曝光方法及曝光装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101663619A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200780052925.9

    申请日:2007-08-10

    Abstract: 本发明提供一种曝光方法及曝光装置。使基板(1)固定支承于四边基板支承构件(11)。将绘有图形的光掩模(2)配置于基板(1)的覆盖感光层的位置。通过光掩模(2)将光照射到基板(1)的感光层从而将图形转印到基板上。曝光时,光掩模(2)和基板(1)互相均匀地接触,并且使基板支承构件(11)及基板(1)变形为期望的弯曲形状的状态。基板支承构件(11)以沿与互相对置的第一对侧缘部相同的方向上延伸的第一轴,和沿与互相对置的第二对侧缘部相同的方向上延伸的第二轴为中心,一边分别控制弯曲量,基板支承构件(11)一边与基板(1)共同弯曲。由此,图形的尺寸实质地变化而转印到基板(1)上。

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