公开(公告)号：KR100922241B1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：KR1020067006792

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: 본 발명의 성막 장치는, 챔버를 규정하는 처리 용기와, 상기 챔버내에 설치되고 피처리 기판이 탑재될 수 있는 탑재대와, 상기 탑재대에 대향하여 설치되고 다수의 가스 토출 구멍을 갖는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드를 거쳐 상기 챔버내에 처리 가스를 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는 샤워헤드 온도 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

公开(公告)号：KR1020090082520A

公开(公告)日：2009-07-30

申请号：KR1020097014512

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: A film forming device, characterized by comprising a treatment container specifying a chamber, a loading table installed in the chamber and allowing a treated substrate to be loaded thereon, a shower head installed opposite to the loading table and having a large number of gas discharge holes, a gas feeding mechanism for feeding treatment gas into the chamber through the shower head, and a shower head temperature control means for controlling the temperature of the shower head.

公开(公告)号：KR100749377B1

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：KR1020067018174

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: 본 발명의 성막 장치는, 챔버를 규정하는 처리 용기와, 상기 챔버내에 설치되고 피처리 기판이 탑재될 수 있는 탑재대와, 상기 탑재대에 대향하여 설치되고 다수의 가스 토출 구멍을 갖는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드를 거쳐 상기 챔버내에 처리 가스를 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는 샤워헤드 온도 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

Abstract translation: 膜形成本发明的装置包括：限定腔室的处理容器，以及具有一个喷淋头的安装和安装台与安装在要被处理可以安装在腔室中的基板相对设置大量的气体喷出孔 气体供应机构，用于通过喷头将处理气体供应到腔室中;以及喷头温度控制单元，用于控制喷头的温度。

公开(公告)号：KR1020060109294A

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：KR1020060011212

申请日：2006-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45574 ,  H01L21/67017

Abstract: A gas supplying apparatus and a film forming apparatus are provided to prevent contact of first gas and second gas in a gas shower head by accurately sealing a gap between a first gas supplying route and a gas diffusion region where the second gas is diffused. A gas shower head(4) is comprised of a base member(5) that is an upper part thereof and a shower plate(6) that is a lower part. A fringe section of a circular plate(51) is risen from the base member. A flange(52a) is formed on an upper end of a risen fringe unit(52). An insulating member is installed on an inner fringe unit of an opening unit of a processing container to insulate the gas shower head and the processing container. The base member is installed to cover the opening unit. A heat insulation member is installed on an upper portion of the base member.

Abstract translation: 提供一种气体供给装置和成膜装置，以通过精确地密封第一气体供给路径和第二气体扩散的气体扩散区域之间的间隙来防止第一气体和第二气体在气体喷淋头中的接触。 气体喷头（4）由作为其上部的基部构件（5）和作为下部的喷淋板（6）构成。 圆板（51）的边缘部分从基部构件上升。 凸起（52a）形成在上升条纹单元（52）的上端。 绝缘构件安装在处理容器的开口单元的内边缘单元上，以使气体淋浴头和处理容器绝缘。 安装基座部件以覆盖开口单元。 绝热构件安装在基底构件的上部。

公开(公告)号：KR1020060037470A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：KR1020067006790

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: A film forming device, characterized by comprising a treatment container specifying a chamber, a loading table installed in the chamber and allowing a treated substrate to be loaded thereon, a shower head installed opposite to the loading table and having a large number of gas discharge holes, a gas feeding mechanism for feeding treatment gas into the chamber through the shower head, and a shower head temperature control means for controlling the temperature of the shower head.

Abstract translation: 1。一种成膜装置，其特征在于，具有：处理容器，其规定腔室;载置台，其设置于所述腔室内，使被处理基板载置于载置台上;喷头，其与所述载置台相对地设置，并具有多个气体喷出孔 通过喷头向腔室内供给处理气体的供气机构和控制喷头温度的喷头温度控制机构。