MEMS SENSOR STRUCTURE COMPRISING MECHANICALLY PRELOADED SUSPENSION SPRINGS
    24.
    发明公开
    MEMS SENSOR STRUCTURE COMPRISING MECHANICALLY PRELOADED SUSPENSION SPRINGS 审中-公开
    微机电传感器麦克风机器人VORGESPANNTENAUFHÄNGUNGSFEDERN

    公开(公告)号:EP3152151A1

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:EP15730062.5

    申请日:2015-06-08

    Abstract: A MEMS sensor comprising preloaded suspension springs and a method for mechanically preloading suspension springs of a MEMS sensor are described. The MEMS sensor comprises a MEMS support structure; a plurality of suspension springs connected to said support structure; and, a proof mass flexibly suspended by said suspension springs; wherein at least one of said suspension springs is mechanically preloaded with a compressive force for reducing the natural frequency of said proof mass.

    Abstract translation: 描述了包括预加载悬架弹簧的MEMS传感器和用于机械预加载MEMS传感器的悬架弹簧的方法。 MEMS传感器包括MEMS支撑结构; 连接到所述支撑结构的多个悬架弹簧; 以及由所述悬架弹簧柔性地悬挂的证明质量块; 其中所述悬架弹簧中的至少一个机械地预加载有用于减小所述证明物质的固有频率的压缩力。

    INTEGRATED SEMICONDUCTOR DEVICES WITH SINGLE CRYSTALLINE BEAM, METHODS OF MANUFACTURE AND DESIGN STRUCTURE
    25.
    发明申请
    INTEGRATED SEMICONDUCTOR DEVICES WITH SINGLE CRYSTALLINE BEAM, METHODS OF MANUFACTURE AND DESIGN STRUCTURE 审中-公开
    具有单晶光束的集成半导体器件,制造方法和设计结构

    公开(公告)号:WO2013070294A1

    公开(公告)日:2013-05-16

    申请号:PCT/US2012/050743

    申请日:2012-08-14

    Abstract: Bulk acoustic wave filters and/or bulk acoustic resonators integrated with CMOS devices, methods of manufacture and design structure are provided. The method includes forming a single crystalline beam (18) from a silicon layer (14) on an insulator (12). The method further includes providing a coating of insulator material (22) over the single crystalline beam. The method further includes forming a via (34a) through the insulator material exposing a wafer (10) underlying the insulator. The insulator material remains over the single crystalline beam. The method further includes providing a sacrificial material (36) in the via and over the insulator material. The method further includes providing a lid (38) on the sacrificial material. The method further includes venting, through the lid, the sacrificial material and a portion of the wafer under the single crystalline beam to form an upper cavity (42a) above the single crystalline beam and a lower cavity (42b) in the wafer, below the single crystalline beam.

    Abstract translation: 提供了与CMOS器件集成的体声波滤波器和/或体声波谐振器,制造方法和设计结构。 该方法包括从绝缘体(12)上的硅层(14)形成单晶束(18)。 该方法还包括在单晶束上提供绝缘体材料(22)的涂层。 该方法还包括通过暴露出绝缘体下方的晶片(10)的绝缘体材料形成通孔(34a)。 绝缘体材料保留在单晶束上。 该方法还包括在通孔和绝缘体材料上提供牺牲材料(36)。 该方法还包括在牺牲材料上提供盖(38)。 该方法还包括在单结晶体束下通过盖子将牺牲材料和晶片的一部分排出,以在晶片上方形成上空腔(42a),并在晶片的下方形成下空腔(42b) 单晶束。

    DISPOSITIF DE CONVERSION D'ENERGIE MECANIQUE EN ENERGIE ELECTRIQUE
    28.
    发明申请
    DISPOSITIF DE CONVERSION D'ENERGIE MECANIQUE EN ENERGIE ELECTRIQUE 审中-公开
    将机械能转换为电能的装置

    公开(公告)号:WO2012072586A1

    公开(公告)日:2012-06-07

    申请号:PCT/EP2011/071194

    申请日:2011-11-28

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de conversion d'énergie(10), comprenant : -des première (20) et deuxième (30) électrodes destinées à être connectées aux bornes d'une charge électrique (60); -un électret (40) placé en vis-à-vis de la première électrode (20), monté mobile par rapport à la première électrode (20) selon un degré de liberté dans un plan, de sorte qu'un mouvement relatif entre l'électret et la première électrode induise une différence de potentiel entre les électrodes. De plus: -l'électret (40) comporte une couche continue présentant une série de saillies (42) s'étendant selon une direction (z) perpendiculaire audit plan, les saillies étant réparties avec un pas (P) inférieur à la course entre la première électrode et l'électret; -la première électrode (20) présente des faces (21) en vis-à-vis de l'électret, ces faces étant réparties avec un pas identique au pas des saillies de l'électret.

