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公开(公告)号：KR1020170050059A
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020150151103
申请日：2015-10-29
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01C3/08 , G01S7/4815 , G01S17/36 , G01S17/89
Abstract: 깊이영상을획득하는영상획득장치및 그방법을제공한다. 본영상획득장치는대상체를복수개의영역으로구분하여각 영역별부분깊이영상을획득하며, 각영역별부분깊이영상을이용하여깊이영상을획득할수 있다.
Abstract translation: 提供了一种用于获取深度图像的设备和方法。 图像获取装置将对象划分为多个区域，获取每个区域的局部深度图像，并且使用局部深度图像获取每个区域的深度图像。
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公开(公告)号：KR1020160024307A
公开(公告)日：2016-03-04
申请号：KR1020140110958
申请日：2014-08-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01S17/00
CPC classification number: G06F3/017 , G06F1/163 , G06F3/0304 , G06F3/0425 , G06F3/04883
Abstract: 피사체를향해광을조사하는광원; 피사체로부터반사된광을수광하는이미지센서; 및이미지센서에포함된픽셀어레이중에상기반사된광을수광하는픽셀을검출하는처리부;를포함하며, 검출된픽셀의위치이동에기초하여상기피사체의움직임을추적하는, 피사체의움직임을인식하는장치및 방법이제공된다.
Abstract translation: 本发明涉及用于识别被摄体的运动的装置及其操作方法，更具体地，涉及一种通过使用光源和图像传感器来识别被摄体的三维运动的装置和方法。 用于识别对象的移动的装置包括：朝向被摄体发光的光源; 所述图像传感器接收从所述被摄体反射的光; 以及处理单元，其检测在图像传感器中包括的像素阵列中接收到反射光的像素。 基于检测到的像素的位置移动跟踪被摄体的移动。
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公开(公告)号：KR1020150065473A
公开(公告)日：2015-06-15
申请号：KR1020130150839
申请日：2013-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N5/2254 , G01B11/2513 , G01S7/4811 , G01S17/08 , G01S17/89 , H04N5/2256 , H04N13/254 , H04N13/271
Abstract: 거리영상측정용카메라및 이를이용한거리영상측정방법에관해개시되어있다. 본개시의일 실시예에의한거리영상측정용카메라는 TOF(Time Of Flight) 방식으로써, 피사체에패턴조명을비추는조명장치와, 상기피사체로부터반사되는광에포함된잡음광을줄이는필터기와, 상기필터기를통해입사되는광을수광하여상기피사체에대한거리영상을제공하는이미지센서를포함한다. 상기조명장치는광원과, 상기광원에서방출되는광을상기패턴조명으로변화시키는패턴조명생성기를포함할수 있다. 상기필터기는대역투과필터(band pass filter)와광 변조기를포함할수 있다. 상기패턴조명생성기는회절광학소자또는굴절광학소자일수 있다.
