기판 재치 장치의 평가 장치 및 그 평가 방법, 그리고 이에 이용되는 평가용 기판
    32.
    发明公开
    기판 재치 장치의 평가 장치 및 그 평가 방법, 그리고 이에 이용되는 평가용 기판 有权
    用于基板安装设备的评估装置和评估方法及其使用的评估基板

    公开(公告)号:KR1020110088409A

    公开(公告)日:2011-08-03

    申请号:KR1020110007187

    申请日:2011-01-25

    Abstract: PURPOSE: An evaluation equipment of a substrate mounting apparatus, an evaluation method, and a substrate for evaluation are provided to conveniently evaluate a temperature control function etc according to condition or situation. CONSTITUTION: A processed substrate putting on a mounting side(3) is fixed and is temperature-controlled. A gas-tight chamber in which decompression is possible installs a substrate mounting apparatus in inside. A substrate for evaluation(4) is mounted on the mounting side instead of the processed substrate and comprises a resistive heating body. A temperature measurement means measures the temperature of the substrate for evaluation.

    Abstract translation: 目的:提供基板安装装置,评价方法和评价用基板的评价装置,以便根据情况或情况方便地评价温度控制功能等。 构成:将安装在安装侧(3)上的加工基板固定并进行温度控制。 可以进行减压的气密室将基板安装装置安装在内部。 用于评估的基板(4)安装在安装侧而不是处理的基板上,并且包括电阻加热体。 温度测量装置测量用于评估的基板的温度。

    정전척의 진단 방법, 진공 처리 장치 및 기억 매체
    33.
    发明授权
    정전척의 진단 방법, 진공 처리 장치 및 기억 매체 有权
    诊断静电卡盘的方法,加工装置和储存介质

    公开(公告)号:KR100924849B1

    公开(公告)日:2009-11-02

    申请号:KR1020070108371

    申请日:2007-10-26

    Abstract: 본 발명은 정전척의 수명을 간편히 예측 할 수 있는 방법을 제공한다. 탑재대의 상부에 마련된 정전척에 의해서 기판을 정전 흡착함과 동시에, 이 기판에 대하여 플라즈마 처리를 실행하는데 있어서, 정기적으로 동일한 플라즈마 처리인 진단용 레시피를 기판에 대하여 실행한다. 이 때의 각 기판의 온도가 규정 온도가 되도록, 정전척의 표면과 기판의 이면의 간격에 공급하고 있는 백사이드 가스의 압력을 조정하여, 이 조정후의 백사이드 가스의 압력을 기록하고, 이 백사이드 가스의 압력의 경시 변화를 모니터함으로써, 정전척의 수명을 간편히 예측할 수 있다.

    정전척의 진단 방법, 진공 처리 장치 및 기억 매체
    34.
    发明公开
    정전척의 진단 방법, 진공 처리 장치 및 기억 매체 有权
    诊断静电卡盘的方法,加工装置和储存介质

    公开(公告)号:KR1020080038059A

    公开(公告)日:2008-05-02

    申请号:KR1020070108371

    申请日:2007-10-26

    Abstract: A method for diagnosing an electrostatic chuck, a vacuum processing apparatus, and a storage medium are provided to predict the durability of the electrostatic chuck by monitoring a pressure value of a temperature control gas. A temperature detection unit(53) detects temperature of a substrate. A pressure detection unit(56) detects pressure of a temperature control gas. A pressure control unit(50) controls the pressure of the temperature control gas. A storage unit stores a pressure detection value of the pressure detection unit. An execution unit exposes a substrate suck-maintained to an electrostatic chuck to atmosphere generated by using a process recipe. The execution unit controls pressure of the temperature control gas through the pressure control unit to make the temperature detection value of the temperature detection unit become a pre-set temperature. A diagnosing unit diagnoses the degradation of a temperature control performance based on the pressure detection value of the temperature control gas stored in the storage unit.

    Abstract translation: 提供一种用于诊断静电卡盘的方法,真空处理装置和存储介质,以通过监视温度控制气体的压力值来预测静电卡盘的耐久性。 温度检测单元(53)检测基板的温度。 压力检测单元(56)检测温度控制气体的压力。 压力控制单元(50)控制温度控制气体的压力。 存储单元存储压力检测单元的压力检测值。 执行单元将通过使用处理配方生成的大气吸附到静电吸盘的大气中露出。 执行单元通过压力控制单元控制温度控制气体的压力,使温度检测单元的温度检测值成为预设温度。 诊断单元基于存储在存储单元中的温度控制气体的压力检测值来诊断温度控制性能的劣化。

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