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公开(公告)号:CN104737474A
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201380054457.4
申请日:2013-08-21
Applicant: SK电信有限公司
Inventor: 曹正植
IPC: H04B10/85 , H04B10/548 , H04B10/25 , H04L9/08
CPC classification number: G01J3/4535 , H04B10/70 , H04L9/0852 , H04L9/0858 , H04L2209/24
Abstract: 公开了用于差分光学相位调制的方法和装置。根据本发明的某个实施方式,提供通过在光学相位调制器被排列在具有不同路径的非对称光学干涉仪外部的量子密钥分配系统中的发送单元和接收单元中的相位调制步骤中将两个时分单光子同时调制成相反值的差分调制方法,将相位调制器和相位调制器驱动器的驱动范围减小为与传统方法相比一半的方法和装置。
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公开(公告)号:CN103582830A
公开(公告)日:2014-02-12
申请号:CN201280023954.3
申请日:2012-04-04
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , G01B9/02051 , G01B9/02056 , G01J3/4535 , G02B26/06 , G02B26/0841
Abstract: 本发明所涉及的光学部件的制造方法是一种制造光透性光学部件(12)的方法,所包含的工序为:第1蚀刻工序,蚀刻板状构件的硅区域(11)并形成凹部;热氧化工序,使凹部的内侧面热氧化并形成氧化硅膜(14);氮化膜形成工序,形成覆盖氧化硅膜(14)的氮化硅膜(16)。由此,就能够实现在相对于基板面成大倾斜(或者接近于垂直)的半透过反射面上可以均匀地形成氧化硅膜的光学部件的制作方法、以及由该方法进行制作的光学部件。
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公开(公告)号:CN1153297A
公开(公告)日:1997-07-02
申请号:CN96102997.8
申请日:1996-03-28
Applicant: 迪维安公司
Inventor: 伊凡·普里克里尔 , 霍利斯·奥尼尔·霍尔II
CPC classification number: G01J3/45 , G01J3/4535 , G01J9/02
Abstract: 一种光束测试干涉仪,包括:将光源分为测试与参考光束的分束器,探测干涉图样的图象装置,测试光束反射镜,参考光束微反射镜,和参考光束聚焦装置。微反射镜的横向尺寸小于参考光束中心波瓣的横向尺寸,空间滤光器用以减少象差,包括置于透明基体上的反射器,反射器横向尺寸小于会聚其上的光束空间强度分布中心波瓣的横向尺寸。还提供一种在该测试系统中的滤光方法。本发明可消除象差影响,并且在对光操作中不必改变干涉仪的配置。
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公开(公告)号:CN1026442C
公开(公告)日:1994-11-02
申请号:CN90110257.1
申请日:1990-12-29
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor: 吉川治
CPC classification number: G01J3/4535 , H02P23/22
Abstract: 本发明揭示了一种用来控制干涉仪中可动镜往复运动的方法和装置,其中,首先设定一与所需的可动镜往复速度相应的分频比,然后根据该分频比对来自一振荡器的一脉冲信号进行分频以便产生一分频后的信号,然后将该分频信号与一干涉信号进行比较以产生一控制可动镜往复速度的一误差信号。最好,该分频信号能加以改变,使使用者能按需要改变与所使用的检测器类型相适应的可动镜往复速度,从而能在最佳条件下进行测量。
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公开(公告)号:CN1023729C
公开(公告)日:1994-02-09
申请号:CN90110258.X
申请日:1990-12-29
Applicant: 株式会社岛津制作所
IPC: G01J3/45
CPC classification number: G01J3/4535 , G01J3/453 , G01N2021/3595
Abstract: 一种干涉分光光度计。在收集数据的同时通过提供90°相位控制来监视可动反射镜的位置,以准确地进行数据的相干相加。包括主干涉仪,控制干涉仪,滑动控制器,模/数转换器,保持数据的寄存器和累积数据的存储器,可逆计数器,以及一个判定部件。当计数器的值改变时,计数器使模/数转换器执行其模/数转换,然后,判定部件在模/数转换后检查计数器的值。如果该值与模/数转换前得到的计数值不同,则废弃保持在寄存器中的数据。
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公开(公告)号:CN103885179B
公开(公告)日:2017-12-15
申请号:CN201310593817.X
申请日:2013-11-21
Applicant: 安捷伦科技有限公司
CPC classification number: G01B9/02 , G01B9/02015 , G01J3/06 , G01J3/45 , G01J3/4535 , G01J2003/061 , G01N21/35 , G01N2021/3595 , G01N2201/061 , G01N2201/10 , G02B7/182
