公开(公告)号：KR1019990002848A

公开(公告)日：1999-01-15

申请号：KR1019970026566

申请日：1997-06-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박순종 ,  최덕규

IPC: H01L21/027

Abstract: 스핀코팅부의 노즐을 통하여 포토레지스트의 분사되지 않음 또는 석백(Suck - Back)오류가 발생되면 이를 감지하여 제어동작 또는 경보동작을 수행시켜서 코팅동작을 원활히 수행토록 하는 웨이퍼 코팅 설비의 포토레지스트 분사상태 체크 장치에 관한 것이다.
노즐의 단부에 설치되어 단부의 포토레지스트 존재를 감지하는 감지수단, 상기 감지수단의 출력신호와 솔레노이드 밸브로 인가되는 제어신호를 비교하여 펌핑개시명령 상태에서 포토레지스트가 분사되지 않음을 판별하는 판별수단 및 상기 판별수단의 판별신호가 판정되어 인가되면 코팅공정을 중지시키는 제어수단을 구비하여 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 웨이퍼 상에 포토레지스트가 분사되는 노즐단부에 광센서를 설치하여 포토레지스트의 분사오류 및 석백오류를 검출하여 포토레지스트가 비정상적으로 코팅되는 것을 방지하여 수율을 높이는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970077099A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960015591

申请日：1996-05-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  한승교

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명에 의한 웨이퍼 현상장치에 의하면, 종래의 실링이 고무 재질인 것을 테프론 재질로 변경함으로써 현상액, DI워터 등의 화학 약품의 사용하는 유니트(UNIT)의 실릴시 부식이 되지 않는다.
따라서 종래와 같이 웨이퍼 상에 파티클(Particle)이 발생되지 않고 실링이 찍어지지 않으므로 스핀부의 외부오염을 줄여 여타 파트(Parts)의 수명을 연장하는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1020070120658A

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：KR1020060055209

申请日：2006-06-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규

IPC: H01L21/304

Abstract: A substrate cleaning apparatus of spinner is provided to get rid of a defect on a wafer pattern, and a photoresist residue by spraying a cleaning liquid by vibration. A substrate cleaning apparatus is composed by an ultrasonic nozzle(20), a high frequency oscillator(22) and a controller(24). The ultrasonic nozzle comprises a main body(26), a pure water insertion hole(28) for supplying a cleaning liquid into the nozzle, a vibration element(30) fixed within the main body, a current supply connectors(32,36) for supplying the current to the vibration element, and a nozzle tip(34) for spraying the cleaning liquid.

Abstract translation: 提供旋转器的基板清洗装置，以通过振动喷洒清洗液来消除晶片图案上的缺陷和光致抗蚀剂残留物。 基板清洗装置由超声波喷嘴（20），高频振荡器（22）和控制器（24）构成。 超声波喷嘴包括主体（26），用于向喷嘴供给清洗液的纯水插入孔（28），固定在主体内的振动元件（30），用于 向振动元件供给电流，以及用于喷射清洗液的喷嘴头（34）。

公开(公告)号：KR100560628B1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1019970061208

申请日：1997-11-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  권병훈

IPC: B65G49/07

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 상부에 웨이퍼가이드를 설치하여 승강하는 웨이퍼를 정렬시키는 반도체 웨이퍼 승강식 정렬장치 및 이를 이용한 웨이퍼 이송방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 승강식 정렬장치는, 웨이퍼가 삽입되는 하우징과, 상기 웨이퍼를 승하강시키는 리프터 및 상기 웨이퍼의 상부에 설치되고, 일측에 경사면이 형성되며, 상기 경사면과 승강하는 웨이퍼의 테두리가 접촉되면서 웨이퍼를 원하는 위치로 유도하는 웨이퍼가이드를 포함하여 이루어지고, 이를 이용한 웨이퍼 이송방법은, 상기 리프터가 웨이퍼를 적재하고 승강하면서 상기 웨이퍼가 정렬되는 동안 웨이퍼 이송암이 상기 리프터의 하방에 삽입되고, 리프터가 하강하면 상기 이송암에 정렬된 웨이퍼를 인계하는 단계들로 이루어진다. 따라서 웨이퍼가이드 경사면의 오염이 적고, 웨이퍼의 걸림이나 비틀어짐을 제거하여 웨이퍼 이송불량을 방지하며, 웨이퍼 정렬작업 및 이송과정을 단순화하여 작업시간을 단축시키게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100476862B1

