公开(公告)号：KR1020040074352A

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：KR1020030009921

申请日：2003-02-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박경신 ,  정광채 ,  박용진

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An exposure method that process defect is improved as the stray light is provided to manage a contamination level of a projection lens by checking the stray light during or after an exposure process. CONSTITUTION: A wafer loading process is performed to load a wafer on which a photoresist is coated(S10). A wafer alignment process is performed to align the loaded wafer(S20). A wafer exposure process is performed to irradiate the light of the predetermined wavelength to the wafer after a reticle is located on the wafer(S30). A wafer unloading process is performed to unload the exposed wafer(S40). A stray light checking process is performed to check a stray light of an exposure system after the wafer unloading process(S50). A lens cleaning process is performed to clean a projection lens of the exposure system after the stray light checking process(S60).

Abstract translation: 目的：通过在曝光过程中或之后通过检查杂散光来提供杂散光来控制投影透镜的污染水平，从而改善了处理缺陷的曝光方法。 构成：执行晶片加载过程以加载其上涂覆有光致抗蚀剂的晶片（S10）。 执行晶片对准处理以对准加载的晶片（S20）。 在掩模版位于晶片上之后，执行晶片曝光处理以将预定波长的光照射到晶片（S30）。 执行晶片卸载处理以卸载暴露的晶片（S40）。 执行杂散光检查处理以在晶片卸载处理之后检查曝光系统的杂散光（S50）。 在杂散光检查处理之后，执行透镜清洁处理以清洁曝光系统的投影透镜（S60）。

公开(公告)号：KR1020020019649A

公开(公告)日：2002-03-13

申请号：KR1020000052609

申请日：2000-09-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근 ,  박경신 ,  조희윤 ,  박병철

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67282 ,  B23K26/1435 ,  B23K26/1438 ,  B23K26/147 ,  H01L2223/54493

Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for marking an identification mark on a wafer are provided to remove easily particles generated from a marking process of an identification mark by using an injection device. CONSTITUTION: A support portion(12) is used for loading a wafer(10). The support portion(12) is formed with a spin chuck for receiving the wafer(10) and defining a marking region of an identification mark. A laser beam irradiation portion(14) is used for irradiating a laser beam on a predetermined portion of the wafer(10) and marking the identification mark. An Nd/YAG laser of a dot matrix mode is used in the laser beam irradiation portion(14). The identification mark of the dot type is formed on the wafer(10). An injection portion(20) is used for injecting a gas to the marking region of the identification mark. The injection portion(20) is formed with a nozzle(201), valves(207,209), a pipe(203), and an injection motor(205).

Abstract translation: 目的：提供一种用于在晶片上标记识别标记的方法和装置，以通过使用注射装置容易地除去由识别标记的标记过程产生的颗粒。 构成：支撑部分（12）用于装载晶片（10）。 支撑部分（12）形成有用于接收晶片（10）并限定识别标记的标记区域的旋转卡盘。 激光束照射部分（14）用于将激光束照射在晶片（10）的预定部分上并标记识别标记。 在激光束照射部分（14）中使用点阵模式的Nd / YAG激光器。 点状的识别标记形成在晶片（10）上。 注射部分（20）用于将气体注入识别标记的标记区域。 注射部分（20）形成有喷嘴（201），阀（207,209），管（203）和注射马达（205）。

公开(公告)号：KR1020010094695A

公开(公告)日：2001-11-01

申请号：KR1020000017964

申请日：2000-04-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박경신

IPC: H03K7/06

CPC classification number: H04L27/2017 ,  H04L27/12

Abstract: PURPOSE: A digital frequency modulator with a feedback structure of a communication system is provided to realize CPFSK(Continuous Phase Frequency Shift Keying) by using Gaussian filtering and reduce the complexity by using a feedback structure. CONSTITUTION: The first register(103) is one-bit register and the second register(102) is two-bits register. Initial values of the first and the second registers(103,102) are 0, respectively. The second register(102) receives symbol data and buffers the received symbol data. The first register(103) and the second register(102) output buffered bits whenever the first symbol data are inputted into the second register(102). The bits are inputted into a logic portion(104) and the second logic portion. The logic portion(104) stores an output data lookup table for register output data and searches the output bits for the input bits from the output lookup table when three-bits data are received from the first and the second registers(103,102). The searched output bits for the input bits are outputted to the first register(103).

