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    Method for nanostructuring of the surface of a substrate
    21.
    发明授权
    Method for nanostructuring of the surface of a substrate 失效
    衬底表面的纳米结构化方法

    公开(公告)号：US07655578B2

    公开(公告)日：2010-02-02

    申请号：US11773082

    申请日：2007-07-03

    Applicant: Frank Fournel ,  Jérôme Meziere ,  Alexis Bavard ,  Florent Pigeon ,  Florence Garrelie

    Inventor： Frank Fournel ,  Jérôme Meziere ,  Alexis Bavard ,  Florent Pigeon ,  Florence Garrelie

    IPC: H01L21/26

    CPC classification number: B81C1/00634 ,  B81B2203/033 ,  B81C2201/0154 ,  H01L21/221 ,  H01L21/26506 ,  H01L21/268

    Abstract: Under consideration here is a method for the production of periodic nanostructuring on one of the surfaces of a substrate (10), presenting a periodic network of dislocations, embedded within a crystalline area (4) located in the neighborhood of an interface (5) between the crystalline material surfaces of two components (1, 2) assembled by bonding to form the substrate (10). It comprises the following steps: formation, in the dislocations (3), of implants (6) made of a material other than that of the crystalline area (4); irradiation of the substrate (10) with electromagnetic waves (11) in order to cause absorption of electromagnetic energy localized in the implants (6), this absorption leading to the appearance of the periodic nanostructuring (12) on the surface of the substrate (10).

    Abstract translation: 这里考虑的是一种用于在衬底（10）的一个表面上生产周期性纳米结构的方法，其呈现位于邻近界面（5）附近的结晶区域（4）内的位错周期性网络 通过结合组装以形成基板（10）的两个部件（1,2）的结晶材料表面。 它包括以下步骤：在位错（3）中形成由不同于结晶区域（4）的材料制成的植入物（6）; 为了引起位于植入物（6）中的电磁能量的吸收，用电磁波（11）照射基板（10），这种吸收导致在基板（10）的表面上出现周期性纳米结构（12） ）。

    METHOD FOR NANOSTRUCTURING OF THE SURFACE OF A SUBSTRATE
    22.
    发明申请
    METHOD FOR NANOSTRUCTURING OF THE SURFACE OF A SUBSTRATE 失效
    用于基底表面的纳米结构的方法

    公开(公告)号：US20080280419A1

    公开(公告)日：2008-11-13

    申请号：US11773082

    申请日：2007-07-03

    Applicant: Frank Fournel ,  Jerome Meziere ,  Alexis Bavard ,  Florent Pigeon ,  Florence Garrelie

    Inventor： Frank Fournel ,  Jerome Meziere ,  Alexis Bavard ,  Florent Pigeon ,  Florence Garrelie

    IPC: H01L21/30 ,  H01L21/00

    CPC classification number: B81C1/00634 ,  B81B2203/033 ,  B81C2201/0154 ,  H01L21/221 ,  H01L21/26506 ,  H01L21/268

    Abstract: Under consideration here is a method for the production of periodic nanostructuring on one of the surfaces of a substrate (10), presenting a periodic network of dislocations, embedded within a crystalline area (4) located in the neighbourhood of an interface (5) between the crystalline material surfaces of two components (1, 2) assembled by bonding to form the substrate (10). It comprises the following steps: formation, in the dislocations (3), of implants (6) made of a material other than that of the crystalline area (4); irradiation of the sbstrate (10) with electromagnetic waves (11) in order to cause absorption of electromagnetic energy localised in the implants (6), this absorption leading to the appearance of the periodic nanostructuring (12) on the surface of the substrate (10).

    Abstract translation: 这里考虑的是一种用于在衬底（10）的一个表面上生产周期性纳米结构的方法，其呈现位于邻近界面（5）附近的结晶区域（4）内的位错周期性网络 通过结合组装以形成基板（10）的两个部件（1,2）的结晶材料表面。 它包括以下步骤：在位错（3）中形成由不同于结晶区域（4）的材料制成的植入物（6）; 用电磁波（11）照射sbstrate（10），以引起位于植入物（6）中的电磁能的吸收，这种吸收导致在衬底（10）的表面上出现周期性纳米结构（12） ）。

    MAGNETIC PATTERNING METHOD AND SYSTEM
    24.
    发明公开
    MAGNETIC PATTERNING METHOD AND SYSTEM 审中-公开
    磁性图案的教育体系和程序

    公开(公告)号：EP2349917A2

    公开(公告)日：2011-08-03

    申请号：EP09799426.3

    申请日：2009-11-03

    Applicant: Yeda Research And Development Company Ltd.

    Inventor： NAAMAN, Ron ,  BARDEA, Amos ,  YOFFE, Alexander

    IPC: B81C1/00

    CPC classification number: C12M23/06 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0154 ,  B81C2201/0198 ,  C12M27/00 ,  H01F41/16

    Abstract: The present invention relates to a method and apparatus for patterning a substrate. The method comprises providing at least one magnetic pattern generator (100b) configured and operable to modulate the magnetic field to induce varying magnetic properties to a magnetic field according to a desired pattern; applying the modulated magnetic field in the vicinity of the substrate (102) creating a certain pattern of regions of interaction to be obtained on top of the substrate; and; interacting the substrate with magnetic particles (106), while under the application of the modulated magnetic field, the magnetic particles being attracted to selected regions of interaction defined by the certain pattern while being substantially not attracted to regions outside the regions of interaction, thus creating on top of the substrate the certain pattern of regions interacted with the magnetic particles. The desired pattern corresponds to a certain pattern for a predetermined magnetic field profile and at a predetermined distance from the magnetic pattern generator, where the sample is to be located.