公开(公告)日：2005-07-12

申请号：KR1019970026566

申请日：1997-06-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박순종 ,  최덕규

IPC: H01L21/027

Abstract: 스핀코팅부의 노즐을 통하여 포토레지스트의 분사되지 않음 또는 석백(Suck - Back) 오류가 발생되면 이를 감지하여 제어동작 또는 경보동작을 수행시켜서 코팅동작을 원활히 수행토록 하는 웨이퍼 코팅 설비의 포토레지스트 분사상태 체크 장치에 관한 것이다. 노즐의 단부에 설치되어 단부의 포토레지스트 존재를 감지하는 감지수단, 상기 감지수단의 출력신호와 솔레노이드 밸브로 인가되는 제어신호를 비교하여 펌핑개시명령 상태에서 포토레지스트가 분사되지 않음을 판별하는 판별수단 및 상기 판별수단의 판별신호가 판정되어 인가되면 코팅공정을 중지시키는 제어수단을 구비하여 이루어진다. 따라서, 본 발명에 의하면 웨이퍼 상에 포토레지스트가 분사되는 노즐단부에 광센서를 설치하여 포토레지스트의 분사오류 및 석백오류를 검출하여 포토레지스트가 비정상적으로 코팅되는 것을 방지하여 수율을 높이는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020050013687A

公开(公告)日：2005-02-05

申请号：KR1020030052179

申请日：2003-07-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조순연 ,  최덕규

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A photoresist supply system is provided to sense presence of photoresist within a short period of time by installing a photoresist detection sensor on a supply tube near to a bottle. CONSTITUTION: A plurality of photoresist detection sensors(22,44) are connected to a supply tube near to a bottle in order to sense the presence of photoresist. A buffer chamber(48) is connected to the supply tube in order to separate air bubbles from the photoresist and discharge selectively the air bubbles. A controller is used for receiving output signals of the photoresist detection sensors to identify an exchange period of the bottle and control operations for circulating the photoresist.

Abstract translation: 目的：提供光致抗蚀剂供应系统，以在短时间内通过在靠近瓶子的供应管上安装光致抗蚀剂检测传感器来感测光刻胶的存在。 构成：多个光致抗蚀剂检测传感器（22,44）连接到靠近瓶子的供应管，以便感测光致抗蚀剂的存在。 缓冲室（48）连接到供应管，以便将气泡与光致抗蚀剂分开，并且选择性地排出气泡。 控制器用于接收光致抗蚀剂检测传感器的输出信号以识别瓶子的交换周期以及用于循环光致抗蚀剂的控制操作。

公开(公告)号：KR1020040017162A

公开(公告)日：2004-02-26

申请号：KR1020020049300

申请日：2002-08-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조영준 ,  최덕규

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A spin coater exhaust system is provided to be capable of effectively removing photoresist fume. CONSTITUTION: A spin coater exhaust system is provided with a spin chuck(110) for holding and rotating a wafer, a spin bowl(143) for storing the spin chuck, a plurality of exhaust lines(150,160) connected to the lower portion of the spin bowl for exhausting photoresist fume using an inner vacuum pressure, and an exhaust manifold(180) connected to the lower portion of the exhaust lines for collecting the photoresist fume. The spin coater exhaust system further includes the first differential pressure sensor(182) installed at the exhaust manifold and connected to the spin bowl for measuring exhaust flow by directly detecting the inner vacuum pressure, a damper(186) for controlling exhaust volume according to the measuring value of the first differential pressure sensor, the second differential pressure sensor(184) installed at the exhaust manifold next the damper, and a main exhaust line connected to the lower portion of the exhaust manifold.

