公开(公告)号：KR100532915B1

公开(公告)日：2005-12-02

申请号：KR1020020066184

申请日：2002-10-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임진형 ,  류이열 ,  김정배 ,  이광희

IPC: H01B3/18

CPC classification number: H01B3/185 ,  H01B3/18 ,  Y10T428/249953

Abstract: 본 발명은 단당류계 또는 올리고당류계 포로젠을 포함하는 다공성 층간 절연막을 형성하기 위한 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 단당류 또는 올리고당류 유도체(monomeric or oligomeric saccharide derivative); 열적으로 안정한 유기 또는 무기 매트릭스 전구체; 및 상기 물질을 녹이는 용매를 포함하는 다공성 층간 연막을 형성하기 위한 조성물 및 이를 이용하여 50Å 이하 수준으로 기공의 크기가 매우 작은 다공성 반도체 층간 절연막을 제조하는 방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020050058894A

公开(公告)日：2005-06-17

申请号：KR1020030090909

申请日：2003-12-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재준 ,  선종백 ,  정현담 ,  임진형 ,  신현진

IPC: G03F7/075

CPC classification number: C07F7/0859 ,  C07F7/1836 ,  C08G77/50

Abstract: 본 발명은 신규한 다반응성 선형 실록산계 화합물, 상기 화합물로부터 제조된 실록산계 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 모듈러스 등 기계적 물성과 열적 안정성이 뛰어나고 탄소함량 및 흡습률이 낮은 중합체를 제공할 수 있는 신규한 다반응성 선형 실록산 화합물, 상기 선형 실록산 화합물 또는 상기 화합물과 다른 단량체부터 제조된 실록산 중합체에 관한 것이고, 아울러 상기 중합체를 포함한 코팅액을 열경화하는 단계를 포함한 절연막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실록산 화합물은 높은 반응성을 가지며, 그로부터 제조된 중합체는 우수한 기계적 물성, 열안정성 및 균열 저항성을 가질 뿐만 아니라, 낮은 흡습률을 나타내며 기공형성물질과의 상용성도 우수하여 낮은 절연계수를 가질 수 있고, 나아가, 중합체 내에 탄소함량이 낮고 SiO
2 의 함량이 높아 반도체 공정에로의 적용성이 향상되어 반도체 소자의 절연막으로써 유용하게 사용될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050024721A

公开(公告)日：2005-03-11

申请号：KR1020030060811

申请日：2003-09-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류이열 ,  임진형 ,  송기용 ,  정현담 ,  류준성

IPC: C08G77/14

CPC classification number: C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

Abstract: PURPOSE: Provided are a siloxane-based resin with superior solubility in an organic solvent and good fluidity, and an interlayer insulating film formed therefrom having excellent mechanical physical properties. CONSTITUTION: The siloxane-based resin is prepared by hydrolysis and condensation of a monomer represented by the formula 1 and a monomer selected from the group consisting of compounds represented by the formula 2 to 6 in the presence of an organic solvent using an acid or a basic catalyst, and water. In the formula 1-6, R, R1 and R2 are independently a hydrogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C6-C10 cycloalkyl group, or a C6-C15 aryl group, X1-X6 are independently a halogen atom or a C1-C5 alkoxy group, m is an integer of 1-5, n and s is an integer of 1-3, p and q are each an integer of 0-1, r is an integer of 0-10, and t is an integer of 3-8. The interlayer insulating film is formed by dissolving such siloxane-based resin in an organic solvent and coating the solution onto a silicone substrate, followed by heat-curing.

Abstract translation: 目的：提供在有机溶剂中具有优异溶解性和良好流动性的硅氧烷类树脂，以及由其形成的层间绝缘膜具有优异的机械物理性能。 构成：硅氧烷类树脂通过在有机溶剂的存在下使用酸或其盐的水解和缩合由式1表示的单体和选自由式2至6表示的化合物的单体制备 碱性催化剂和水。 在式1-6中，R 1，R 2和R 2独立地为氢原子，C 1 -C 3烷基，C 6 -C 10环烷基或C 6 -C 15芳基，X 1 -X 6独立地为卤素原子或 C1-C5烷氧基，m为1-5的整数，n和s为1-3的整数，p和q各自为0-1的整数，r为0-10的整数，t为 一个3-8的整数。 层间绝缘膜通过将这种硅氧烷类树脂溶解在有机溶剂中并将溶液涂布在硅树脂基材上，然后进行热固化而形成。

公开(公告)号：KR1020040103659A

公开(公告)日：2004-12-09

申请号：KR1020030035276

申请日：2003-06-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류이열 ,  임진형 ,  류준성 ,  송기용

IPC: C08G77/14

CPC classification number: H01L21/02126 ,  C08G77/50 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  Y10T428/31663

