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公开(公告)号：TWI616716B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105102946
申请日：2016-01-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 普麗緹絲 克里斯多弗 , PRENTICE, CHRISTOPHER , 迪皮兒 羅倫特 麥可 馬歇爾 , DEPRE, LAURENT MICHEL MARCEL , 貝特曼 喬哈奈 馬可斯 瑪麗亞 , BELTMAN, JOHANNES MARCUS MARIA , 渥克曼 羅伊 , WERKMAN, ROY , 威爾登伯格 裘簡 賽巴斯汀 , WILDENBERG, JOCHEM SEBASTIAAN , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS
IPC: G03F1/36
CPC classification number: G03F1/70 , G03F1/22 , G03F1/36 , G06T7/0006 , G06T2207/30148
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公开(公告)号：TW201728991A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105138642
申请日：2016-11-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK
IPC: G03F1/44 , G03F7/20 , H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G03F9/7026
Abstract: 本發明揭示一種基板，其包含用於疊對及焦點之量測之一組合式目標。該目標包含：一第一層，其包含一第一週期性結構；及一第二層，其包含疊對於該第一週期性結構之一第二週期性結構。該目標具有結構不對稱性，該結構不對稱性包含由該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的非故意失配引起的一結構不對稱性分量、由該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的一故意位置偏移引起的一結構不對稱性分量，及取決於在該基板上之該組合式目標之曝光期間之一焦點設定的一焦點相依結構不對稱性分量。本發明亦揭示一種用於形成此目標之方法，以及關聯微影及度量衡設備。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种基板，其包含用于叠对及焦点之量测之一组合式目标。该目标包含：一第一层，其包含一第一周期性结构；及一第二层，其包含叠对于该第一周期性结构之一第二周期性结构。该目标具有结构不对称性，该结构不对称性包含由该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的非故意失配引起的一结构不对称性分量、由该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的一故意位置偏移引起的一结构不对称性分量，及取决于在该基板上之该组合式目标之曝光期间之一焦点设置的一焦点相依结构不对称性分量。本发明亦揭示一种用于形成此目标之方法，以及关联微影及度量衡设备。
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公开(公告)号：TW201633014A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105117449
申请日：2012-02-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , 澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 , OTTENS, JOOST JEROEN , 屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 , EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE , 賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 , JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , 凡 德仁特 威廉 彼得 , VAN DRENT, WILLIAM PETER , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 馬屈特 拉卡茲 傑西 , MACHT, LUKASZ JERZY , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
Abstract: 本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括一基板台位置量測系統及一投影系統位置量測系統，該基板台位置量測系統及該投影系統位置量測系統分別用以量測基板台及投影系統之一位置。該基板台位置量測系統包括安裝於該基板台上之一基板台參考元件，及一第一感測器頭。該基板台參考元件在實質上平行於基板台上之一基板之固持平面的一量測平面中延伸。該固持平面配置於該量測平面之一個側處，且該第一感測器頭配置於該量測平面之一對置側處。該投影系統位置量測系統包括一或多個投影系統參考元件及一感測器總成。該感測器頭及該感測器總成或關聯投影系統量測元件安裝於一感測器框架上。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括一基板台位置量测系统及一投影系统位置量测系统，该基板台位置量测系统及该投影系统位置量测系统分别用以量测基板台及投影系统之一位置。该基板台位置量测系统包括安装于该基板台上之一基板台参考组件，及一第一传感器头。该基板台参考组件在实质上平行于基板台上之一基板之固持平面的一量测平面中延伸。该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一传感器头配置于该量测平面之一对置侧处。该投影系统位置量测系统包括一或多个投影系统参考组件及一传感器总成。该传感器头及该传感器总成或关联投影系统量测组件安装于一传感器框架上。
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公开(公告)号：TW201629617A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105102946
申请日：2016-01-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 普麗緹絲 克里斯多弗 , PRENTICE, CHRISTOPHER , 迪皮兒 羅倫特 麥可 馬歇爾 , DEPRE, LAURENT MICHEL MARCEL , 貝特曼 喬哈奈 馬可斯 瑪麗亞 , BELTMAN, JOHANNES MARCUS MARIA , 渥克曼 羅伊 , WERKMAN, ROY , 威爾登伯格 裘簡 賽巴斯汀 , WILDENBERG, JOCHEM SEBASTIAAN , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS
IPC: G03F1/36