Abstract translation: 目的：提供具有通信系统反馈结构的数字调频器，通过使用高斯滤波实现CPFSK（连续相位移频键控），并通过使用反馈结构降低复杂度。 构成：第一个寄存器（103）是一位寄存器，第二个寄存器（102）是两位寄存器。 第一和第二寄存器（103,102）的初始值分别为0。 第二寄存器（102）接收符号数据并缓冲接收的符号数据。 每当第一符号数据被输入到第二寄存器（102）中时，第一寄存器（103）和第二寄存器（102）输出缓冲比特。 这些位被输入到逻辑部分（104）和第二逻辑部分。 逻辑部分（104）存储用于寄存器输出数据的输出数据查找表，并且当从第一和第二寄存器（103,102）接收到三位数据时，从输出查找表中搜索输出位的输出位。 搜索到的输入比特的输出比特被输出到第一寄存器（103）。

公开(公告)号：KR1020000043086A

公开(公告)日：2000-07-15

申请号：KR1019980059396

申请日：1998-12-28

Applicant: 학교법인연세대학교 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 홍대식 ,  방극준 ,  박경신 ,  박현철

IPC: H04J11/00 ,  H04W56/00

CPC classification number: H04L27/2675 ,  H04L27/2659 ,  H04L2027/0028

Abstract: PURPOSE: An initial frequency clocking apparatus of an orthogonal frequency division multiplexing(OFDM) receiver is provided to perform a stable frequency synchronization by less calculation. CONSTITUTION: An initial frequency synchronous apparatus of an OFDM receiver comprises a buffer(321), a partial correlator(322), a maximum value detector(324), a counter(325) and a reference symbol generating part(326). The buffer(321) receives demodulated symbol data, and cyclically rotates the data by a predetermined rotation amount to store and output the rotated symbol data. The reference symbol generating part(326) generates a phase reference symbol, and the counter(325) counts the rotation amount. The partial correlator(322) receives a received signal and the reference symbol to calculate a partial coherence value to K division bands. The maximum value detecting part(324) obtains the rotation amount in which the partial coherence value is maximized.

Abstract translation: 目的：提供正交频分复用（OFDM）接收机的初始频率计时装置，通过较少的计算来执行稳定的频率同步。 构成：OFDM接收机的初始频率同步装置包括缓冲器（321），部分相关器（322），最大值检测器（324），计数器（325）和参考符号生成部件（326）。 缓冲器（321）接收解调的符号数据，并且循环地旋转数据预定的旋转量以存储和输出旋转的符号数据。 参考符号生成部（326）生成相位基准符号，计数器（325）对旋转量进行计数。 部分相关器（322）接收接收信号和参考符号以计算与K个分频带的部分相干值。 最大值检测部（324）获得部分相干值最大化的旋转量。

公开(公告)号：KR100168522B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950067566

申请日：1995-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김문우 ,  문상영 ,  박경신 ,  최선호

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제조공정중 사진공정장비에 사용되는 스피너 장비에 관한 것으로 특히 설비의 구조를 개선하여 공정시간을 단축시킬 수 있도록한 사진공정정용 스피너 장비에 대한 것이다.
종래의 스피너 설비는 공정의 처리속도가 늦어 상대적으로 후속공정인 스텝퍼의 공정진행 속도를 따라가지 못하여 수율이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 코터부와 현상부를 구비한 스피너설비에 아암과 코터 및 현상기를 추가로 형성하여 공정의 진행속도를 높여주도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR100155830B1

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019950016257

申请日：1995-06-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  김정곤 ,  박경신 ,  배경성

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70108

Abstract: 본 발명은 변형노광장치 및 노광방법에 관한 것으로서, 사점조명계와 고리 조명계를 결합한 형태의 조명계에 관한 것이다. 본 발명의 변형노광장치의 광원부, 상기 광원부에서 발산하는 빛을 제한하는 조절 부, 상기 조절 부에서 나온 빛을 굴절 및 회절시키는 굴절 및 회절부, 상기 굴절 및 회절부에서 나오는 빛을 웨이퍼 상에 집광시키는 집광부로 구비되는 변형노광장치에 있어서, 상기 조절부는 서로 분리되어 있고 회전 대칭성을 갖는 8개의 노광구를 갖는 필터를 포함한다.
본 발명에 의하면, 해상도를 종래의 변형노광 이상으로 유지하면서 상 형성면(또는 웨이퍼) 상에 광에너지의 세기분포를 균일하게 형성된다. 또한 마스크패턴을 통과하는 빛의 이미지 형성정보를 균일하게 하므로서, 양호한 콘택패턴을 얻을 수 있고 프락시머티 효과(proximity effect)도 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980027351A

