用于半导体计量的液态金属旋转阳极X射线源

    公开(公告)号:CN111164724B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN201880064258.4

    申请日:2018-10-18

    Abstract: 本文中提出用于实现适用于高处理量x射线计量的高亮度、基于液体的x射线源的方法及系统。通过使用电子流轰击旋转液态金属阳极材料来产生x射线辐射以产生高亮度x射线源。旋转阳极支撑结构在按恒定角速度旋转时,将所述液态金属阳极材料支撑在相对于所述支撑结构的固定位置中。在另一方面中,平移致动器经耦合到旋转组合件,以在平行于旋转轴的方向上平移所述液态金属阳极。在另一方面中,输出窗经耦合到所述旋转阳极支撑结构。经发射x射线经透射穿过所述输出窗朝向所测量样品。在另一方面中,围阻窗独立于旋转角速度维持所述液态金属阳极材料的形状。

    散射测量分析方法、散射测量分析装置及信息存储介质

    公开(公告)号:CN113049615A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202011565438.6

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤,在所述理论散射强度取得步骤中,通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献,所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献,所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。

    用于基于X射线的测量系统的校准及对准的多层目标

    公开(公告)号:CN112105917A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201980031121.3

    申请日:2019-03-27

    Abstract: 本文描述实现基于X射线的测量系统的快速及准确的绝对校准及对准的多层目标。所述多层校准目标具有非常高衍射效率且使用快速、低成本生产技术来制造。每一目标包含使用成对的X射线透射及X射线吸收材料来构建的多层结构。所述多层目标结构的层定向为平行于入射X射线束。所测量的衍射图案指示所述入射X射线束与所述多层目标之间的位置及定向失准。在另一方面中,复合多层目标包含至少两个多层结构,布置成沿与所述入射X射线束对准的方向彼此相邻、沿垂直于所述入射X射线束的方向彼此相邻或其组合。在一些实施例中,所述多层结构以间隙距离彼此空间间隔开。

    机器学习中的光学计量以表征特征

    公开(公告)号:CN111971551A

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201980025007.X

    申请日:2019-04-10

    Abstract: 计量系统可以包括被配置为针对经处理的衬底上的一个或多个特征产生光学计量输出的光学计量工具,及已使用以下训练集训练的计量机器学习模型:(i)多个特征的外形、临界尺寸和轮廓,以及(ii)多个特征的光学计量输出。计量机器学习模型可以被配置为:接收来自光学计量工具的光学计量输出;以及输出经处理的衬底上的一个或多个特征的外形、临界尺寸和/或轮廓。

    利用X射线散射测量术对深层结构进行工艺监测

    公开(公告)号:CN110603435A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201880030145.2

    申请日:2018-05-29

    Abstract: 在本文中呈现用于基于高纵横比半导体结构的x射线散射测量术测量而估计工艺参数、结构参数或两者的值的方法及系统。以制作工艺流程的一或多个步骤来执行X射线散射测量术测量。迅速地且以充分准确度执行所述测量以达成进行中半导体制作工艺流程的合格率改进。基于所关注参数的所测量值而确定工艺校正且将所述校正传递到工艺工具以改变所述工艺工具的一或多个工艺控制参数。在一些实例中,在处理晶片的同时执行测量以控制进行中制作工艺步骤。在一些实例中,在特定工艺步骤之后执行X射线散射测量术测量且更新工艺控制参数以用于处理未来装置。

    一种用于散射实验站的真空腔体组件

    公开(公告)号:CN110567997A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201910962120.2

    申请日:2019-10-11

    Abstract: 本发明提供一种用于散射实验站的真空腔体组件,包括:真空腔体本体;连接于真空腔体本体前端的波纹管;设置于真空腔体本体后端的透光窗口,透光窗口处固定有聚酰亚胺薄膜;设置于底部的两套二维运动平台;分别通过一连接装置与二维运动平台连接的第一、第二束流阻挡器;以及分别安装于第一、第二束流阻挡器上的用于测量光强的光电二极管;其中,第一、第二束流阻挡器可同时运动或分别运动,同时满足SAXS、GISAXS以及低分辨XRR三种实验要求。该真空腔体组件可实现样品的大q值测量,并且结构简单、易于维护,束流阻挡器可灵活拆卸,满足不同用户不同实验要求;同时为实验站GISAXS实验自动化对样提供硬件条件。

    一种利用SAXS分析高性能纤维的方法和系统

    公开(公告)号:CN107589133B

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201610534986.X

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明提出一种利用SAXS分析高性能纤维的方法,该方法包括以下步骤:获取步骤:利用同步辐射SAXS获取高性能纤维内微孔结构的实验图谱;建模步骤:根据实验图谱的特征构建SAXS二维全谱拟合的计算模型,以对高性能纤维内的微孔结构进行描述;解析步骤:调整计算模型中的可调参数,使得计算图谱与所述实验图谱之差最小,从而解析出计算模型的参数,以分析和表征出高性能纤维的微孔结构。本发明还提出了一种利用SAXS分析高性能纤维的系统。本发明根据同步辐射光源的特性、SAXS散射特性来分析高性能纤维内部的结构特点,从而为纤维性能的分析提供更加准确的数据。

    用于小角X射线散射测量的晶片对准

    公开(公告)号:CN110398505A

    公开(公告)日:2019-11-01

    申请号:CN201910330447.8

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本申请涉及用于小角X射线散射测量的晶片对准。X射线装置包括支架、X射线源、检测器、光学测量仪器和电机。支架被配置为保持具有光滑的第一侧和与第一侧相对且图案在其上被形成的第二侧的平面样本。X射线源被配置成朝着样本的第一侧引导X射线的第一波束。检测器被定位于样本的第二侧上,以便接收透射穿过样本并从图案散射的X射线的至少一部分。光学测量仪器被配置成朝着样本的第一侧引导光辐射的第二波束,感测从样本的第一侧反射的光辐射,并响应于感测到的光辐射而输出指示样本的定位的信号。电机被配置成响应于信号而调整在检测器和样本之间的对准。

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