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公开(公告)号：CN110139835A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780082243.6
申请日：2017-09-08
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 森田博志
Abstract: 一种水处理装置的运转方法，其是将具有并列设置的多个同种且同处理容量的水处理器的水处理装置进行运转的方法，对各水处理器通以相同的被处理水并将处理水进行采水；所述水处理装置的运转方法的特征在于，使对于一部分的水处理器A的通水较对于其他水处理器B的通水为高负荷，在该水处理器A的处理水发生水质恶化的情况下，根据至此为止的对于水处理器A的累积负荷来预测水处理器B的寿命，并基于此预测结果，控制以后对于各水处理器的通水量及通水时间。
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公开(公告)号：CN107835792A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201680041101.0
申请日：2016-09-12
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: B01J39/04 , B01J41/04 , B01J47/12 , C02F1/42 , C02F1/444 , C02F1/62 , C02F2101/20 , C02F2103/04 , H01L21/02052 , H01L21/67057
Abstract: 本发明提供一种金属污染防止剂，其含有分子量10万以上的聚苯乙烯磺酸等具有离子交换基的聚合物，其可减少产品清洗用的超纯水中微量金属的附着性，抑制清洗对象的金属污染。该具有离子交换基的聚合物是以离子交换反应吸附超纯水中的微量金属而抑制其附着于制品。本发明还提供一种用添加有该金属污染防止剂的超纯水清洗制品的制品清洗方法。优选为使添加有金属污染防止剂的超纯水流过分离膜组件，用膜透过水清洗制品。
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公开(公告)号：CN107076716A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680002983.X
申请日：2016-01-06
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: G01N31/00 , G01N31/10 , G01N31/12 , H01L21/304
CPC classification number: G01N31/12 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B3/12 , B08B3/14 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67276
Abstract: 不受金属等混入杂质影响，而简便且稳定地准确测定电子材料的洗净工序中使用的氧化性洗净液中的氧化剂浓度。一种氧化剂浓度的测定方法，其在测定用作电子材料洗净工序的洗净液的试样液中的氧化剂浓度时，使试样液中的氧化剂的至少一部分通过加热等而分解，测定因氧化剂的分解而产生的氧气的释放量，基于该测定值求出试样液的氧化剂浓度。
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公开(公告)号：CN103210476A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180055008.2
申请日：2011-11-11
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/04 , H01L21/67057
Abstract: 将通过清洗液清洗过的硅晶片用碳酸水进行漂洗。根据该硅晶片清洁方法，不存在通过漂洗处理发生静电而发生静电破坏的情形、或者在清洗后的硅晶片表面上通过静电附着垃圾的情形，能够防止硅晶片附着漂洗处理时的金属杂质，并且，能够进行使用在考虑到成本的同时进而没有产生残渣的顾虑的干净的漂洗液的漂洗处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101970137A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980110111.5
申请日：2009-03-13
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: B08B3/08 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供可以高效率地制造高浓度的溶气水、并将其循环供给使用地点的溶气水供给系统。用溶有气体(氧)的水清洗被清洗物后的废水(清洗废水)经由配管15积存在贮留槽1中，再经由补给水配管1a向贮留槽1中供给补给水。贮留槽1内的水经由压送泵2和用于保持水温恒定的热交换器3输送到纯化装置4中。通过纯化装置4除去了杂质的水经由流量计5输送到脱气装置6中。之后，通过气体溶解装置7溶解气体，添加药品后供给使用地点。
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公开(公告)号：CN101061261B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200580039376.2
