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公开(公告)号：KR102237828B1
公开(公告)日：2021-04-08
申请号：KR1020140109967A
申请日：2014-08-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01S17/00
Abstract: 동작 인식 장치 및 이를 이용한 동작 인식 방법이 개시된다. 개시된 동작 인식 장치는, 피사체에 광을 조사하는 조명부와 상기 조명부로부터 조사된 광이 피사체에 의해 반사된 반사광을 촬영할 수 있는 카메라부 및 상기 조명부 및 상기 카메라부를 제어하는 신호 제어부를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 조명부는 제 1조명 및 제 2조명을 포함할 수 있으며, 상기 제 1조명 및 제 2조명 중 적어도 하나는 비단조적(non-monotonic) 광량 특성을 지닌 광을 조사하여 피검체와의 거리 및 피검체의 공간상의 위치를 얻을 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170050058A
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020150151102
申请日：2015-10-29
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N13/106 , G01S7/4816 , G01S7/4914 , G01S7/4915 , G01S17/36 , G01S17/89 , H04N5/2256 , H04N5/33 , H04N5/353 , H04N5/3532 , H04N13/254 , H04N13/296
Abstract: 깊이정보획득장치및 방법이개시된다. 깊이정보를획득하기위해, 변조신호에의해광량이변조된조명광을피사체를향해조사하여이미지센서로영상을촬영한다. 조명광의위상을이미지센서의픽셀어레이영역의중간영역에속하는소정로우의노출이시작되는시점에서이동시키면서, N개의로우에서순차적으로영상신호를획득한다. 변조신호의위상을이동시키면서복수프레임동안획득된영상신호로부터깊이정보를계산한다.
Abstract translation: 公开了一种用于获取深度信息的装置和方法。 为了获取深度信息，将由调制信号调制的照明光照射到对象，并且图像由图像传感器捕获。 在属于图像传感器的像素阵列区域的中间区域的预定行开始曝光的时间点移动照明光的相位的同时，从N行顺序地获取图像信号。 在移动调制信号的相位的同时，根据针对多个帧获得的图像信号计算深度信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160023489A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020140109967
申请日：2014-08-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01S17/00
CPC classification number: H04N5/23229 , G06K9/00355 , G06K9/2036 , G06T7/521 , G06T2207/10016 , G06T2207/10152 , G06T2207/30196 , H04N5/2226 , H04N5/2256
Abstract: 동작인식장치및 이를이용한동작인식방법이개시된다. 개시된동작인식장치는, 피사체에광을조사하는조명부와상기조명부로부터조사된광이피사체에의해반사된반사광을촬영할수 있는카메라부및 상기조명부및 상기카메라부를제어하는신호제어부를포함할수 있다. 여기서, 상기조명부는제 1조명및 제 2조명을포함할수 있으며, 상기제 1조명및 제 2조명중 적어도하나는비단조적(non-monotonic) 광량특성을지닌광을조사하여피검체와의거리및 피검체의공간상의위치를얻을수 있다.
Abstract translation: 公开了一种使用其的手势识别装置和手势识别方法。 所公开的手势识别装置包括：照明单元，其向被摄体照射光; 照相机单元，其能够拍摄从被照射的对象的物体反射的光; 以及控制照明单元和照相机单元的信号控制单元。 这里，照明单元可以包括第一照明装置和第二照明装置。 第一照明装置和第二照明装置中的至少一个可以通过照射具有非单调光强度特性的光来获得与被摄体的距离和对象的空间位置。
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公开(公告)号：KR1020150064992A
公开(公告)日：2015-06-12
申请号：KR1020130149996
申请日：2013-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03B35/26
CPC classification number: H04N5/2254 , G01S7/481 , G01S17/89 , G02B5/04 , G02B27/1006 , G03B35/00 , G03B35/08 , H04N5/2256 , H04N13/25 , H04N13/254 , H04N13/271
Abstract: 분리된반사광의광량분포를균일하게할 수있는파장분리소자및 이를포함하는 3차원영상획득장치가개시된다. 개시된실시예에따른파장분리소자는파장분리코팅으로는반사시키기어려운영역으로입사하는입사광에대해서는전반사방식으로반사함으로써, 분리된반사광의광량분포를균일하게할 수있다. 예를들어, 파장분리소자는서로접합되어있는제 1 프리즘과제 2 프리즘을포함하며, 제 1 프리즘과제 2 프리즘의접합면에는파장분리코팅이배치되어있고, 제 1 프리즘의파장분리면의일부는제 2 프리즘과접합되어있지않은전반사면을포함할수 있다.
