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公开(公告)号：WO2014027738A1
公开(公告)日：2014-02-20
申请号：PCT/KR2013/004305
申请日：2013-05-15
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B23K26/0057 , B23K26/0006 , B23K26/0624 , B23K26/08 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2203/42 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B23K2203/54 , B23K2203/56 , C03B33/04 , C03B33/091 , Y10T225/10 , Y10T225/304
Abstract: 본 발명은 레이저 소스로부터 10 fs ~ 10 ps의 펄스폭을 가지며, 중심 파장이 하기 투명시편의 투과 대역에 해당하는 극초단 펄스 레이저 빔을 생성하여 포커싱함으로써 집속점을 형성하는 단계, 상기 집속점이 투명시편의 양쪽 표면의 안쪽 내부영역에 위치되도록 상기 펄스 레이저 빔의 집속점을 위치시킴으로써, 상기 포커싱된 펄스 레이저 빔에 의해 투명시편 내부로 에너지가 전달되도록 하는 단계 및 원하는 형태의 절단선을 따라 상기 집속점 또는 투명시편을 상대이동시킴으로써, 투명시편상에 크랙이 상기 집속점의 이동 라인과 간격을 두고 이격되어 전파되는 것을 포함하도록, 크랙이 생성되어 전파되는 단계;를 포함하는 투명시편의 가공 방법과 상기 투명시편을 가공하기 위한 다이싱 장치에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用超快速激光的透明样品切割方法和用于加工透明样品的切割装置，并且切割方法包括以下步骤：通过产生和聚焦具有脉冲宽度的超快激光束来形成焦点 来自激光源的10fs-10ps和对应于透明样品的带宽的中心波长; 通过定位脉冲激光束的焦点使得焦点位于透明样品的两个侧表面的内侧的内部区域中，使用聚焦脉冲激光束将能量传输到透明样品的内部; 通过使焦点或透明样品沿着切割线以期望的形状相对移动而产生和传播裂纹，使得裂纹在透明样品上传播距焦点的移动线一定距离。
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公开(公告)号：KR1020140052116A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020120116127
申请日：2012-10-18
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01S3/067
CPC classification number: H01S3/06704 , H01S3/0064 , H01S3/06725 , H01S3/1106
Abstract: The present invention relates to a high power optical fiber femtosecond laser resonator generated by the combination mode locking of nonlinear polarization rotation and saturable absorption. An optical fiber femtosecond laser resonator, which is an optical fiber based resonator of a ring-type structure, includes a nonlinear polarization rotation mode locking part which is formed on the resonator and generates an UHF pulse by pulse shaping, and a saturable absorption mode locking part which performs the nonlinear filtering of pulse amplitude, prevents the excess nonlinear phenomenon of the inner part of the resonator, generates an initial pulse, and removes a dispersive wave generated in a soliton pulse.
Abstract translation: 本发明涉及通过非线性偏振旋转和可饱和吸收的组合模式锁定而产生的高功率光纤飞秒激光谐振器。 作为环型结构的基于光纤的谐振器的光纤飞秒激光谐振器包括形成在谐振器上的非线性偏振旋转模式锁定部，并且通过脉冲整形产生UHF脉冲，并且可饱和吸收模式锁定 执行脉冲幅度的非线性滤波的部分防止谐振器内部部分的过量非线性现象产生初始脉冲，并去除孤子脉冲中产生的色散波。
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公开(公告)号：KR1020130109391A
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR1020120031089
申请日：2012-03-27
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: C23C16/409 , B82B3/0038 , B82Y40/00 , C23C16/407
