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公开(公告)号：KR1020120058274A
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：KR1020100119978
申请日：2010-11-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , C03B33/09 , C03B33/02
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: PURPOSE: A cutting device through the combination of characteristics of a reformed surface according to depth is provided to maintain high surface precision and maximize machining accuracy by freely regulating the size of a reformed area through pulse width control. CONSTITUTION: A cutting device through the combination of characteristics of a reformed surface according to depth comprises a laser source(100), a plurality of mirrors(200-203), a first condensing lens(400), a dispersion control unit(300), and a second condensing lens(401). The laser source outputs pulse laser. The plurality of mirrors split a laser beam output from the laser source or determine the directivity of the laser beam. The first condensing lens condenses one of the laser beams split through the mirrors to irradiate a work piece(500). The dispersion control unit controls the dispersion of another one of the laser beams. The second condensing lens condenses the laser beam dispersed by the dispersion control unit to irradiate the work piece.
Abstract translation: 目的：提供通过根据深度的重整表面特性的组合的切割装置，以通过通过脉冲宽度控制自由调节重整区域的尺寸来保持高表面精度和最大化加工精度。 构成：通过根据深度的重整表面的特性的组合的切割装置包括激光源（100），多个反射镜（200-203），第一聚光透镜（400），色散控制单元（300） ，和第二聚光透镜（401）。 激光源输出脉冲激光。 多个反射镜分离从激光源输出的激光束或确定激光束的方向性。 第一聚光透镜将通过反射镜分离的激光束之一冷凝以照射工件（500）。 色散控制单元控制另一个激光束的色散。 第二聚光透镜将由分散控制单元分散的激光束聚焦以照射工件。
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公开(公告)号：KR101400512B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020120116126
申请日：2012-10-18
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 쳐프 펄스 증폭 시스템에서 회절격자 기반 펄스 확장기의 정렬방법에 관한 것으로, 쳐프 펄스 증폭 시스템에 적용되는 회절격자 기반 펄스 확장기에 있어서, 상기 펄스 확장기는 레이저 광을 출사하는 레이저 공진기, 제 1회절격자, 제 2회절격자, 구면거울 및 직각거울을 포함하여 구성되고, 상기 구면거울을 상기 구면거울의 중심을 회전중심으로 하여 일정 θ 만큼 회전시키고, 상기 제 2회절격자와 직각거울을 상기 구면거울의 중심을 회전중심으로 하여 일정 2θ 만큼 회전시켜 입/출력 펄스간의 높이차를 구현하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 렌즈의 수차 및 분산에 의한 악영향을 제거할 수 있고, 광학부품간의 공간적 제약을 해소할 수 있으며, 입/출사 펄스 간의 옵셋의 크기를 자유롭게 조절할 수 있는 효과가 있다.
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23.发明授权
公开(公告)号：KR101394720B1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：KR1020120116127
申请日：2012-10-18
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01S3/067
Abstract: 본 발명은 비선형 편광 회전과 포화흡수체의 결합 모드잠금에 의해 생성되는 고출력 광섬유 펨토초 레이저 공진기에 관한 것으로, 광섬유 펨토초 레이저 공진기에 있어서, 레이저 소스를 포함하는 링타입(ring-type) 구조의 광섬유 기반의 공진기이며, 상기 공진기 상에 구성되고, 펄스 쉐이핑(shaping)으로 극초단 펄스를 생성하는 비선형 편광회전 모드잠금부 및 펄스 진폭의 비선형 필터링을 수행하며, 상기 공진기 내부의 초과 비선형 현상을 억제, 초기펄스의 생성 및 솔리톤 펄스에서 생성되는 기생 분산파(Dispersive wave) 제거를 수행하는 포화흡수체 모드잠금부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR1020140049826A
公开(公告)日：2014-04-28
申请号：KR1020120116126
申请日：2012-10-18
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02B27/0916 , G02B6/02085 , G02B27/0955 , G02B27/0977 , H01S3/1055
Abstract: The present invention relates to an alignment method of a diffraction grid-based pulse expander in a chirped pulse amplification system. The diffraction grid-based pulse expander which is applied to the chirped pulse amplification system includes a laser resonator which emits laser light, a first diffraction grid, a second diffraction grid, a spherical mirror, and a right-angled mirror. A height difference between input and output pulses is formed by rotating the spherical mirror at an predetermined angle θ^θ with the center of the spherical mirror as a rotary center and rotating the second diffraction grid and the right-angled mirror at a predetermined angle 2θ^θ with the center of the spherical mirror as a rotary center. The present invention like the forementioned is able to: remove a bad influence which is caused by the aberration and dispersion of a lens; resolve a special restriction between optical components; and freely adjust the size of an offset between the input and output pulses.
