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公开(公告)号：CN107076668A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480080983.2
申请日：2014-08-01
Applicant: 新港公司
CPC classification number: G01N21/55 , G01J3/00 , G01J3/02 , G01J3/0264 , G01J3/10 , G01J3/433 , G01J2003/104 , G01J2003/283 , G01J2003/2836 , G01J2003/4334 , G01N21/474 , G01N21/59 , G01N21/64 , G01N2021/556 , G01N2201/0691 , H02S50/10
Abstract: 公开了用于测量样品的光学特性的方法。该系统被配置成对与样品的特性测量有关的信号进行采样，并且基于在大致同时的情况下获取的信号来执行信号的基于软件的相干检测，以生成所得测量。这易于实时显示或生成希望的测量。在一个配置中，该系统被配置成引导入射在样品上的、在选定波长下的经调制光信号。在另一配置中，该系统配置成引导入射在样品上的、从在不同波长下并以不同频率调制的多个光信号导出的组合光信号。在又一配置中，系统被配置成引导入射在样品的不同区域上的、以不同频率调制的多个光信号。
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公开(公告)号：CN106442377A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610846387.1
申请日：2016-09-24
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01N21/35
CPC classification number: G01N21/35 , G01J3/00 , G01J3/42 , G01N21/01 , G01N21/3504
Abstract: 一种实时双光束原位红外光谱系统及其方法，系统由两台完全相同的红外光谱仪和双光束红外反应池组成。双光束红外反应池由完全相同的样品池和参考池连接而成，样品池和参考池处于同一水平线上分别对应于样品光谱仪和参考光谱仪，由计算机同步控制两台红外光谱仪，实时、同步采集样品光束和背景光束谱图来得到催化剂表面物种随反应时间变化的真实信息，排除实时状态下的气体分子振动光谱干扰和加热条件下产生的发射光谱干扰。本发明使表征结果变得更加精确可靠，可以在变化的气相组分条件下，获得不同温度下、实时的催化剂表面活性中心、活性相和中间物种的信息。
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公开(公告)号：CN106017670A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610173910.9
申请日：2016-03-24
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 金井政史
CPC classification number: G01J3/26 , B41J29/38 , B41J29/393 , G01J3/0208 , H04N1/00002 , G01J3/00 , B41J2/00 , G02B5/28
Abstract: 本发明提供可实施高精度的分光测定处理的分光测定装置以及图像形成装置。打印机具备分光器，所述分光器包括光源、向介质(A)的规定的照射范围照射来自光源的照明光的积分器光学系统、设置有让来自测定对象的光射入的波长可变干涉滤波器的分光器件、以及接收从分光器件射出的光的受光部，积分器光学系统向照射范围照射照明光，所述照射范围包含介质(A)和分光器之间的距离为基准距离时的基准测定范围(R0)，并且比基准测定范围(R0)至少增大介质(A)和分光器之间的距离的允许变动量(H)以上。
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公开(公告)号：CN102455829B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201110345978.8
申请日：2011-11-02
Applicant: 乐金显示有限公司
IPC: G06F3/042
CPC classification number: G06K7/10732 , G01J3/00 , G01J5/10 , G02B19/009 , G06F3/0418 , G06F3/0428
Abstract: 公开了红外传感器模块及其自动校正方法和使用该红外传感器模块的触摸感测方法，所述触摸感测方法包括导通所述红外传感器，所述红外传感器包括具有光接收区域且布置成与显示面板的表面垂直的传感器块，所述光接收区域被划分为以“m”行乘以“n”列布置的“m×n”个块，每个块都具有沿行方向上布置的多个光接收像素，其中“m”和“n”的每个都是二或更大的自然数；扫描每个块的光信号；相对于每一列的块选择具有最大输出光信号的块；以及将从所述列选择的块的光接收像素的光信号加和。
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公开(公告)号：KR1020040095340A
公开(公告)日：2004-11-12
申请号：KR1020047015393
申请日：2003-03-26
Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
IPC: H01L21/304 , H01L21/66 , H01L21/306
CPC classification number: B24B49/12 , B24B37/013 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01J3/00
Abstract: 본 발명은, 제1의 넓은 광빔으로 웨이퍼 표면의 제1부분을 조명하는 단계를 포함하는 화학적 기계연마 프로세스동안 종점을 검출하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 제1반사 스펙트럼 데이터가 수신된다. 데이터의 제1반사 스펙트럼은 웨이퍼 표면의 제1의 조명된 부분으로부터 반사된 광의 제1스펙트럼에 대응한다. 웨이퍼 표면의 제2부분은 제2의 넓은 광빔으로 조명된다. 제2반사 스펙트럼 데이터가 수신된다. 데이터의 제2반사 스펙트럼은 웨이퍼 표면의 제2의 조명된 부분으로부터 반사된 광의 제2스펙트럼에 대응한다. 제1반사 스펙트럼 데이터는 정규화되고, 제2반사 스펙트럼 데이터도 정규화된다. 종점은 정규화된 제1스펙트럼 데이터와 정규화된 제2스펙트럼 데이터간의 차에 기초하여 결정된다.