Abstract: PURPOSE: A manufacturing apparatus of a ferroelectric nanostructure is provided to synthesize a ferroelectric material at a desired temperature, and to decrease the synthesize temperature of the ferroelectric material. CONSTITUTION: A manufacturing apparatus of a ferroelectric nanostructure includes a tube type furnace (100), a gas inlet (10), a material powder supplier (20), a starting material supplier (30), and an outlet (40). The gas inlet is for inserting inert gas into the tube type furnace. The material powder supplier supplies material powder into the tube type furnace. The supply point of the material powder is maintained at the evaporation temperature of the material powder. The starting material supplier supplies a starting material. The starting material reacts with the evaporated material powder, to be synthesized into a ferroelectric nanostructure. The evaporated material powder flows by the flow of the inert gas flowing toward an exit of the tube type furnace. The starting material has a form selected from a nanotube, a nanowire, a nanorod, or a simple thin film. The outlet discharges the inert gas. [Reference numerals] (AA) Cylindrical furnace; (BB) Temperature gradient in furnace; (CC) Position
Abstract translation: 目的：提供铁电体纳米结构的制造装置，以在期望的温度下合成铁电材料，并降低铁电材料的合成温度。 构成：铁电体纳米结构的制造装置包括管式炉（100），气体入口（10），材料粉末供应器（20），起始材料供应器（30）和出口（40）。 气体入口用于将惰性气体插入管式炉中。 材料粉末供应商将材料粉末供应到管式炉中。 材料粉末的供应点保持在材料粉末的蒸发温度。 起始原料供应商提供原料。 起始材料与蒸发的材料粉末反应，合成为铁电纳米结构。 蒸发的材料粉末通过流向管式炉的出口的惰性气体流动。 原料具有选自纳米管，纳米线，纳米棒或简单薄膜的形式。 出口排出惰性气体。 （附图标记）（AA）圆柱形炉; （BB）炉内温度梯度; （CC）职位
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公开(公告)号：KR101212527B1
公开(公告)日：2012-12-14
申请号：KR1020100100804
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/402 , B23K26/067 , B23K26/046
Abstract: 레이저소스, 복굴절물질, 편광기, 및렌즈를포함하는레이저가공장치가공개된다. 레이저소스로부터출력된레이저는복굴절물질, 편광기및 렌즈를통과하며, 복굴절물질에의해분광된분광레이저들은상이한위상을갖고상기렌즈의초점영역에서서로간섭된다.
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公开(公告)号：KR101210653B1
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：KR1020100100799
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 가공물의에너지상태를상승시키기위해가공물에전기장을형성하도록되어있는전기장발생장치및 전기장에의해상승된에너지상태를갖는가공물에레이저를조사함으로써가공물을가공하도록되어있는레이저발생장치를포함하는레이저가공장치가공개된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101202256B1
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：KR1020100119980
申请日：2010-11-29
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 극초단 펄스 레이저와 수분 응고를 이용한 절단 장치 및 방법에 관한 것으로, 절단 장치에 있어서, 극초단 펄스 레이저를 출력하여 가공 대상물에 공동(void)을 형성시키기 위해 집광렌즈로 집광하여 상기 가공 대상물에 레이저를 조사하는 레이저소스, 상기 가공 대상물 저면을 접하여 내측으로 소정의 공간부를 형성하고, 양쪽으로 수증기 공급부와 냉각 기체 공급부가 구비된 베이스 플레이트, 상기 수증기 공급부로 수증기를 공급하는 수증기 공급수단; 및 상기 냉각 기체 공급부로 냉각 기체를 공급하는 냉각 기체 공급수단을 포함하고, 상기 레이저소를 통해 가공 대상물에 조사하여 균열을 발생시키고, 수증기를 공급한 후 냉각 기체를 공급하여 수증기 응고에 따른 팽창으로 기판을 절단하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 가공 대상물 표면으로 파편 입자 생성을 방지할 수 있고, 수분 팽창을 이용하여 최종적으로 절단하기 때문에 공정의 간소화, 공정의 청정성을 확보할 수 있다.