Abstract translation: 本发明涉及一种啁啾脉冲放大系统中衍射栅格脉冲扩展器的对准方法。 施加到啁啾脉冲放大系统的衍射栅格脉冲扩展器包括发射激光的激光谐振器，第一衍射栅格，第二衍射栅格，球面镜和直角镜。 通过以球面镜的中心为旋转中心以预定角度θ^θ旋转球面镜并以预定角度2θ旋转第二衍射栅格和直角反射镜来形成输入和输出脉冲之间的高度差 ^θ以球面镜的中心为旋转中心。 如上所述的本发明能够：消除由透镜的像差和色散引起的不良影响; 解决光学元件之间的特殊限制; 并自由调整输入和输出脉冲之间的偏移量。
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公开(公告)号：KR101259580B1
公开(公告)日：2013-04-30
申请号：KR1020100100806
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/046 , H01S3/10
Abstract: 펄스 레이저의 분산을 조절하는 단계, 및 상기 분산이 조절된 펄스 레이저를 가공물에 입사시켜 상기 가공물을 가공하는 단계를 포함하는 레이저 가공방법이 공개된다. 상기 분산은, 상기 가공물 내에서 상기 펄스 레이저의 펄스 폭이 상기 가공물 중 상기 펄스 레이저의 입사 지점을 지난 미리 결정된 지점에서 최소가 되도록 조절된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101212460B1
公开(公告)日：2012-12-18
申请号：KR1020100100780
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 가공물을가공하기위한펄스레이저를조사하도록되어있는레이저발생장치, 및상기가공물로부터생성되는플라즈마로부터전파되는광을검출하는광 검출장치를포함하는레이저가공상태모니터링장치가공개된다. 이장치는상기가공이비선형광학현상에의해이루어지도록, 상기펄스레이저에의해상기가공물내에비선형광학현상이일어나도록상기펄스레이저의첨두출력이조정된다.
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公开(公告)号：KR101207583B1
公开(公告)日：2012-12-04
申请号：KR1020100100798
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/70 , B23K26/384 , B23K28/00 , B06B1/00
Abstract: 레이저발생장치및 초음파발생장치를포함하는레이저가공장치가공개된다. 레이저발생장치는가공물에레이저를조사하여가공물에개질부를형성하도록되어있고, 초음파발생장치는가공물에형성되는개질부에초음파를전파하여개질부로부터연장되는크랙을형성하도록되어있다.
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公开(公告)号：KR101164418B1
公开(公告)日：2012-07-12
申请号：KR1020100057009
申请日：2010-06-16
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B26F3/00 , B26F3/06 , B23K26/382 , H01S3/10
Abstract: 본 발명은 토초 펄스 레이저의 비선형 초점이동을 통한 절단방법에 관한 것으로, 펨토초 펄스 레이저를 이용한 절단방법에 있어서, 펨토초 펄스 레이저를 가공물에 조사하여 다중광자이온화(Multi-Photon Ionization)를 기반으로 플라즈마 디포커싱(Plasma Defocusing)에 의해 개질영역을 형성시키고, 여기서 형성된 상기 개질영역과 플라즈마 디포커싱 현상에 의한 레이저의 공간적 집속을 방해시켜 상기 펨토초 펄스 레이저의 초점을 가공물 깊이 방향으로 이동시키면서 개질영역을 길어지게 형성하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 비선형 초점이동을 통해 기존 필라멘트 기반에서는 가공이 불가능한 얇은 투명재료에 효율적인 절단 및 가공이 가능한 이점이 있다.
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公开(公告)号：KR1020110139007A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：KR1020100059233
申请日：2010-06-22
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/55 , H01S3/10 , H01L21/304 , C03B33/09
Abstract: PURPOSE: A method for cutting for nano-void array forming by femtosecond laser is provided to improve the cutting and processing efficiency of a transparent material by forming nano-void array using femtosecond laser. CONSTITUTION: A method for cutting for nano-void array forming by femtosecond laser comprises next steps. A pole first grade femtosecond laser is condensed to a condensing lens(120) and radiates laser beam to a transparent material or substrate. The plasma defocusing is performed by multi-photon ionization. Self focusing is performed due by Kerr Lens. Nano-Void Array(210) is formed on a substrate and cut. The energy per pulse has the energy value on the substrate in order to become over the threshold energy 0.2uJ for the void formation.
Abstract translation: 目的：提供一种通过飞秒激光切割纳米空心阵列形成的方法，通过使用飞秒激光形成纳米空穴阵列来提高透明材料的切割和加工效率。 构成：通过飞秒激光切割纳米空穴阵列形成的方法包括以下步骤。 极点一级飞秒激光被聚光到聚光透镜（120），并将激光束辐射到透明材料或基底。 等离子体散焦通过多光子电离进行。 由柯尔镜头进行自动对焦。 将纳米空心阵列（210）形成在基板上并切割。 每个脉冲的能量在衬底上具有能量值，以便对于空隙形成而超过阈值能量0.2uJ。
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