Abstract:
포토레지스트를 토출하는 노즐의 휘어짐을 방지할 수 있는 포토레지스트 도포장치에 과하여 개시한다. 본 발명은 움직일 수 있는 구동막대에 고정 어셈블리와 고정 너트로 고정된 노즐을 통하여 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트의 도포장치에 있어서, 상기 노즐은 상기 고정 어셈블리의 외면에 결합된 고정 너트와 상기 고정너트와 결합된 고정판을 관통하여 지지되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 도포징치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 노즐 부위를 고정관을 통하여 보호 및 고정함으로써 휘어짐을 방지할 수 있다. 또한, 고정관 끝에 고정너트와 걸릴수 있는 홈을 만들어서 고정 너트와 체결함으로써 노즐의 유동을 방지할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 용기에 바코드를 부착시켜서 이를 광학적으로 인식함으로써 케미컬을 수용한 용기의 교체가 정확한 지 확인하는 반도체 제조용 케미컬 공급 장치, 그리고 이에 적용되는 케미컬과 그의 수용용기 관리 방법 및 케미컬인 포토레지스트, 제조회사 및 교체현황 등과 같은 데이터를 데이터베이스에 저장한 후 통합적인 관리 기능을 수행하는 컴퓨터를 이용한 포토레지스트 및 그에 연관된 데이터 관리 방법에 관한 것으로서, 용기의 바코드를 광학적으로 스캐닝하여 교체되는 용기가 올바른 것인지 판단하도록 구성되어 있으며, 데이터베이스부에 저장되는 데이터를 효율적으로 관리하기 위한 다양한 모드를 지원하도록 구성되어 있다. 따라서, 케미컬 교체 에러로 인한 공정불량의 발생이 방지되어 생산성 및 수율이 극대화되고, 포토레지스트와 같은 케미컬의 교체관리가 자동으로 이루어지므로 작업성이 향상되며, 시스템의 다기능화 및 데이터의 통합관리 및 통계적관리가 수행되는 효과가 있다.
Abstract:
The system comprises a coater (12), level-sensor (4) that senses waste fluid accumulation amount, main-tank (8) including the waste photoresist fluid tank and the waste fluid pipe cleaning solution tank, pump (3) operating by the sensor (4) for main tank (8) and pipe-cleaned solution tank, ball-valve (1) and air (-) operated valve (2) controlling the pump. Waste photoresist fluid in the process-line (a) is discharged into main-tank (8) placed underground via path-B and pipe-cleaned solution in tank (13) is injected from the underground line (6) to the process-line (a) through path-A.
Abstract:
스핀부의 보울에 받침대가 연결되어 노즐이 이동하는 경로를 따라 감광막이 스핀부에 직접 떨어지는 것을 차단하여 스핀부의 본체 및 주요 부품의 오염을 방지함으로써 클리닝의 작업으로 인한 손실을 줄이고, 코팅 장치의 동작 에러의 발생을 방지하여 설비의 가동률을 향상시킨다.
Abstract:
포토레지스트를 토출하는 노즐의 휘어짐을 방지할 수 있는 포토레지스트 도포장치에 관하여 개시한다. 본 발명은 움직일 수 있는 구동막대에 고정 어셈블리와 고정 너트로 고정된 노즐을 통하여 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트의 도포장치에 있어서, 상기 노즐은 상기 고정 어셈블리의 외면에 결합된 고정 너트와 상기 고정너트와 결합된 고정관을 관통하여 지지되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 도포장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 노즐 주위를 고정관을 통하여 보호 및 고정함으로써 휘어짐을 방지할 수 있다. 또한, 고정관 끝에 고정너트와 걸릴수 있는 홈을 만들어서 고정 너트와 체결함으로써 노즐의 유동을 방지할 수 있다.
Abstract:
본 발명에 의한 웨이퍼 현상장치에 의하면, 종래의 실링이 고무 재질인 것을 테프론 재질로 변경함으로써 현상액, DI워터 등의 화학 약품의 사용하는 유니트(UNIT)의 실릴시 부식이 되지 않는다. 따라서 종래와 같이 웨이퍼 상에 파티클(Particle)이 발생되지 않고 실링이 찍어지지 않으므로 스핀부의 외부오염을 줄여 여타 파트(Parts)의 수명을 연장하는 효과를 얻을 수 있다.
Abstract:
스핀부의 보울에 받침대가 연결되어 노즐이 이동하는 경로를 따라 감광막이 스핀부에 직접 떨어지는 것을 차단하여 스핀부의 본체 및 주요 부품의 오염을 방지함으로써 클리닝의 작업으로 인한 손실을 줄이고, 코팅 장치의 동작 에러의 발생을 방지하여 설비의 가동률을 향상시킨다.