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公开(公告)号：TWI411887B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW098103918
申请日：2009-02-06
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 貝利 大衛 瓦倫 , BURRY, DAVID WARREN , 布林克夫 拉夫 , BRINKHOF, RALPH , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 法蘭肯 羅伯 , FRANKEN, ROBERT , 克普 艾瑞克 約翰 , KOOP, ERIK JOHAN
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03B27/32 , G03B27/68 , G03F7/70516
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公开(公告)号：TW201333639A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101145125
申请日：2012-11-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 英布隆 彼得 大衛 , ENGBLOM, PETER DAVID , 寇勒 卡司頓 安德瑞司 , KOHLER, CARSTEN ANDREAS , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 戴 威特 羅那堤 康尼斯 , DE WINTER, LAURENTIUS CORNELIUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70425 , G03F1/144 , G03F1/36 , G03F7/70433 , G03F7/70441
Abstract: 本發明揭示一種使用一投影系統將一圖案自一圖案化器件投影至一基板上之方法，該方法包括在該投影系統中使用一光學相位調整裝置以將一相位修改應用於已自該圖案之一輔助特徵繞射之輻射，該相位修改用以縮減曝光於該基板上之抗蝕劑中之一輔助特徵影像的大小或防止該輔助特徵影像印刷於該基板上之該抗蝕劑中，同時維持該輔助特徵影像對該圖案之一功能特徵之一影像增強的一貢獻。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种使用一投影系统将一图案自一图案化器件投影至一基板上之方法，该方法包括在该投影系统中使用一光学相位调整设备以将一相位修改应用于已自该图案之一辅助特征绕射之辐射，该相位修改用以缩减曝光于该基板上之抗蚀剂中之一辅助特征影像的大小或防止该辅助特征影像印刷于该基板上之该抗蚀剂中，同时维持该辅助特征影像对该图案之一功能特征之一影像增强的一贡献。
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公开(公告)号：TWI685881B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：TW107120334
申请日：2018-06-13
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 哈魯云嚴 戴維特 , HARUTYUNYAN, DAVIT , 賈飛 , JIA, FEI , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 王富明 , WANG, FUMING , 路易賈斯汀 雨果 湯瑪斯 , LOOIJESTIJN, HUGO THOMAS , 理澤尼爾斯 康納利斯 喬漢斯 , RIJNIERSE, CORNELIS JOHANNES , 帕薩瑞可 馬克辛 , PISARENCO, MAXIM , 渥克曼 羅伊 , WERKMAN, ROY , 休威斯 湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 凡 赫默特 湯姆 , VAN HEMERT, TOM , 巴斯塔尼 瓦希德 , BASTANI, VAHID , 威爾登伯格 裘簡 賽巴斯汀 , WILDENBERG, JOCHEM SEBASTIAAN , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS , 瓦勒伯斯 艾瑞克 裘漢斯 瑪麗亞 , WALLERBOS, ERIK JOHANNES MARIA
IPC: H01L21/027 , G06Q50/04 , G03F7/20
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公开(公告)号：TWI670575B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW107121791
申请日：2018-06-26
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 凡 巫斯登 安東 伯恩哈得 , VAN OOSTEN, ANTON BERNHARD , 尤迪斯提拉 亞斯理 , YUDHISTIRA, YASRI , 魯吉坦 卡羅 康妮斯 瑪里亞 , LUIJTEN, CARLO CORNELIS MARIA , 凡斯崔登 伯特 , VERSTRAETEN, BERT , 吉敏克 簡 威廉 , GEMMINK, JAN-WILLEM
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TWI646405B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW106122767
申请日：2017-07-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 德 羅格特 里昂 瑪利亞 艾伯特斯 , VAN DER LOGT, LEON MARIA ALBERTUS , 席責斯 巴特 皮特 柏特 , SEGERS, BART PETER BERT , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 魯吉坦 卡羅 康妮斯 瑪里亞 , LUIJTEN, CARLO CORNELIS MARIA , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK
IPC: G03F7/20
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201826033A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106105681
申请日：2017-02-21
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 莫斯羅 馬克 約翰 , MASLOW, MARK JOHN , 亞蘭希亞多 羅伊 , ANUNCIADO, ROY , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 休威斯 湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明提供一種方法，其包括：藉由將關於藉由一圖案化程序處理之一基板之一圖案之一第一變數的一指紋與該第一變數之某一值組合來計算該基板或用於該基板之該第一變數之一值；及至少部分地基於該第一變數之該所計算值來判定該圖案之一第二變數之一值。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种方法，其包括：借由将关于借由一图案化进程处理之一基板之一图案之一第一变量的一指纹与该第一变量之某一值组合来计算该基板或用于该基板之该第一变量之一值；及至少部分地基于该第一变量之该所计算值来判定该图案之一第二变量之一值。