公开(公告)日：1998-07-15

申请号：KR1019960046075

申请日：1996-10-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김청협 ,  김정곤 ,  박경신 ,  송재관

IPC: H01L21/027

Abstract: 스테퍼설비 내부에 설치된 렌즈, 반사거울, 광필터 등의 광학부재 표면에 각종 유기가스와 이온들의 근접을 방지하여 광학부재의 손상 및 오염을 방지하도록 하는 반도체 스테퍼설비의 오염방지장치 및 그 방법에 관한 것이다.
본 발명은 다수개의 챔버로 구성되어 내부에 노광공정에 필요한 광을 형성 유도하는 여러 종류의 광학부재가 설치된 조명계장치와, 상기 조명계장치로부터 유입된 광을 여러 종류의 광학부재를 통해 유도하여 웨이퍼의 스테이지에 조사시키는 본체부로 구성된 스테퍼설비에 있어서, 상기 광학부재 표면에 세정가스를 공급하도록 하는 가스 공급노즐이 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 설치된 가스 공급노즐을 통해 분사 공급되는 세정가스에 의해 각종 유기가스와 이온들을 광학부재의 표면으로부터 제거함에 따라 광학부재의 손상과 오염이 방지되고, 광의 반사율과 굴절율이 유지되어 조사 시간이 유지되고, 광학부재의 교체 주기가 연장될 뿐 아니라 광학부재의 설치 비용이 절감되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970030563A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950042511

申请日：1995-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김문우 ,  문상영 ,  박경신 ,  최선호

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 반도체장치를 제작하는 공정에 이용될 가스 또는 화학물이 수용된 용기가 정확히 장착되었는지 자동으로 확인할 수 있는 수용물 인식용 표식이 부착된 용기와 그를 이용한 반도체장치 제조용 공급물질 공급 시스템 및 장착용기 확인 방법에 관한 것이다.
본 발명은, 용기에 인식용 표식이 라벨로 부착된 용기를 이용하여, 상기 인식용 표식을 읽어들이는 리딩 수단, 상기 리딩수단으로부터 입력된 인식용 표식에 해당하는 신호가 공정 수행에 적합한 용기인가 판단하여 오류라 판단되면 상기 챔버의 공정진행을 중지시키기 위한 제어신호를 출력하는 제어수단, 경보동작을 하는 경보수단이 포함되어 구성됨으로써 자동으로 공급라인의 각 터미널에 용기가 잘못 장착된 경우 경보동작을 하고 챔버의 공정 수행을 중지시킴을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 해당 공정에 필요한 공급물질이 수용된 용기가 정확하게 공정상 오류 및 이로 인한 불량이 발생되지 않고, 공정수행에 있어서 효율성을 갖게되며, 제작경비가 절감되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970028856A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：KR1019950041255

申请日：1995-11-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  문상영 ,  박경신 ,  송호종

IPC: G03F7/20

Abstract: 포토마스크의 패턴을 웨이퍼상에 충실히 구현할 수 있는 투영노광장치 및 노광방법에 대해 기재되어 있다.
이는, 어퍼쳐를 사용하여 포토마스크의 패턴을 웨이퍼에 전사하는 투영노광 장치에 있어서, 상기 어퍼쳐가 2개 이상 배열된 것을 특징으로 한다.
따라서, 종래에 비해 어퍼쳐와 각 어퍼쳐의 슬릿 수를 증가시킴으로써, 광 강도를 균일하게 할 수 있고, 마스크패턴을 웨이퍼상에 충실히 구현할 수 있으며, 포커스변화에 따른 패턴크기와 프로파일의 변화를 줄여 공정 마아진을 넓힐 수 있다.

公开(公告)号：KR100574995B1

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：KR1020040095890

申请日：2004-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박경신 ,  홍종화

IPC: H01L21/027