-
公开(公告)号：CN100392819C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200410102475.8
申请日：2004-12-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B3/02 , B05B1/00
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B5/00 , B05C11/08 , H01L21/02019 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , Y10S134/902
Abstract: 本发明公开了一种流体供给喷嘴、基板处理装置及基板处理方法，流体供给喷嘴(100)包括流入流体的流体流入部(101)，蓄积流体的储液部(102)，设置在流体流入部(101)和储液部(102)之间的、具有用于边降低流速边使流体流入储液部(102)的节流孔(103a)的流速调整壁(103)，以及具有用于由施加在储液部(102)上的压力排出流体的狭缝(105)的排出部(104)。基板处理装置用这样的流体供给喷嘴构成。另外，基板处理方法包括通过以连续的一层膜状排出流体并供给到基板上来进行基板的处理的工序。因此，能使用流体供给喷嘴(100)。
-
公开(公告)号：CN100391621C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN03821372.9
申请日：2003-09-10
Applicant: S.I.P.A.社会工业化计划与自动化股份公司
Inventor： 马泰奥·佐帕斯 , 阿尔贝托·阿尔梅林 , 安德烈亚·萨兰 , 奥托里诺·文德拉梅利
Abstract: 本发明涉及一种用于将涂料保护层施加给容器特别是塑料瓶的方法和相关设备。该方法包括通过使得固定在输送器链条上的夹紧装置旋转而夹住瓶子，并将所述瓶子送至在处理中涉及的所有不同站：涂覆、干燥和固化。离心分离用于从瓶子的外表面除去任何多余的涂层，且瓶子保持固定在相同输送器链条上。
-
公开(公告)号：CN101060936A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200580039811.1
申请日：2005-12-06
Applicant: LG化学株式会社
IPC: B05C11/08
CPC classification number: B05C11/08 , H01L21/6715 , Y10T428/12528 , Y10T428/21
Abstract: 本发明提供了一种用于通过旋涂制造涂布基板的具有环形或多边形辅助构件的旋涂装置，其中，安装基板时，辅助构件在0.03～0.8mm的间隔距离范围和小于0.1mm的高度偏差范围内，与用于涂布的基板的侧面相邻设置。当使用本发明的装置将涂布剂旋涂至用于涂布的基板表面上时，可以消除或有效地减少旋涂完成时在涂布基板末端部分发生的滑跃现象，从而实现涂布溶液在基板上的均匀涂布，并且也可以有效地减少由于残留涂布剂的流入或停留引起的用于涂布的基板的污染。
-
公开(公告)号：CN1277631C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02819539.6
申请日：2002-06-05
Applicant: 佩纳尔韦工业公司
Inventor： 乔斯·佩纳尔韦加西亚
CPC classification number: B05C5/022 , B05B13/0242 , B05C5/0212 , B05C5/0216 , B05C11/08 , Y10T29/53374 , Y10T29/53404
Abstract: 机器(4)连续运行，并且为单个部件，该部件具有棱柱结构和有上底板的主体，该上底板具有一个大的旋转工作台(1)；多个工作站(5)，这些工作站设置于所述工作台中并具有径向相对的卷边装置(6)和密封接合物衬层装置(7)；一组或多组供给装置(8)和释放装置(9)以及用于这些工作站(5)的共用驱动装置，这些共用驱动装置位于机器(4)的内部，该机器可以操作任何外形的盖(2)或底，并通过将盖(2)在工作站(5)内转动而适应各种盖的形状。
-
公开(公告)号：CN1638059A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410102475.8
申请日：2004-12-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B3/02 , B05B1/00
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B5/00 , B05C11/08 , H01L21/02019 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , Y10S134/902
Abstract: 本发明公开了一种流体供给喷嘴、基板处理装置及基板处理方法，流体供给喷嘴(100)包括流入流体的流体流入部(101)，蓄积流体的储液部(102)，设置在流体流入部(101)和储液部(102)之间的、具有用于边降低流速边使流体流入储液部(102)的节流孔(103a)的流速调整壁(103)，以及具有用于由施加在储液部(102)上的压力排出流体的狭缝(105)的排出部(104)。基板处理装置用这样的流体供给喷嘴构成。另外，基板处理方法包括通过以连续的一层膜状排出流体并供给到基板上来进行基板的处理的工序。因此，能使用流体供给喷嘴(100)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1180413C