    Abstract translation: 本发明涉及一种能量转换装置(10),包括: - 第一(20)和第二(30)电极,用于连接到电负载(60)的端子; - 与第一电极(20)相对放置的驻极体(40),其相对于第一电极(20)根据平面的自由度可移动地安装,使得驻极体和第一电极之间的相对运动引起 电极之间的电位差。 此外: - 驻极体(40)包括连续层,其具有沿着垂直于所述平面的方向(z)延伸的一系列突起(42),所述突起以间距(P)分布,该间距小于 第一电极和驻极体; - 第一电极(20)具有与驻极体相对的面(21),这些面以与驻极体的突起的间距相同的间距分布。

    振動センサ及びその製造方法
    29.
    发明申请
    振動センサ及びその製造方法 审中-公开
    振动传感器及制造振动传感器的方法

    公开(公告)号:WO2008044381A1

    公开(公告)日:2008-04-17

    申请号:PCT/JP2007/064368

    申请日:2007-07-20

    Abstract:  Si基板12の表面にSiO 2 薄膜からなる保護膜20を形成し、その一部を除去して開口したエッチング窓22に多結晶Siからなる犠牲層23を成膜する。犠牲層23の上からSi基板12表面にSiO 2 からなる保護膜24を成膜し、その上から多結晶Siからなる素子薄膜13を成膜する。裏面の保護膜21に裏面エッチング窓26を開口する。TMAHにSi基板12を浸漬して裏面エッチング窓26からSi基板12を結晶異方性エッチングし、Si基板12に貫通孔14を設ける。犠牲層23が貫通孔14内に露出したら、犠牲層23がエッチング除去し、保護膜24とSi基板12の間に隙間19を生成し、Si基板12を表面側と裏面側から結晶異方性エッチングする。

    Abstract translation: 在Si衬底(12)的前表面上形成SiO 2薄膜的保护膜(20),并且去除保护膜(20)的一部分以形成蚀刻窗口 (22)。 在蚀刻窗(22)中形成多晶Si的牺牲层(23)。 在牺牲层(23)的顶部的Si衬底(12)的前表面上形成有SiO 2的保护膜(24),作为元件的薄膜(13) 在保护膜(24)上进一步形成多晶Si。 在Si衬底(12)的背侧上的保护膜(21)中打开背面蚀刻窗(26)。 Si衬底(12)浸泡在TMAH中,通过背面蚀刻窗(26)在Si衬底(12)中进行晶体各向异性蚀刻,以在Si衬底(12)中提供通孔(14)。 当牺牲层(23)暴露于通孔(14)的内部时,牺牲层(23)被蚀刻去除,以在保护膜(24)和Si衬底(24)之间提供间隙(19) 12)和Si衬底(12)的晶体各向异性蚀刻从其正面和背面进行。

    MEMS SENSOR STRUCTURE COMPRISING MECHANICALLY PRELOADED SUSPENSION SPRINGS
    30.
    发明申请
    MEMS SENSOR STRUCTURE COMPRISING MECHANICALLY PRELOADED SUSPENSION SPRINGS 审中-公开
    MEMS传感器结构包含机械预先悬挂弹簧

    公开(公告)号:WO2015185222A1

    公开(公告)日:2015-12-10

    申请号:PCT/EP2015/001150

    申请日:2015-06-08

    Abstract: A MEMS sensor comprising preloaded suspension springs and a method for mechanically preloading suspension springs of a MEMS sensor are described. The MEMS sensor comprises a MEMS support structure; a plurality of suspension springs connected to said support structure; and, a proof mass flexibly suspended by said suspension springs; wherein at least one of said suspension springs is mechanically preloaded with a compressive force for reducing the natural frequency of said proof mass.

    Abstract translation: 描述了包括预加载悬架弹簧的MEMS传感器和用于机械预加载MEMS传感器的悬架弹簧的方法。 MEMS传感器包括MEMS支撑结构; 连接到所述支撑结构的多个悬架弹簧; 以及由所述悬架弹簧柔性地悬挂的证明质量块; 其中所述悬架弹簧中的至少一个机械地预加载有用于减小所述证明物质的固有频率的压缩力。

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