Systém pro úpravu rentgenových paprsku

    公开(公告)号:CZ301342B6

    公开(公告)日:2010-01-20

    申请号:CZ20003042

    申请日:1999-02-18

    Applicant: OSMIC

    Abstract: Systém pro úpravu rentgenových paprsku obsahuje zdroj rentgenových paprsku pro generování svetelného svazku rentgenových paprsku, dopadajícího na Kirkpatrick-Baezovu optiku (16) typu vedle sebe, mající vícevrstvé Braggovy odrazové plochy (18a, 18b) rentgenových paprsku. Odrazové plochy (18a, 18b) rentgenových paprsku jsou usporádány vedle sebe pod úhlem 90.degree. pro odrážení svazku rentgenových paprsku od techto odrazových ploch (18a, 18b) ve dvou smerech pro nezávislé vytvárení upraveného svazku rentgenových paprsku pro pusobení na príslušnou strukturu. Vícevrstvé Braggovy odrazové plochy (18a, 18b) rentgenových paprsku mají bocne odstupnovanou vzdálenost d.

    23.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE602004012562T2

    公开(公告)日:2009-04-16

    申请号:DE602004012562

    申请日:2004-06-10

    Applicant: OSMIC INC

    Abstract: The present invention provides an x-ray beam conditioning system with a Kirkpatrick-Baez diffractive optic including two optical elements, of which one of the optical elements is a crystal. The elements are arranged in a side-by-side configuration. The crystal can be a perfect crystal. One or both diffractive elements can be mosaic crystals. One element can be a multilayer optic. For example, the multilayer optic can be an elliptical mirror or a parabolic mirror with graded d-spacing. The graded d-spacing can be either lateral grading or depth grading, or both.

    24.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE602004012562D1

    公开(公告)日:2008-04-30

    申请号:DE602004012562

    申请日:2004-06-10

    Applicant: OSMIC INC

    Abstract: The present invention provides an x-ray beam conditioning system with a Kirkpatrick-Baez diffractive optic including two optical elements, of which one of the optical elements is a crystal. The elements are arranged in a side-by-side configuration. The crystal can be a perfect crystal. One or both diffractive elements can be mosaic crystals. One element can be a multilayer optic. For example, the multilayer optic can be an elliptical mirror or a parabolic mirror with graded d-spacing. The graded d-spacing can be either lateral grading or depth grading, or both.

    25.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE602004003347D1

    公开(公告)日:2007-01-04

    申请号:DE602004003347

    申请日:2004-02-26

    Applicant: OSMIC INC

    Abstract: An x-ray optical device includes an optic and an adjustable aperture that selectively occludes a portion of an x-ray beam. The adjustable aperture may be positioned between the optic and a sample and may be integrated with the optic or located in close proximity to the optic. The adjustable aperture enables a user to easily and effectively adjust the convergence of the x-rays. In doing so, the flux and resolution of the x-ray optical device can be optimized by using an optic having the maximum convergence allowed for all potential measurements, and then selecting a convergence for a particular measurement by adjusting the aperture.

    27.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE69909599T2

    公开(公告)日:2004-04-15

    申请号:DE69909599

    申请日:1999-02-18

    Applicant: OSMIC INC

    Abstract: An x-ray reflecting system comprising a Kirkpatrick-Baez side-by-side optic in a single corner configuration having multi-layer Bragg x-ray reflective surfaces.

    X-ray lens system
    29.
    发明专利

    公开(公告)号:AU4076600A

    公开(公告)日:2000-11-14

    申请号:AU4076600

    申请日:2000-04-07

    Applicant: OSMIC INC

    Abstract: A modular x-ray lens system for use in directing x-rays comprising a radiation source which generates x-rays and a lens system which directs the x-rays, wherein the x-ray lens system may be configured to focus x-rays to a focal point and vary the intensity of said focal point.

    Reflektor elektromagnetického zárení

    公开(公告)号:CZ301738B6

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CZ2002791

    申请日:2000-08-01

    Applicant: OSMIC

    Abstract: Reflektor elektromagnetického zárení typu s vícevrstvou strukturou má rozestupy d a první zakrivení pro odraz první frekvence elektromagnetického zárení. Reflektor je opatren pohybovacím zarízením (42) pro menení prvního zakrivení vícevrstvé struktury (18) na druhé zakrivení, pri kterém vícevrstvá struktura (18) odráží druhou frekvenci elektromagnetického zárení.

Patent Agency Ranking