Abstract: 一种干涉仪包括固定组件和可移动组件,所述固定组件包括基座、分束器组件和固定反射镜,所述可移动组件包括上扫描架、下扫描架和连接到下扫描架的可移动反射镜。一对内挠曲支承件连接到基座和上扫描架,允许上扫描架相对于基座的运动,并且一对外挠曲支承件连接到上和下扫描架,允许下扫描架相对于上扫描架的运动。上和下扫描架的运动允许可移动反射镜在扫描方向上的扫描运动,所述扫描运动被限制成使得在扫描运动期间,扫描运动保持包含可移动反射镜的平面,平行于在可移动和固定组件之间的相应距离处的包含可移动反射镜的多个平面。
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公开(公告)号:CN107407601A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201580070440.7
申请日:2015-02-02
Applicant: 福斯分析仪器公司
CPC classification number: G01J3/4535 , G01J3/06 , G01J3/45
Abstract: 光谱仪系统和用于补偿由光谱仪系统产生的干涉图的时间周期性扰动的方法。光谱仪系统(2)包括:扫描干涉仪(4);驱动系统(6),其机械耦合到扫描干涉仪(4)的可移动反射器元件(14)并且可操作以实现多个,优选地多于两个,例如三个不同的扫描速度下可移动反射器元件(14)的往复运动;检测器装置(8),被配置为以等距时间间隔对由扫描干涉仪(2)形成的干涉图进行采样以产生采样干涉图;以及数据处理器(10),适于在所述多个不同扫描速度中的每一个处获取采样的干涉图,并且执行如此获取的多个采样干涉图的内容的相对比较。
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公开(公告)号:CN105492879B
公开(公告)日:2017-07-28
申请号:CN201480045789.0
申请日:2014-07-31
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G01B9/02051 , G01J3/0256 , G01J3/4532 , G01J3/4535
Abstract: 制造光干涉仪的方法包括:在支承基板的主面和形成在主面上的第一绝缘层上形成用于分束器的第一半导体部和用于可动镜的第二半导体部的第一工序;在第一半导体部的第一侧面与第二半导体部的第二侧面之间配置第一壁部的第二工序;和使用荫罩掩模在第二侧面形成第一金属膜,由此在第二半导体部形成镜面的第三工序。在第三工序中,在利用掩模部和第一壁部掩蔽第一侧面并且使第二侧面从开口部露出的状态下形成第一金属膜。
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公开(公告)号:CN103582830B
公开(公告)日:2016-08-31
申请号:CN201280023954.3
申请日:2012-04-04
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , G01B9/02051 , G01B9/02056 , G01J3/4535 , G02B26/06 , G02B26/0841
Abstract: 本发明所涉及的光学部件的制造方法是一种制造光透性光学部件(12)的方法,所包含的工序为:第1蚀刻工序,蚀刻板状构件的硅区域(11)并形成凹部;热氧化工序,使凹部的内侧面热氧化并形成氧化硅膜(14);氮化膜形成工序,形成覆盖氧化硅膜(14)的氮化硅膜(16)。由此,就能够实现在相对于基板面成大倾斜(或者接近于垂直)的半透过反射面上可以均匀地形成氧化硅膜的光学部件的制作方法、以及由该方法进行制作的光学部件。
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公开(公告)号:CN104145177A
公开(公告)日:2014-11-12
申请号:CN201380011702.3
申请日:2013-02-27
Applicant: 国立大学法人香川大学
Inventor: 石丸伊知郎
IPC: G01J3/453 , G01N21/45 , G01N21/49 , A61B5/145 , A61B5/1455
CPC classification number: A61B5/1455 , A61B5/14532 , A61B5/6887 , A61B5/7257 , A61B2562/0233 , G01B9/02041 , G01B9/02049 , G01B9/0207 , G01J3/0205 , G01J3/0229 , G01J3/0256 , G01J3/0272 , G01J3/10 , G01J3/18 , G01J3/4532 , G01J3/4535 , G01J2003/102 , G01J2003/4538 , G01N21/255 , G01N21/359 , G01N21/45 , G01N21/49 , G01N21/9501 , G01N2201/0612
Abstract: 本发明使从测量对象发出的测量光入射到固定反射镜部和可动反射镜部,形成被上述固定反射镜部反射的测量光与被上述可动反射镜部反射的测量光的干渉光。此时,通过使上述可动反射镜部进行移动来获得测量光的干渉光强度变化,基于该变化求出测量光的干涉图。另外,同时使作为测量光的波长频带的一部分的窄频带的波长的参考光入射到上述固定反射镜部和上述可动反射镜部,形成被该固定反射镜部反射的参考光与被该可动反射镜部反射的参考光的干涉光。此时,使上述可动反射镜部进行移动,由此基于参考光的干渉光强度变化的振幅以及上述测量光中的同上述参考光相同波长的测量光与上述参考光的相位差来校正上述测量光的干涉图,基于校正后的干涉图来求出上述测量光的光谱。
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