CPC classification number: G03F1/70 , G03F1/22 , G03F1/36 , G06T7/0006 , G06T2207/30148
Abstract: 本發明係關於一種方法，其包括判定用於一微影成像系統中之一基板之構形資訊；基於該構形資訊判定或估計該微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊；基於該成像誤差資訊調適一圖案化器件之一設計。在一實施例中，基於一微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊使計量目標之複數個位置最佳化，其中該最佳化涉及使描述該成像誤差資訊之一成本函數最小化。在一實施例中，基於跨越該影像場的成像要求之差異對位置進行加權。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种方法，其包括判定用于一微影成像系统中之一基板之构形信息；基于该构形信息判定或估计该微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息；基于该成像误差信息调适一图案化器件之一设计。在一实施例中，基于一微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息使计量目标之复数个位置最优化，其中该最优化涉及使描述该成像误差信息之一成本函数最小化。在一实施例中，基于跨越该影像场的成像要求之差异对位置进行加权。
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公开(公告)号：TWI428708B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW099143354
申请日：2010-12-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 文 德 蘭恩 漢斯 , VAN DER LAAN, HANS , 霍夫曼 捷羅德 卡拉斯 喬納斯 , HOFMANS, GERARDUS CAROLUS JOHANNUS , 麥格奴森 史芬 古納 克利斯特 , MAGNUSSON, SVEN GUNNAR KRISTER , 巴特勒 漢斯 , BUTLER, HANS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70666 , G03F7/70725 , G03F9/7088
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI418924B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW097116377
申请日：2008-05-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 傑瑞 羅夫 , LOF, JOERI , 艾瑞克 羅勒夫 洛卜史塔 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 溫 提波 泰爾 , TEL, WIM TJIBBO , 畢瑞其 莫斯特 , MOEST, BEARRACH
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F9/7088
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7.发明专利判定校正之方法、量測目標之方法、量測不對稱性之方法、量測目標參數之方法、度量衡裝置、微影系統、元件製造方法及相關電腦程式 有权判定校正之方法、量测目标之方法、量测不对称性之方法、量测目标参数之方法、度量衡设备、微影系统、组件制造方法及相关电脑进程
公开(公告)号：TWI626504B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW105119220
申请日：2016-06-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
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公开(公告)号：TWI474133B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW101145125
申请日：2012-11-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 英布隆 彼得 大衛 , ENGBLOM, PETER DAVID , 寇勒 卡司頓 安德瑞司 , KOHLER, CARSTEN ANDREAS , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 戴 威特 羅那堤 康尼斯 , DE WINTER, LAURENTIUS CORNELIUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70425 , G03F1/144 , G03F1/36 , G03F7/70433 , G03F7/70441
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公开(公告)号：TWI446123B
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：TW098106033
申请日：2009-02-25
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 泰尼森 寶拉司 安東尼司 安德司 , TEUNISSEN, PAULUS ANTONIUS ANDREAS , 凡 朵恩 羅納 亞伯 約翰 , VAN DOORN, RONALD ALBERT JOHN
CPC classification number: G03F7/70758 , G03F7/70725
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公开(公告)号：TWI612394B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105117449
申请日：2012-02-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , 澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 , OTTENS, JOOST JEROEN , 屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 , EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE , 賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 , JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , 凡 德仁特 威廉 彼得 , VAN DRENT, WILLIAM PETER , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 馬屈特 拉卡茲 傑西 , MACHT, LUKASZ JERZY , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
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