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公开(公告)号：KR101153565B1
公开(公告)日：2012-06-12
申请号：KR1020100009122
申请日：2010-02-01
IPC: H01H36/00
CPC classification number: H03K17/94 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명은 RF 스위치 및 스위치 컨트롤러가 하나의 CMOS 기판에 형성되어 딥 N형 웰 기판과 N형 웰 기판 및 P형 웰 기판에 플로팅 저항을 연결시켜 입력 전력에 관하여 선형성이 증가된 RF 스위치 회로에 관한 것으로, RF 신호의 전달 경로를 변경하는 적어도 하나의 N MOS(Metal Oxide Semiconductor) 스위치를 구비하는 RF 스위치는 제1 딥 N형 웰(well) 기판에 형성된 N형 단자가 플로팅(floating) 저항을 통해 구동 전원을 전달받고, 제1 P형 기판에 형성된 P형 단자는 플로팅 저항을 통해 바디 전원을 전달받으며, 제1 P형 기판에 형성된 둘의 N형 단자는 플로팅 저항을 통해 게이트 전원을 전달받고, 상기 RF 스위치의 경로 변경을 제어하는 적어도 하나의 N MOS 스위치 및 P MOS 스위치를 구비하는 스위치 컨트롤러는 제2 딥 N형 웰(well) 기판에 형성된 N형 단자와 상기 제1 N형 기판� � 형성된 N형 단자가 플로팅(floating) 저항을 통해 구동 전원을 전달받는다.
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公开(公告)号：KR1020120039222A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：KR1020100100806
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/046 , H01S3/10
Abstract: PURPOSE: Laser processing apparatus and method using the dispersion controlling of pulse laser are provided to control the processing depth of a product without moving a laser condensing lens. CONSTITUTION: A laser processing method using the dispersion controlling of pulse laser comprises the following steps: controlling the dispersion of the pulse laser(700); irradiating the pulse laser to a product(103) for processing; and setting the pulse width(W) of the pulse laser in the product on the predetermined point after the applying point of the pulse layer.
Abstract translation: 目的：提供使用脉冲激光器的色散控制的激光加工设备和方法来控制产品的加工深度，而不会移动激光聚焦透镜。 构成：使用脉冲激光器的色散控制的激光加工方法包括以下步骤：控制脉冲激光器（700）的色散; 将脉冲激光照射到产品（103）上进行处理; 并且在脉冲层的施加点之后的预定点上设置脉冲激光在产品中的脉冲宽度（W）。
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公开(公告)号：KR1020120039216A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：KR1020100100798
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B23K26/70 , B23K26/384 , B23K28/00 , B06B1/00
Abstract: PURPOSE: Laser processing apparatus and method using ultrasonic waves are provided to enable users to obtain a clean processed surface, and to prevent the degeneration of a processed product. CONSTITUTION: A laser processing method using ultrasonic waves comprises a step of irradiating an object(102) with laser(107) for producing reformed portions(103) on the object. The ultrasonic waves(106) are transmitted to the reformed portions. Cracks(110) are extended from the reformed portions by the ultrasonic waves.
Abstract translation: 目的：提供使用超声波的激光加工设备和方法，使用户能够获得清洁的加工表面，并防止加工产品的退化。 构成：使用超声波的激光加工方法包括用激光（107）照射物体（102）以在物体上产生重整部分（103）的步骤。 超声波（106）被传送到重整部分。 裂纹（110）通过超声波从重整部分延伸。
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公开(公告)号：KR1020120039212A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：KR1020100100780
申请日：2010-10-15
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: Laser processing condition monitoring apparatus and method using plasma are provided to effectively monitor and analyze the processed condition of objects using the plasma generated from the processed objects. CONSTITUTION: A laser processing condition monitoring method comprises the following steps: irradiating an object(102) with a pulse laser(107) for processing; and detecting light(200) transmitted from the plasma(106) generated from the object for monitoring the processed condition of the object. The peak power of the pulse laser is controlled to process the object with a nonlinear optic phenomenon.
Abstract translation: 目的：提供使用等离子体的激光加工状态监测装置和方法，以有效地监测和分析使用从被处理物体产生的等离子体的物体的处理状态。 构成：激光加工状态监测方法包括以下步骤：用脉冲激光器（107）照射物体（102）进行处理; 以及检测从所述对象产生的等离子体（106）发送的光（200），用于监视对象的处理状态。 控制脉冲激光器的峰值功率以用非线性光学现象来处理物体。
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