Abstract translation: 公开了一种用于测量深度图像的相机以及使用该深度图像测量深度图像的方法。 根据本发明的实施例的用于测量深度图像的相机使用飞行时间（TOF），包括：照明设备向被摄体发射图案光; 减少包含在从被摄体反射的光中的光学噪声的滤光器; 以及通过收集通过滤光器引入的光来提供被摄体的深度图像的图像传感器。 照明装置可以包括光源和将从光源发射的光改变为图案光的图案光发生器。 滤波器可以包括带通滤波器和光调制器。 图案光发生器可以是衍射光学元件或折射光学元件。
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公开(公告)号：KR1020140121710A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：KR1020130038287
申请日：2013-04-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N13/02
CPC classification number: H04N13/271 , G01S7/4914 , G01S17/36 , G01S17/89 , G06T5/003 , G06T5/50 , G06T2207/10016 , G06T2207/10028 , G06T2207/20201 , H04N5/23264
Abstract: 본 발명은 3D 영상 획득 장치 및 3D 영상 획득 장치에서 깊이 영상 생성 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 깊이 영상 생성 방법은 움직이는 물체를 촬영하는 경우, 필연적으로 발생하는 에지 등의 모션 블러를 검출 및 복원하여 깊이 영상을 생성함으로써, 모션 블러로 인한 깊이 영상의 발산 문제를 해결할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及3D图像获取装置和用于在3d图像获取装置中产生深度图像的方法。 根据本发明的一个实施例的用于生成深度图像的方法通过如运动对象是不可避免地产生的边缘检测和恢复运动模糊而生成深度图像来防止由于运动模糊引起的深度图像的发散 拍照。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100594221B1
公开(公告)日：2006-07-03
申请号：KR1020000047148
申请日：2000-08-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 측벽산란에 의한 강도감소로 인해 패턴전사시 원하지 않는 부위가 노광되어 패턴이 형성되는 현상을 억제할 수 있는 교호위상전이 마스크 제작을 위한 블랭크마스크에 관한 것이다. 본 발명은, 석영기판, 차광막 및 레지스트막을 포함하고, 패턴전사시 투과광의 위상반전을 위해 상기 석영기판에 트렌치를 형성하여 사용되는 위상전이마스크용 블랭크마스크에 있어서, 상기 석영기판에 형성될 상기 트렌치의 측벽에서의 산란에 의한 상기 투과광의 강도 감소로 인해 전사되는 패턴의 임계치수의 차를 줄이기 위해, 상기 석영기판과 상기 차광막 사이에 게재된 버퍼층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 교호위상전이 마스크용 블랭크마스크를 제공한다. 본 발명의 블랭크마스크를 사용하여 기판식각형 교호위상전이 마스크를 제작할 경우 트렌치측벽에서의 입사광의 산란에 의한 강도감소로 인하여 패턴의 임계치수 차이를 줄일 수 있다.
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公开(公告)号：KR100546269B1
公开(公告)日：2006-04-21
申请号：KR1019980006952
申请日：1998-03-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 하프톤 위상 반전 마스크를 제공한다. 본 발명은 마스크 기판과, 상기 마스크 기판 상에 형성된 투광영역과, 상기 투광영역의 외측에 상기 투광영역을 노출시키도록 형성되고, 위상 시프터로서 투과율이 4∼30%이고, 위상을 180±10도로 조절할 수 있는 고투과율의 시프터막 패턴과, 상기 투광영역의 외측에 형성된 고투과율의 시프터막 패턴의 외측으로 접하여 형성되고, 차광영역으로서 투과율이 1∼2%이면서 상기 고투과율의 시프터막 패턴보다는 투과율이 낮은 저투과율의 시프터막 패턴으로 구성된다. 이에 따라, 본 발명은 마스크 기판 상에 고투과율의 시프터막 패턴과 이에 인접한 저투과율의 시프터막 패턴(차광영역)이 형성되어 있어 레지스트 패턴 형성시 초점심도 및 분해능을 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020010019936A
公开(公告)日：2001-03-15
申请号：KR1019990036614
申请日：1999-08-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 윤희선
IPC: H04L12/24
CPC classification number: H04L45/24
Abstract: PURPOSE: A method for duplexing a communication path between MIPs(Managed Intelligence Platforms) and a TP(Transport Platform) is provided to make the single communication path between the MIPs and the TP a duplexing path or a dual communication path by a hardware of a software, so as to prevent an interruption of the communication path between the MIPs and the TP. CONSTITUTION: A TP(201) supplies hardware operating capacities of MIPs(206,210) and communication capacities with the MIPs(206,210). An HMS(High-Speed Message Switch)(202) performs high speed communication between the MIPs(206,210) or main processors of the TP(201), and supplies a hardware communication path with the MIPs(206,210). A primary communication link(203) is for an MIN(Managed Intelligence Node) '0'(205) between the TP(201) and the MIPs(206,210). A duplication communication path(204) is for an MIN1(210). A PT-SBS334(Physical Communication Support Card-334)(205) physically connects the TP(201) and the MIPs(206,210). An MIN0 of the MIP(206) mounts a software for performing an OAMP(Operating Administration Maintenance and Provisioning) function. A LAN(207) connects the MIPs(206,210). A dual communication link(208) is for the MIN '0' of the MIP(206) between the MIPs(206,210) and the TP(201). A primary communication link(209) is for an MIN1 of the MIP(210). The MIN1 of the MIP(210) mounts a software for performing a CP(Call Processing) function.