公开(公告)日：2004-12-15
申请号：CN01120863.5
申请日：2001-06-08
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: B05C11/08 , G11B7/26 , G11B11/10582
Abstract: 一种光学载体制造装置，包括：装载包括设有所述信息记录面的所述支承基体的基板(100)的且使之转动的转架(2)；堵塞基板(100)中心孔的堵塞机构；喷涂含树脂的涂布液(5)的喷涂机构(4，)所述堵塞机构具有堵塞所述中心孔的圆板部(31)以及与该圆板部(31)中央成一体的支承轴(32)，所述涂布液(5)被供给支承轴(32)的外周面。根据该装置，除了将制造过程及制造装置的复杂化限制得最小以外，还减小了透光层厚度。
-
公开(公告)号：CN1134310C
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN00803802.3
申请日：2000-01-19
Applicant: 施蒂格哈马技术股份公司
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C11/08 , G03F7/162
Abstract: 为了达到在基底上有均匀的涂层，本发明涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的，其中基底固定在一个基底座(5)上，从而使得待涂基底表面(15)裸露着，并使基底随基底座旋转，还有一个封盖(20)可以固定在基底座上，该封盖与基底座共同形成一个封闭的用于基底的腔室。
-
公开(公告)号：CN1454121A
公开(公告)日：2003-11-05
申请号：CN00819648.6
申请日：2000-06-19
Applicant: 迈克里斯公司
Inventor： 约翰·E·皮利恩 , 罗伯特·F·麦克洛克林 , 徐介华
CPC classification number: G01F11/00 , B05C11/08 , B05C11/10 , B05C11/1005 , G01F3/00
Abstract: 一种用于确定流体分配的可接受性的方法和系统，如用于确定涂覆基体的分散体积的液体(30)的可接受性。流体分配暴露于一能量源(16，24)，对由流体分配传递的能量进行检测，以确定流体分配的形状。将流体分配形状和分配开始和结束的定时与事先产生的标准分配轮廓进行对比，用于确定流体分配的形状和/或定时的可接受性。来自传感器(18，26)的输出用于控制对基体的进一步加工。
-
公开(公告)号：CN1392594A
公开(公告)日：2003-01-22
申请号：CN02122589.3
申请日：2002-06-14
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 岛根誉
IPC: H01L21/027 , H01L21/30 , B05C5/00 , B05C11/08 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/67253 , B05B12/084 , B05C11/02 , B05C11/08 , G03F7/162
Abstract: 一种喷涂装置包括：喷涂单元，它根据喷涂条件将光刻胶喷涂到半导体晶片上；厚度测量单元，它用于测量所喷涂的光刻胶的薄膜厚度；以及控制单元，它用于控制喷涂单元。根据用于预定数目样品的喷涂条件的信息以及预定数目样品上的薄膜厚度的信息，控制单元描绘出近似曲线，该曲线代表了薄膜厚度与预定数目样品的喷涂条件之间的关系。当喷涂装置开始其实际操作时，控制单元在所绘制出的近似曲线的基础上根据厚度目标值计算出喷涂条件的修正值，并且根据计算出来的修正值产生控制信号以控制喷涂条件。
-
公开(公告)号：CN108953664A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201710778624.X
申请日：2017-09-01
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: F16K7/12 , F16K31/122 , F16K37/00
CPC classification number: B05C11/1002 , B05C5/02 , B05C11/08 , F16K7/126 , F16K23/00 , F16K31/1221 , F16K37/0041 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , F16K7/123 , F16K37/0091
Abstract: 一种防滴落系统，包括：第一自动控制阀，第一自动控制阀的输入端流体连接至要分配的流体源，第一自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；第二自动控制阀，第二自动控制阀的输入端流体连接至第一自动控制阀的输出端，第二自动控制阀的输出端流体连接至喷嘴，第二自动控制阀具有自完全闭合至完全开启的位置；代理感测器，配置以产生代理信号，代理信号表示第一自动控制阀的位置的间接量测；以及控制器，电性连接至第一自动控制阀，第二自动控制阀与代理感测器，配置控制器以使第二自动控制阀根据代理信号闭合，从而中断流至喷嘴的液体流。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
1710
records
(took 0.026 seconds)