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公开(公告)号：TW201921095A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107126809
申请日：2018-08-02
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 華那爾 派翠克 , WARNAAR, PATRICK , 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 葛澤拉 葛澤高爾茲 , GRZELA, GRZEGORZ , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS , 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 席責斯 巴特 皮特 柏特 , SEGERS, BART PETER BERT , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK
Abstract: 本發明揭示一種方法，其包括：針對使用一圖案化製程所產生的一基板之一器件圖案之複數個特徵之每一特定特徵，獲得在該基板之一量測目標與該特定特徵之間該圖案化製程之一參數之一經模型化或經模擬關係；以及基於該關係及自該度量衡目標進行之該參數之量測值，產生針對該等特徵中之每一者之該參數橫越該基板之至少部分的一分佈，該等分佈係用於設計、控制或修改該圖案化製程。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种方法，其包括：针对使用一图案化制程所产生的一基板之一器件图案之复数个特征之每一特定特征，获得在该基板之一量测目标与该特定特征之间该图案化制程之一参数之一经模型化或经仿真关系；以及基于该关系及自该度量衡目标进行之该参数之量测值，产生针对该等特征中之每一者之该参数横越该基板之至少部分的一分布，该等分布系用于设计、控制或修改该图案化制程。
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公开(公告)号：TW201833791A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107101941
申请日：2018-01-19
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 舒密特-韋佛 艾密爾 彼得 , SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER , 巴塔哈爾亞 卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 李維榭 李昂 馬汀 , LEVASIER, LEON MARTIN
Abstract: 本發明揭示一種用於監測一微影程序之方法及關聯微影設備。該方法包含：獲得與由一基板支撐件支撐之一基板相關之高度變化資料，且經由該高度變化資料而擬合一回歸，該回歸近似該基板之形狀；判定該高度變化資料與該回歸之間的殘餘資料；及監測該殘餘資料隨著時間推移之變化。可基於該基板支撐件之已知特徵而解迴旋該殘餘資料。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于监测一微影进程之方法及关联微影设备。该方法包含：获得与由一基板支撑件支撑之一基板相关之高度变化数据，且经由该高度变化数据而拟合一回归，该回归近似该基板之形状；判定该高度变化数据与该回归之间的残余数据；及监测该残余数据随着时间推移之变化。可基于该基板支撑件之已知特征而解回旋该残余数据。
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公开(公告)号：TW201812465A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106122767
申请日：2017-07-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 德 羅格特 里昂 瑪利亞 艾伯特斯 , VAN DER LOGT, LEON MARIA ALBERTUS , 席責斯 巴特 皮特 柏特 , SEGERS, BART PETER BERT , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 魯吉坦 卡羅 康妮斯 瑪里亞 , LUIJTEN, CARLO CORNELIS MARIA , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/705
Abstract: 一種微影程序，其為將一所要圖案施加至一基板上、通常施加至該基板之一目標部分上的程序。在該微影程序期間，需要控制聚焦。本發明揭示一種用於判定與一基板相關聯之一性能參數之一指紋的方法，諸如判定待在該微影程序期間使用之一聚焦值。針對一參考基板判定該性能參數之一參考指紋。判定該參考基板之一參考基板參數。判定用於一基板(諸如，具有產品結構之一基板)之一基板參數。隨後，基於該參考指紋、參考基板參數及該基板參數而判定該性能參數之該指紋。該指紋可接著用以控制該微影程序。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影进程，其为将一所要图案施加至一基板上、通常施加至该基板之一目标部分上的进程。在该微影进程期间，需要控制聚焦。本发明揭示一种用于判定与一基板相关联之一性能参数之一指纹的方法，诸如判定待在该微影进程期间使用之一聚焦值。针对一参考基板判定该性能参数之一参考指纹。判定该参考基板之一参考基板参数。判定用于一基板(诸如，具有产品结构之一基板)之一基板参数。随后，基于该参考指纹、参考基板参数及该基板参数而判定该性能参数之该指纹。该指纹可接着用以控制该微影进程。
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公开(公告)号：TW201812443A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106128022
申请日：2017-08-18
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 莫斯羅 馬克 約翰 , MASLOW, MARK JOHN , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN
CPC classification number: G03F7/70625 , G01N21/956 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 一種方法，其涉及判定在一基板已由一或多個製程裝置根據一圖案化製程處理之後該一或多個製程裝置對該基板之一特性作出的一貢獻，該判定該貢獻係藉由自該基板之該特性之值移除一微影裝置對該特性之一貢獻及一或多個微影前製程裝置對該特性之一貢獻來完成。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其涉及判定在一基板已由一或多个制程设备根据一图案化制程处理之后该一或多个制程设备对该基板之一特性作出的一贡献，该判定该贡献系借由自该基板之该特性之值移除一微影设备对该特性之一贡献及一或多个微影前制程设备对该特性之一贡献来完成。
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