Abstract translation: 目的：提供用于双工MIP（管理智能平台）和TP（传输平台）之间的通信路径的方法，以使MIP和TP之间的单个通信路径成为双工通路或双通道路由 软件，以防止MIP和TP之间的通信路径中断。 规定：TP（201）提供MIP（206,210）的硬件操作能力和通信能力与MIP（206,210）。 HMS（高速消息交换机）（202）在TP（201）的MIP（206,210）或主处理器之间执行高速通信，并提供与MIP（206,210）的硬件通信路径。 主通信链路（203）用于TP（201）和MIP（206,210）之间的MIN（管理智能节点）'0'（205）。 复制通信路径（204）用于MIN1（210）。 PT-SBS334（物理通信支持卡334）（205）物理地连接TP（201）和MIP（206,210）。 MIP（206）的MIN0安装一个用于执行OAMP（操作管理维护和配置）功能的软件。 LAN（207）连接MIP（206,210）。 双通信链路（208）用于MIP（206,210）和TP（201）之间的MIP（206）的MIN'0'。 主通信链路（209）用于MIP（210）的MIN1。 MIP（210）的MIN1安装用于执行CP（呼叫处理）功能的软件。
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公开(公告)号：KR100230389B1
公开(公告)日：1999-11-15
申请号：KR1019960058497
申请日：1996-11-27
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 윤희선
IPC: H01L21/027
Abstract: 포토마스크의 결함 수정 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따르면, 크롬 패턴이 형성된 포토마스크 기판상에서 투광 영역의 일부를 가리는 결함 부분을 제거하기 위한 포토마스크의 결함 수정 방법에 있어서, 상기 결함 부분중에서 상기 결함 부분의 가장자리 부분을 포함하지 않는 제1 영역을 한정하여 1차 에칭함으로써 상기 제1 영역 내의 결함 부분을 소정의 두께 만큼 제거하여 상기 제1 영역의 표면에 결함 잔류층을 형성하는 단계와, 상기 결함 부분을 포함하도록 상기 결함 부분의 영역보다 더 큰 제2 영역을 한정하여 2차 에칭함으로써 상기 결함 잔류층, 상기 결함 잔류층 주위에 남아 있는 나머지 결함 부분 및 상기 기판의 일부를 제거하여 상기 기판중 제2 영역에 작은 단차 부분을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 포토마스크상의 오페이크형 결함의 수정 후에 포토마스크 기판상에 리버베드 현상과 같은 손상된 부분이 형성되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019990073812A
公开(公告)日：1999-10-05
申请号：KR1019980006952
申请日：1998-03-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명의 하프톤 위상 반전 마스크는 마스크 기판과, 상기 마스크 기판 상에 투광영역을 노출시키도록 형성된 고투과율의 시프터막 패턴과, 상기 고투과율의 시프터막 패턴에 접하고 상기 마스크 기판 상의 투광영역을 노출시키도록 형성되고 상기 고투과율의 시프터막 패턴보다 투과율이 낮은 저투과율의 시프터막 패턴으로 이루어진다. 상기 고투과율의 시프터막 패턴은 위상 시프터이며, 상기 저투과율의 시프터막 패턴은 차광 영역이다. 본 발명의 하프톤 위상 반전 마스크는 마스크 기판 상에 고투과율의 시프터막 패턴과 이에 인접한 저투과율의 시프터막 패턴(차광영역)이 형성되어 있어 레지스트 패턴 형성시 초점심도 및 분해능을 향상시킬 수 있다.
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