(公告)日：2016-01-05
申请号：KR1020140077599
申请日：2014-06-24
Applicant: 인하대학교 산학협력단
CPC classification number: B82B3/0095
Abstract: 본발명은기판상부에과불소중합체패턴을형성하는단계(단계 1); 상기단계 1의패턴이형성된기판에나노물질이분산되어있는분산액을도포하는단계(단계 2); 및상기단계 2의기판에형성된과불소중합체패턴을제거하는단계(단계 3);를포함하는나노물질패턴의제조방법을제공한다. 본발명에따른나노물질패턴의제조방법은리프트-오프방법으로유기기판에삽입된나노물질패턴을제조함에있어서, 과불소중합체를사용하여나노물질패턴을형성하고난후의과불소중합체패턴을제거하는것이용이하며, 기판및 나노물질에손상을가하지않기때문에우수한나노물질패턴을형성할수 있다.
Abstract translation: 纳米材料图案的制造方法技术领域本发明涉及一种纳米材料图案的制造方法，包括：在基板的上部形成全氟聚合物图案的第一工序; 覆盖其中纳米材料分散在具有在第一步骤中形成的图案的基板上的分散溶液的第二步骤; 以及除去形成在第二工序的基板上的全氟聚合物图案的第三工序。 根据本发明的纳米材料图案的制造方法，当通过剥离法制造纳米材料图案时，使用全氟聚合物在形成纳米材料图案之后容易除去全氟聚合物图案，并且可以形成优异的纳米材料图案，因为 不会对基材和纳米材料造成损害。
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公开(公告)号：KR1020170070321A
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：KR1020150176915
申请日：2015-12-11
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: F21K99/00 , F21Y101/02 , C08L27/12 , C08L23/28 , F21Y105/00
CPC classification number: F21K9/60 , C08L23/28 , C08L27/12 , F21K9/90 , F21Y2101/00 , F21Y2105/00 , F21Y2115/15 , F21Y2115/30
Abstract: 본발명은조명소자; 및상기조명소자상부에형성된불소계고분자박막;을포함하고상기불소계고분자박막은규칙적으로반복된원형패턴이볼록하게형성된것을특징으로하는광 효율이향상된조명소자를제공한다. 본발명에따른불소계고분자박막이형성된조명소자는, 패턴이형성된불소계고분자박막으로인해, 조명소자의광 효율이증가하는장점이있다. 또한, 표면의원형볼록패턴으로인해, 각종조명소자및 마이크로영역의발진파장을갖는적외선소자에대해서도적용가능한장점이있다. 나아가, 본발명에따른불소계고분자박막이형성된조명소자의제조방법은, 복잡한공정과정으로수행되지않고, 후처리가필요하지않으며, 박막의제거역시간단한장점이있다.
Abstract translation: 照明装置技术领域本发明涉及照明装置， 以及在照明装置上形成的基于氟的聚合物薄膜，其中氟基聚合物薄膜具有形成为凸起形状的规则重复的圆形图案。 由本发明的含氟聚合物薄膜形成的照明装置具有如下优点：由于其上形成有图案的氟化聚合物薄膜，照明装置的光效率增加。 此外，由于表面上具有圆形凸起图案，因此具有可应用于具有各种照明元件和微小区域的振荡波长的红外线装置的优点。 此外，根据本发明在一个复杂的制造工艺进行形成在氟系聚合物的薄膜的照明元件的制造方法，该方法是没有必要的，然后，在去除也是薄膜的简单的好处。
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