Abstract translation: 目的：提供旋涂机排气系统，能够有效去除光致抗蚀剂烟雾。 构成：旋涂机排气系统设置有用于保持和旋转晶片的旋转卡盘（110），用于存储旋转卡盘的旋转筒（143），连接到旋转卡盘的下部的多个排气管线（150,160） 用于使用内部真空压力排出光致抗蚀剂烟雾的旋转碗，以及连接到排气管的下部以用于收集光致抗蚀剂烟雾的排气歧管（180）。 旋涂机排气系统还包括安装在排气歧管处的第一差压传感器（182），并连接到用于通过直接检测内部真空压力来测量排气流量的旋转钵;根据 第一差压传感器的测量值，安装在排气歧管旁边的阻尼器的第二差压传感器（184）和连接到排气歧管的下部的主排气管线。

公开(公告)号：KR1020010075992A

公开(公告)日：2001-08-11

申请号：KR1020000003223

申请日：2000-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  박대용

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A rinsing apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to prevent a fail in rinsing by spraying a thinner on the target after moving up/down an upper nozzle. CONSTITUTION: The rinsing apparatus for manufacturing the semiconductor device includes a nozzle(24), a nozzle transfer member(42) and a thinner provider. The nozzle includes upper and lower outlets which diffuse thinner on front and rear surface of edge of semiconductor substrate on which a photoresist is formed to rinse the semiconductor substrate. The nozzle transfer member translates the nozzle in the inward direction and outward direction of the semiconductor substrate. The thinner provider supplies the thinner to the nozzle. The nozzle transfer member further includes a cylinder which is coupled with the nozzle and a driver which drives the cylinder. The thinner provide member includes a thinner tank which emits thinner at a predetermined pressure, a supply line which couples the thinner tank and the nozzle and the valve which is implemented on the supply line.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的冲洗装置，以防止在向上/向下移动上喷嘴之后在目标上喷洒稀释剂而使冲洗失败。 构成：用于制造半导体器件的冲洗装置包括喷嘴（24），喷嘴传送部件（42）和更薄的供应器。 喷嘴包括在其上形成有光致抗蚀剂的半导体衬底的边缘的前表面和后表面上较薄地扩散的上部和下部出口以冲洗半导体衬底。 喷嘴传送构件使喷嘴沿半导体衬底的向内和向外的方向平移。 更薄的供应商为喷嘴提供更薄的。 喷嘴传送构件还包括与喷嘴连接的气缸和驱动气缸的驱动器。 更薄的提供构件包括在预定压力下发射更薄的更薄的罐，连接更薄的罐和喷嘴的供应管线和在供应管线上实现的阀。

公开(公告)号：KR1019980020131A

公开(公告)日：1998-06-25

申请号：KR1019960038485

申请日：1996-09-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규

IPC: H01L21/68

Abstract: 이송되어온 웨이퍼가 소정위치에 선택적으로 정지되도록 하는 웨이퍼 스토퍼에 관한 것이다.
본 발명은 일측에 개구부(11c)를 갖는 내부공간부(11a)가 형성된 몸체(11)와, 상기 몸체의 내부공간부에 상,하이동가능하게 설치된 이송유니트(13)와, 상기 몸체의 일측에 설치되어 몸체내의 이송유니트를 상,하이동시키는 실린더(12)와, 상기 몸체를 관통하여 이송유니트에 고정되고 외부로 노출된 타단에 스토퍼핀(15)이 고정된 고정바(14)와, 상기 이송유니트가 외부로 노출되지 않도록 몸체의 개구부(11c)를 덮는 커버(16)로 구성된 것이다.
따라서 몸체 내부에 설치된 이송유니트가 외부로부터 차단됨으로써 이물질의 침투를 방지할 수 있고, 이로써 이송유니트의 원활한 동작이 지속적으로 이루어져 설비의 오동작으로 인한 설비고장 및 웨이퍼 손상이 방지되는 효과가 있다.