申请日：2005-09-14
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C25D1/22 , C25B1/28 , B08B3/08 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/28 , B08B3/08 , B08B3/14 , C02F2103/346 , H01L21/67057
Abstract: 在使用过硫酸的清洗系统中，过硫酸浓度足够高、可提高清洗效果，同时得到可持续清洗的清洗系统。本发明提供向清洗装置供给过硫酸的供给装置。其具备：电解反应池(10)：通过电解反应由溶液中所含的硫酸离子生成过硫酸离子，再生过硫酸溶液；循环线路(4)、(5)、(6)：使过硫酸溶液在清洗池(1)和电解反应池(10)之间循环。通过该构成可得到供给装置。通过上述构成以及以过硫酸溶液(2)作为清洗液清洗被清洗材料(30)的清洗池(1)构建清洗系统。
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公开(公告)号：CN101401193A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200780008420.2
申请日：2007-03-12
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B01D19/00 , B01F1/00 , B08B3/08
CPC classification number: C02F1/70 , B01D19/0036 , B01F3/04269 , B01F2003/04404 , B01F2003/04914 , B08B3/12 , B08B9/0321 , C01B3/501 , C01B2203/0405 , C01B2203/0495 , C02F1/444 , C11D3/0052 , H01L21/67057
Abstract: 本发明涉及一种将特定气体溶解于水中的气体溶解洗涤水的制造方法，其特征在于在超过大气压的加压下，将特定气体溶解于水中，形成大气压下的溶解度以上的浓度的气体溶解水，接着减小气体溶解水的压力，去除溶解气体的一部分；一种气体溶解洗涤水的制造装置，该装置包括气体溶解装置(14)，其在超过大气压的加压下将特定气体溶解于水中；气体部分去除装置(15)，其将来自气体溶解装置的气体溶解水减小到低于气体溶解时的压力，去除溶解气体的一部分；采用该气体溶解洗涤水的洗涤装置。不采用真空泵等的减压机构，可安全地制造所需的气体浓度的气体溶解洗涤水，可再利用使用完的气体溶解洗涤水的水和特定气体，可适用于必须要求高度的清洁度的电子部件等的洗涤。
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公开(公告)号：CN1642627A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03806191.0
申请日：2003-03-18
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: B01F15/0412 , B01F3/0446 , B01F3/04985 , B01F15/00123 , B01F15/00136 , B01F15/00344 , B01F15/0479 , B01F2201/01 , B01F2215/0036 , B01F2215/0096 , C02F2103/346
Abstract: 一种用于连续溶解的装置包括用于将气体溶解到主液流中的溶解部分，该部分包括：流量计，该流量计测量主液流的流量，并输出通过测量获得的数值的信号；以及用于控制流量的机构，该机构根据从流量计输入的信号来控制气体的供给量。一种用于将气体连续溶解到主液流中的方法，其中，气体量根据主液流流量来进行控制。因为即使在主液流的流量变化时也可以稳定地获得具有恒定浓度的溶液，因此可以无损失地供给用于电子材料的清洗水或表面处理水，该电子材料特别需要精确的清洗表面。
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公开(公告)号：CN1192817C
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN00807704.5
申请日：2000-03-24
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备，包括(A)用于供应超纯水的管道，通过该管道供应超纯水，(B)催化反应部分，该部分与用于供应超纯水的管道相连，并且在该部分中使得超纯水与氧化-还原催化剂接触，(C)过滤装置，通过该装置将在催化反应部分中被处理的超纯水过滤，以及(D)用于溶解臭氧的装置，在该装置中臭氧溶解进入从过滤装置排出的超纯水；以及一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备，包括用于制造超纯水的装置、用于溶解臭氧的装置和催化反应部分，该用于制造超纯水的装置装备有利用紫外光进行辐射的装置，在该用于溶解臭氧的装置中臭氧溶解进入由用于制造超纯水的装置所制造的超纯水中，该催化反应部分装填有氧化-还原催化剂且被设置在利用紫外光辐照的装置和用于溶解臭氧的装置之间。在超纯水中含有的非常少量的会促进臭氧分解的物质被除去，所获得的含有溶解的臭氧的水在长距离运输之后，其臭氧浓度很少降低，并且在水中溶解的臭氧的残余比例高。
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