Abstract translation: 公开了能够使反射光的光量分布均匀的波长分离装置，以及包括该波长分离装置的三维图像采集装置。 根据所公开的实施例的波长分离装置使用全反射法反射进入难以用波长分离涂层反射的区域的入射光。 因此，波长分离装置使分离的反射光的光量分布均匀。 例如，波长分离装置包括彼此结合的第一和第二棱镜。 波长分离涂层布置在第一和第二棱镜的接合侧上。 第一棱镜的波长分离区域的一部分包括不与第二棱镜结合的全反射区域。
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公开(公告)号：KR1020150037628A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020140130189
申请日：2014-09-29
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06K9/00604 , G06F21/32 , G06K9/00033 , G06K9/00617 , G06K9/4609 , G06T7/586 , G06T2207/20201 , G07C9/00158
Abstract: 본발명의실시예에따른모바일장치를위한생체인식카메라시스템은: 이미지캡쳐동안상기모바일장치의사용자에게근적외선광과함께플래시를터뜨리는근적외선광원; 상기근적외선광원으로부터오프셋된 상기모바일장치에배치되는생체인식카메라; 그리고이미지센서로부터사용자의홍채의비디오이미지들을수신하고, 상기비디오이미지들을홍채데이터베이스에저장된앞서등록된이미지들과매칭시키는프로세서를포함하되, 매칭결과일치하는것이발견되면사용자가인증된다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例的用于移动设备的生物测定相机系统包括在图像捕获期间用近红外光闪烁移动设备的用户的近红外光源; 布置在移动设备上偏离近红外光源的生物测定照相机; 以及接收用户的虹膜的视频图像的处理器，并且将视频图像与预先登记的图像进行匹配并存储在虹膜数据库中，使得如果匹配结果匹配，则认证用户。
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公开(公告)号：KR100532397B1
公开(公告)日：2006-01-27
申请号：KR1019980049766
申请日：1998-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 기판 온도 조절용 플레이트 및 그 제조방법에 관해 개시되어 있다. 여기서 본 발명은 기판의 온도 분포도를 바탕으로 하여 상기 기판이 놓이는 면에 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 온도 조절용 플레이트를 제공한다. 상기 홈은 상기 플레이트 표면의 영역에 따라 깊이와 폭이 다르고, 상기 홈간의 간격도 다르게 형성되어 있다. 상기 홈들은 상기 기판의 온도 분포를 바탕으로 형성된 것으로, 기판의 영역별 온도차를 최소화 하도록 배치되어 있으며, 서로 다른 제원을 갖는다. 고유의 온도 보상 패턴을 갖는 플레이트 제조가 가능하다. 특히, 블랭크 마스크 제조시 포토레지스트막을 코팅한 후, 소프트 베이크에서 상기 포토레지스트를 균일하게 가열 냉각시킬 수 있는 핫 플레이트 및 쿨 플레이트의 제조가 가능하다. 따라서 사진 및 식각공정에서 패턴의 선폭 균일도가 개선될 수 있다. 또한, 플레이트와 기판 상호간에 열전달 속도가 균일하게 되므로 기판 상에서 감광막의 플로우 특성이 개선된다. 따라서 감광막을 플로우시켜 미세 콘택홀을 형성할 수 있다. 또한, 그 재현성을 높일 수 있다.
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公开(公告)号：KR100275302B1
公开(公告)日：2000-12-15
申请号：KR1019970060275
申请日：1997-11-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A method for correcting a proximity effect in an exposure system is provided to correct a proximity effect generated when a pattern is formed on a wafer. CONSTITUTION: A beam source portion(10) generates a controlled electron beam in order to form an IC(Integrated Circuit) pattern on a target(20) located on a target area. The first modification portion(12) has the first aperture(14) for modifying a sectional shape of the electron beam transmitted from the beam source portion(10). The second modification portion(16) has the second aperture(18) for modifying the electron beam modified from the first modification portion(12). The second aperture(18) is formed to embody a shape of a corrected pattern. The corrected pattern that added to an existing pattern is exposed.
Abstract translation: 目的：提供一种用于校正曝光系统中的接近效应的方法，以校正在晶片上形成图案时产生的接近效应。 构成：光束源部分（10）产生受控电子束，以便在位于目标区域上的目标（20）上形成IC（集成电路）模式。 第一修改部分（12）具有用于修改从光束源部分（10）传输的电子束的截面形状的第一孔（14）。 第二修改部分（16）具有用于修改从第一修改部分（12）修改的电子束的第二孔（18）。 第二孔（18）形成为体现校正图案的形状。 添加到现有模式的校正模式将被暴露。
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