Abstract: PURPOSE: Provided is a siloxane resin, which has excellent physical properties and a low dielectric constant, and is useful for an interlayer dielectric film for semiconductors having excellent physical properties, thermal stability and cracking resistance. CONSTITUTION: The siloxane resin is obtained by carrying out hydrolysis and condensation of a monomer represented by the following formula 1 and a monomer represented by the following formula 2 by using an acid or base catalyst in the presence of an organic solvent. In formula 1, R1 is H, a C1-C3 alkyl or C6-C15 aryl; each of X1, X2 and X3 independently represents a C1-C3 alkyl, C1-C10 alkoxy or a halogen atom, at least one of X1, X2 and X3 being a hydrolyzable functional group; m is an integer of 0-10; and p is an integer of 3-8. In formula 2, each R2 independently represents H, a C1-C3 alkyl or C6-C15 aryl; X4 is a C1-C10 alkoxy; Y is a C1-C3 alkyl or C1-C10 alkoxy; and n is an integer of 1-10.

Abstract translation: 目的：提供具有优异的物理性能和低介电常数的硅氧烷树脂，并且可用于具有优异的物理性能，热稳定性和抗开裂性的半导体层间绝缘膜。 构成：通过在有机溶剂的存在下使用酸或碱催化剂进行水解和缩合由下式1表示的单体和由下式2表示的单体而获得的硅氧烷树脂。 在式1中，R 1是H，C 1 -C 3烷基或C 6 -C 15芳基; X 1，X 2和X 3各自独立地表示C 1 -C 3烷基，C 1 -C 10烷氧基或卤素原子，X 1，X 2和X 3中的至少一个为可水解官能团; m为0-10的整数; p为3-8的整数。 在式2中，每个R 2独立地表示H，C 1 -C 3烷基或C 6 -C 15芳基; X4是C1-C10烷氧基; Y是C1-C3烷基或C1-C10烷氧基; n为1-10的整数。

公开(公告)号：KR100332673B1

公开(公告)日：2002-04-17

申请号：KR1019990033723

申请日：1999-08-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤근병 ,  임진형 ,  류이열

IPC: C08F257/02

Abstract: 본발명은스티렌계모노머와말단에비닐기가존재하여중합활성을갖는마크로모노머를공중합시켜스티렌반복단위와마크로모노머반복단위로이루어진스티렌계랜덤공중합체로서, 스티렌반복단위는고도의신디오탁틱구조를가지며, 랜덤공중합체내의마크로모노머의함량은 0.1∼50 wt%이고, 녹는점은 150∼272 ℃이며, 겔퍼미에이션크로마토그래프로분석한중량평균분자량은 50,000∼2,000,000의범위인스티렌계랜덤공중합체이다. 이스티렌계랜덤공중합체는스티렌계모노머와마크로모노머를전이금속화합물과알킬알루미녹산으로구성된촉매의존재하에서중합시켜제조한다.

公开(公告)号：KR1020010045346A

公开(公告)日：2001-06-05

申请号：KR1019990048607

申请日：1999-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임진형 ,  윤근병

IPC: C08F212/08

CPC classification number: C08F290/06 ,  C08F4/65912 ,  C08F212/08 ,  C08L71/02

Abstract: PURPOSE: Provided is a styrene-based terpolymer comprising a styrene monomer repeat unit, a styrene derivative repeat unit, and a macromonomer repeat unit, which is excellent in fluidity and impact-resistance. CONSTITUTION: The styrene-based terpolymer (formula 1) is produced by copolymerizing the styrene monomer, the styrene derivative, and the macromonomer in the presence of a catalyst comprising a transition metal compound and an alkyl aluminate. The repeat units of the styrene and the styrene derivative have syndiotactic structure. The styrene-based terpolymer (formula 1) has 0.1-50wt. of the macromonomer, a melting point of 150-272deg.C, and a weight average molecular weight of 50,000-5,000,000. In the formula, R1 is halogen atom or C1-C20 alkyl, R2 is C1-20 saturated hydrocarbon, an aromatic or cycloalkyl group, R3 is C1-C10 saturated hydrocarbon, X is an ion-polymerizable monomer used for synthesizing the macromonomer, m is an integer of 400-20,000, n is an integer of 5-200, o is an integer of 1-20, and l is an integer of 10-3000.

Abstract translation: 目的：提供一种苯乙烯类三元共聚物，其包含苯乙烯单体重复单元，苯乙烯衍生物重复单元和大分子单体重复单元，其流动性和抗冲击性优异。 构成：苯乙烯基三元共聚物（式1）通过在包含过渡金属化合物和铝酸烷基酯的催化剂存在下共聚苯乙烯单体，苯乙烯衍生物和大分子单体来制备。 苯乙烯和苯乙烯衍生物的重复单元具有间同立构结构。 苯乙烯基三元共聚物（式1）具有0.1-50wt。 的大分子单体，熔点为150-272℃，重均分子量为50,000-5,000,000。 式中，R1为卤原子或C1-C20烷基，R2为C1-20饱和烃，芳香或环烷基，R3为C1-C10饱和烃，X为用于合成大分子单体的离子可聚合单体，m 是400-20,000的整数，n是5-200的整数，o是1-20的整数，l是10-3000的整数。