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Patent Agency Ranking26.发明专利
公开(公告)号：KR102234169B1
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020180165750A
申请日：2018-12-20
Applicant: 세종대학교산학협력단
CPC classification number: C04B14/303 , C04B14/022 , C04B14/06 , C04B14/307 , C04B14/308 , C04B28/02 , G01J3/00 , G01N21/31
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 자가 응력 측정이 가능한 콘크리트 조성물은, 시멘트 및 응력에 반응하여 스펙트럼 이동이 발생하는 응력 센싱 물질을 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：JP6022464B2
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：JP2013536565
申请日：2011-10-25
Applicant: ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール
Inventor： サッシャ・ピエール・ヒュースラー , ヘルバート・オー・モーザー
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G02B5/18 , G01J3/00 , G03F7/0002 , G03F7/0005 , G03F7/0017 , G03F7/0037 , G03F7/2014 , G03F7/203 , G03F7/213 , G03F7/70058 , G03F7/70416 , G03F7/70466
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28.发明专利
公开(公告)号：JP2005522025A
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：JP2003580901
申请日：2003-03-26
Applicant: ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation
Inventor： カッツ・ウラジミール , ミッチェル・ベラ
IPC: B24B37/013 , B24B49/12 , G01B11/06 , G01J3/00 , G01N21/27 , H01L21/304 , H01L21/66 , B24B37/04
CPC classification number: B24B49/12 , B24B37/013 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01J3/00
Abstract: 【課題】 終点検出における精度を改善した終点検出システム及び方法を提供する。
【解決手段】 第一の広域光ビーム（１３２）によりウェハ（３００）の表面の第一の部分を照射することを含む、化学機械研磨プロセス中に終点を検出するシステム及び方法が開示される。 第一の反射スペクトルデータが受信される。 第一の反射スペクトルのデータ（３０８）は、ウェハの表面の第一の照射部分から反射された光の第一のスペクトルに対応する。 第二の反射スペクトルのデータは、ウェハの表面の第二の照射部分から反射された光の第二のスペクトルに対応する。 終点は、標準化された第一のスペクトルデータと標準化された第二のスペクトルデータとの間の差に基づいて決定される。-
公开(公告)号：JPWO2017099253A1
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：JP2016086877
申请日：2016-12-12
Applicant: 株式会社ニコン
CPC classification number: G01N21/21 , A61B1/00 , A61B1/00009 , A61B1/04 , A61B1/06 , A61B1/0646 , G01J3/00 , G01J4/00 , G01N21/251 , G01N21/314 , G01N2021/216 , G01N2021/4792 , G01N2201/067 , G06T7/521 , G06T15/005 , H01L27/1462 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14636 , H01L27/14645 , H01L27/14649
Abstract: 偏光特性画像計測装置は、偏光状態の異なる複数の光をそれぞれ異なる周波数で強度変調して対象物に照射する第1照射部と、第1照射部から照射され対象物によって散乱された光を、異なる偏光状態ごとに光電変換する複数の第1光電変換部が配置された受光部と、複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号を異なる周波数で検波し、複数の光のいずれに由来する信号かを弁別して出力する弁別部とを備える。
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公开(公告)号：JP2016027625A
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：JP2015115322
申请日：2015-06-05
Applicant: トプティカ フォトニクス アクチエンゲゼルシャフト , TOPTICA Photonics AG
Inventor： トーマス アー プッペ , ニコ フィーヴェーク , アルミン ザック , アレクサンダー ゼル
CPC classification number: H01S3/1106 , G01J3/00 , H01S3/067 , H01S3/10046 , H01S3/06712 , H01S3/08054 , H01S3/082 , H01S3/107 , H01S3/1118 , H01S3/1304 , H01S3/1307 , H01S3/136 , H01S3/2383
Abstract: 【課題】時間的に間隔をおいた光パルスを生じる装置を改良する。 【解決手段】この装置は、第1の繰返し率を有する第1の光パルスシーケンス(I)を生じる第1の光源(51)と、第2の繰返し率を有する第2の光パルスシーケンス(II)を生じる第2の光源(52)と、第1の繰返し率および/または第2の繰返し率に影響する少なくとも1つの設定要素と、この設定要素に、第1の繰返し率および/または第2の繰返し率を周期的に変化させるための周期的な変調信号(62)を入力する制御要素(61)とを備える。第1の光パルスシーケンス(I)および第2の光パルスシーケンス(II)から制御信号(58)を得る位相検出器(57)と、制御信号(58)および変調信号(62)から制御偏差信号(63)を得る補正要素(59、60)と、入力に制御偏差信号(63)が入力される調整器(64)とを有するように構成された制御回路が設けられる。 【選択図】図5
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于产生时间上远的光脉冲的改进的装置。解决方案：一种装置包括：第一光源（51），产生具有第一重复率的第一光脉冲序列（I） 产生具有第二重复率的第二光脉冲序列（II）的第二光源（52）; 影响第一重复率和/或第二重复率的至少一个设定元件; 以及控制元件（61），其输入用于第一重复率和/或第二重复率的周期性变化的周期性调制信号（62）到设置元件。 该装置设置有控制电路，该控制电路包括：从第一光脉冲序列（I）和第二光脉冲序列（II）导出控制信号（58）的相位检测器（57） 校正元件（59,60），其从所述控制信号（58）和所述调制信号（62）导出控制偏差信号（63）; 以及调节器（64），输入到控制偏差信号（63）的输入。选择的图：图5
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