    Procédé de réalisation de motifs localisés
    27.
    发明公开
    Procédé de réalisation de motifs localisés 审中-公开
    Verfahren zur Herstellung von lokalisierten Strukturmustern

    公开(公告)号：EP2306542A1

    公开(公告)日：2011-04-06

    申请号：EP10354042.3

    申请日：2010-09-03

    Applicant: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

    Inventor： Benwadih, Mohamed

    IPC: H01L51/00 ,  B81C1/00

    CPC classification number: H01L51/0004 ,  B81C1/00492 ,  B81C2201/0154 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/5012

    Abstract: Un procédé de réalisation d'au moins un motif sur une face supérieure d'un support 1 en un matériau présentant une première conductivité thermique, comprend la disposition d'un masque 7, en un matériau présentant une deuxième conductivité thermique et comportant au moins un évidement 8 ayant une forme correspondant à celle du motif, en contact avec une face inférieure du support 1, le rapport de la première conductivité sur la seconde conductivité étant supérieur ou égal à 2, ou inférieur ou égal à 1/2, pendant la durée du procédé. Le procédé comprend en outre une étape de dépôt sur la face supérieure d'une solution comprenant un matériau destiné à former le motif, et une étape d'évaporation de la solution.

    Abstract translation: 该方法包括在具有第一导热性的载体（1）的上表面上涂布溶液，并将溶液蒸发在载体上。 空腔（8）放置成与支撑件的下表面接触。 掩模（7）由具有第二导热性的材料制成，其中第一导电率与第二导电率之比在加工时间期间等于或高于2或小于或等于0.5。 空腔由填充材料填充，例如 水，具有第三导热性。 面罩由不锈钢制成，支架由塑料制成。

    Procédé de nanostructuration de la surface d'un substrat
    28.
    发明公开
    Procédé de nanostructuration de la surface d'un substrat 审中-公开
    Verfahren zur Nanostrukturierung derOberflächeeines Substrats

    公开(公告)号：EP1878694A2

    公开(公告)日：2008-01-16

    申请号：EP07112226.1

    申请日：2007-07-11

    Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ,  Université Jean-Monnet ,  Centre National de la Recherche Scientifique

    Inventor： Fournel, Frank ,  Meziere Jérôme ,  Bavard, Alexis ,  Pigeon, Florent ,  Garrelie, Florence

    IPC: B82B3/00 ,  H01L21/18

    CPC classification number: B81C1/00634 ,  B81B2203/033 ,  B81C2201/0154 ,  H01L21/221 ,  H01L21/26506 ,  H01L21/268

    Abstract: Il s'agit d'un procédé de réalisation d'une nanostructuration périodique sur une des faces d'un substrat (10) présentant un réseau de dislocations périodique, enterré au sein d'une zone cristalline (4) située au voisinage d'un interface (5) entre des faces en matériau cristallin de deux éléments (1, 2) assemblés par collage pour former le substrat (10). Il comprend les étapes suivantes :
    -formation, au niveau des dislocations (3), d'implants (6) en un matériau autre que celui de la zone cristalline (4);
    -irradiation avec une onde électromagnétique (11) du substrat (10) pour provoquer une absorption d'énergie électromagnétique localisée au niveau des implants (6), cette absorption conduisant à l'apparition de la nanostructuration (12) périodique sur la face du substrat (10).

    Abstract translation: 该方法包括在由位于元件（1,2）表面之间的界面（5）附近的结晶区域（4）以外的材料制成位错处的植入物（6），其中所述植入物通过热 扩散沉积在衬底（10）的表面上的金属材料。 用脉动/连续的电磁波照射衬底以在植入物处引起电磁能吸收，其中吸收导致在表面上的周期性纳米结构。 在照射之前，在表面上沉积相变材料。

    THREE-DIMENSIONAL ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME
    29.
    发明申请
    THREE-DIMENSIONAL ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME 审中-公开

    公开(公告)号：US20180370084A1

    公开(公告)日：2018-12-27

    申请号：US16061828

    申请日：2016-12-20

    Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

    Inventor： Evan Koon Lun Yuuji Hajime ,  Jason D. Clapper ,  Kurt J. Halverson ,  Myungchan Kang

    IPC: B29C35/02 ,  B29C59/16 ,  B29C59/18 ,  B29C61/02 ,  B29C35/08

    CPC classification number: B29C35/0266 ,  B29C35/0805 ,  B29C59/16 ,  B29C59/18 ,  B29C61/02 ,  B29C71/04 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2035/0844 ,  B29C2035/085 ,  B29C2035/0877 ,  B81C2201/0154

    Abstract: Three-dimensional polymeric article (100) having first (101) and second (102) opposed major surfaces, a first dimension perpendicular to a second dimension, a thickness orthogonal to the first and second dimensions, and a plurality of alternating first (107) and second (109) polymeric regions along the first or second dimensions, wherein the first (107) and second (108) regions extend at least partially across the second dimension, wherein the first regions (107) are in a common plane (115) and wherein some of the second regions (108) project outwardly from the plane (115) in a first direction (generally perpendicular from the plane), and some of the second regions (108) project outwardly from the plane (115) in a second direction that is generally 180 degrees from the first direction, where the first regions (107) have a first crosslink density, wherein the second regions (108) have a second crosslink density, and wherein the second crosslink density of the second regions (108) are less than the first crosslink density of the first regions (107). Embodiments of the articles are useful for example, for providing a dual-sided, textured wrapping film such that greater grip is realized both on an item wrapped by the film and the wrapped item itself.

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