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公开(公告)号：CN112135924A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201880093587.1
申请日：2018-06-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Inventor： 织田容征
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。而且，在本发明中，红外光照射器(2)配置于下部容器(62)内的从传送带(53)分离的位置。红外光照射器(2)从多个红外光灯(22)朝向上方照射红外光，执行对载置于带(52)的上表面的多个基板(10)的加热处理。在成膜室(6A)内，通过同时执行基于红外光照射器(2)的红外光照射的加热处理和基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理，从而在载置于带(52)的上表面的基板(10)上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN108699681B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201680082399.X
申请日：2016-04-26
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C14/50 , C23C16/02 , C23C16/44 , H01L21/677
Abstract: 本发明的目的在于提供一种将装置成本抑制到最小限度、并且抑制在成膜对象的基板产生翘曲或裂纹的现象的成膜装置。然后，本发明中，进行向基板装载台(3)的基板投入动作(M5)的吸附抓持器(4A)以及进行从基板装载台(3)的基板取出动作(M6)的吸附抓持器(4B)具有加热机构(42A以及42B)。因此，即使在由各吸附抓持器(4A以及4B)实现的基板(10)的抓持状态下，也能够进行通过加热机构(42A以及42B)对基板(10)进行加热的第一以及第二预加热处理。
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公开(公告)号：CN104755174B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201280076801.5
申请日：2012-11-05
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: C23C16/455 , B05B1/044 , B05B7/0012 , B05B7/0075 , B05B7/0483 , B05B12/18 , B05B14/00 , B05B15/55 , C23C16/4412 , C23C16/4486 , C23C16/46
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其能够在基板上形成膜质良好的膜，能够将溶液有效地用于成膜处理，能够实现装置整体的小型化。因此，在本发明的成膜装置中，具备喷嘴(1)、第一室(2)、第一气体供给口(3a)、第二室(4)、贯通孔(5)以及喷雾口(10)。从喷嘴(1)喷射的液滴化了的溶液收纳于第一室(2)，通过来自第一气体供给口(3a)的气体，在第一室内(2)内使溶液雾化。雾化后的溶液通过贯通孔(5)从第一室(2)向第二室(4)移动，从设置于第二室(4)的喷雾口(10)朝向基板(50)雾状喷射。
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公开(公告)号：CN104203828B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280071728.2
申请日：2012-03-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C18/12
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/1258 , C23C18/1291 , C23C18/1295 , C23C18/14 , H01B1/08 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供能够以低成本制作低电阻的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。在本发明的金属氧化膜的制造方法中，用含有锌的溶液(7)对非真空下配置的基板(1)进行喷雾，进一步用含有掺杂剂的掺杂剂溶液(5)对基板(1)进行喷雾。然后，对成膜后的金属氧化膜(10)实施低电阻化处理。在此，供给至基板(1)的掺杂剂的摩尔浓度相对于供给至基板(1)的锌的摩尔浓度为规定的值以上。
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公开(公告)号：CN102405305B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN200980158921.8
申请日：2009-04-20
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 , 国立大学法人京都大学
IPC: C23C16/40 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/407 , C23C16/405 , C23C16/448 , C23C16/4486
Abstract: 本发明的目的是提供一种可以使形成的金属氧化膜维持在低电阻且进一步提高生产效率的金属氧化膜的成膜方法。而且，在本发明的金属氧化膜的成膜方法中，将含有金属元素和氨(4a)的溶液(4)雾化。另一方面，加热基板(2)。然后，向该加热中的基板(2)的第一主面上供给经雾化的溶液(4)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105121699A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201380075709.1
申请日：2013-04-17
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 高知县公立大学法人
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C18/1216 , C23C18/14
Abstract: 本发明提供一种能够实现所形成的膜密度的提高的成膜方法。对此，在本发明的成膜方法中，通过向基板(10)雾状喷射雾化的溶液，从而在基板上形成膜。接下来，中断成膜工序。接下来，向基板照射等离子。
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公开(公告)号：CN103314134B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201180065147.3
申请日：2011-03-15
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C18/02 , B05B1/04 , C23C16/455
CPC classification number: H01L31/1876 , B05B1/04 , B05B7/0012 , B05B7/0416 , B05B7/0458 , C23C16/4486 , C23C16/45514 , C23C16/45595
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，该成膜装置能够维持均匀薄雾向用于实施成膜的基板的喷出，且防止薄雾喷射用喷嘴周边的结构的庞大化。而且，本发明具备用于产生成为成膜原料的薄雾的薄雾产生器(2)、及将由薄雾产生器产生的薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射的薄雾喷射用喷嘴(1)。薄雾喷射用喷嘴具备：具有空心部(1H)的主体部(1A)；供给薄雾的薄雾供给口(5a)；将薄雾喷射到外部的喷射口(8)；供给载气的载气供给口(6a)；及形成有多个孔(7a)的淋浴板(7)。在此，通过淋浴板的配置，空心部被分割为与载气供给口连接的第一空间(1S)及与喷射口连接的第二空间(1T)，薄雾供给口与第二空间连接。
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公开(公告)号：CN103314134A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201180065147.3
申请日：2011-03-15
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C18/02 , B05B1/04 , C23C16/455
CPC classification number: H01L31/1876 , B05B1/04 , B05B7/0012 , B05B7/0416 , B05B7/0458 , C23C16/4486 , C23C16/45514 , C23C16/45595
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，该成膜装置能够维持均匀薄雾向用于实施成膜的基板的喷出，且防止薄雾喷射用喷嘴周边的结构的庞大化。而且，本发明具备用于产生成为成膜原料的薄雾的薄雾产生器(2)、及将由薄雾产生器产生的薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射的薄雾喷射用喷嘴(1)。薄雾喷射用喷嘴具备：具有空心部(1H)的主体部(1A)；供给薄雾的薄雾供给口(5a)；将薄雾喷射到外部的喷射口(8)；供给载气的载气供给口(6a)；及形成有多个孔(7a)的淋浴板(7)。在此，通过淋浴板的配置，空心部被分割为与载气供给口连接的第一空间(1S)及与喷射口连接的第二空间(1T)，薄雾供给口与第二空间连接。
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公开(公告)号：CN102482777A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200980161287.3
申请日：2009-09-02
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 , 国立大学法人京都大学
IPC: C23C18/12 , B05D3/02 , H01L21/288
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/1258 , C23C18/1291 , H01G9/2031 , H01L29/7869 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明的目的是提供一种可以使形成的金属氧化膜维持在低电阻且进一步提高生产效率的金属氧化膜的成膜方法。本发明的金属氧化膜的成膜方法中，具备下述的各工序。首先，将含有金属元素和乙二胺(4a)的溶液(4)雾化。另一方面，加热基板(2)。然后，向通过上述加热工序而成为加热状态的基板(2)的第一主面上供给在上述工序中经雾化的溶液(4)。
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公开(公告)号：CN102165097A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200880131323.7
申请日：2008-09-24
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/40
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/407 , C23C16/452 , C23C16/45523 , C23C16/482 , C23C18/12 , C23C18/1216 , C23C18/1279 , C23C18/1291 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/0262 , H01L21/02628
Abstract: 本发明的目的在于提供透射率高的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法。本发明的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法包括：(A)使含有锌或者锌和镁的溶液(4、8)雾化的工序；(B)对基板(2)加热的工序；(C)向加热中的基板的第一主面上供给雾化好的溶液和臭氧的工序。
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