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公开(公告)号：KR1020170111153A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020160036039
申请日：2016-03-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/268 , H01L21/3213
CPC classification number: H01L21/0338 , B23K26/126 , B23K26/362 , B29C59/14 , B29C59/16 , B29C2791/009 , G03F1/80 , G03F7/0041 , H01L21/02675 , H01L21/0274 , H01L21/0332 , H01L21/0335 , H01L21/0337 , H01L21/304 , H01L21/30621 , H01L21/31138
Abstract: 반도체장치제조방법이제공된다. 반도체장치제조방법은기판상에피식각층을형성하고, 피식각층을패터닝하여, 제1 높이와제1 폭을가지는패턴부와제2 폭을가지는오목부를포함하는패턴층을형성하고, 패턴층상에제1 가스와제2 가스를제공하고, 패턴층상에레이저를조사하여, 제1 및제2 가스와패턴부의표면이반응하는반응공정을수행하는것을포함하고, 반응공정을수행하는것은, 패턴부의측벽일부를제거하여패턴부가제1 폭보다작은제3 폭을가지게하는것을포함할수 있다.
Abstract translation: 提供了一种半导体器件制造方法。 一种半导体器件制造方法，包括：在衬底上形成图案层并图案化所述图案层以形成图案层，所述图案层包括具有第一高度和第一宽度的图案部分和具有第二宽度的凹入部分， 并且进行提供第一气体和第二气体的反应过程，并且将激光束照射到图案层上，使得图案部分和第一和第二气体的表面彼此反应， 并且去除具有图案部分的部分具有比第一宽度小的第三宽度。
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32.发明公开
公开(公告)号：KR1020170069752A
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：KR1020150177364
申请日：2015-12-11
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G02F1/292 , G01S7/4814 , G01S17/08 , G02F2203/24
Abstract: 적어도두 개의전압들로부터사이값(intermediate value)에해당하는전압을생성하는방식에기초하여, 고속및 저전력으로구동되는빔 조향장치및 빔조향장치를구동하는방법, 그리고이를이용한공간정보획득장치를개시한다.
Abstract translation: 一种基于从至少两个电压产生对应于中间值的电压的方法驱动以高速和低功率驱动的波束控制设备和波束控制设备的方法以及使用该方法的空间信息获得设备 它公开。
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公开(公告)号：KR1020160086024A
公开(公告)日：2016-07-19
申请号：KR1020150003112
申请日：2015-01-09
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: G03F1/62 , C01B32/182 , C01B32/194 , C01B32/20 , C23C16/01 , C23C16/26 , C23C16/56 , C23F1/00 , C23F1/02 , C23F1/14 , G03F1/64
Abstract: 펠리클의제조방법에있어서, 기판의일 면상에, 상기기판을촉매로사용하는화학반응을이용하여막을형성한다. 상기기판의다른일 면상에, 보호막패턴을형성한다. 상기기판을식각액에침지시켜, 상기보호막패턴으로부터노출된기판부분을제거하여프레임을형성한다. 상기식각액을제1 용매로교환한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供具有改进的机械特性的防护薄膜组件。 在防护薄膜组件的制造方法中，通过使用该基板作为催化剂的化学反应，在基板的一个表面上形成膜。 在基板的另一个表面上形成保护膜图形。 将衬底浸入蚀刻液中以除去从保护膜图案露出的衬底的一部分，从而形成框架。 蚀刻液与第一溶剂交换。
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公开(公告)号：KR1020160048552A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020140145454
申请日：2014-10-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/3745 , H04N5/335
CPC classification number: H04N5/2256 , G06F3/042 , H04N5/347 , H04N5/378
Abstract: 이미지와근접도를동시에획득하는이미지센서가개시된다. 그센서는, 픽셀어레이의픽셀신호에기초하여대상물체의근접신호를생성하는근접신호생성회로를포함한다. 상기근접신호생성회로는, 상기픽셀어레이에포함된복수의픽셀로부터출력된픽셀신호의평균에기초하여상기근접신호를생성한다.
Abstract translation: 公开了能够获得图像和接近度的图像传感器。 传感器包括基于像素阵列的像素信号产生目标对象的接近信号的接近信号发生电路。 接近信号生成电路基于从包括在像素阵列中的多个像素输出的像素信号的平均值来生成接近信号。
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公开(公告)号：KR1020150062078A
公开(公告)日：2015-06-05
申请号：KR1020130146665
申请日：2013-11-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/341
CPC classification number: H04N5/369 , H04N5/353 , H04N5/3742
Abstract: 이미지센서의각 픽셀에서생성된전하의이동을제어하는각 픽셀의셔터가딜레이(delay) 없이고속스위칭하는이미지센서및 이미지센서를구동하는방법에관한것으로서, 픽셀어레이를포함하는이미지센서는픽셀어레이의모든픽셀들의셔터들을연결하여, 구동신호를전송하는구동라인및 구동라인에구동신호를인가하는구동버퍼들을포함한다.
Abstract translation: 图像传感器和图像传感器的驱动方法技术领域本发明涉及一种用于驱动图像传感器的图像传感器和方法，其中用于控制在图像传感器的每个像素中产生的电荷的移动的每个像素的快门无延迟地执行高速切换。 包括像素阵列的图像传感器包括用于通过连接像素阵列的所有像素的快门来传送驱动信号的驱动线以及用于将驱动信号施加到驱动线的驱动缓冲器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150042584A
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：KR1020130121429
申请日：2013-10-11
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N21/4826 , H04N21/2668 , H04N21/44204 , H04N21/45 , H04N21/482
Abstract: 컨텐츠추천을위한컨텐츠제공장치, 시스템및 방법이개시된다. 본발명에따른컨텐츠제공장치에서컨텐츠추천방법에있어서, 방법은디스플레이장치로부터사용자의사용자정보를수신하는단계, 수신된사용자정보에기초하여사용자의서브단말장치가등록되어있는지여부를판단하는단계, 서브단말장치가기등록되어있으면, 기저장된사용자의컨테츠사용에대한패턴정보및 컨텐츠정보에기초하여사용자에게적합한추천컨텐츠가있는지여부를판단하는단계및 판단결과, 추천컨텐츠가있으면, 서브단말장치로추천컨텐츠에대한알림메시지를전송하는단계를포함한다. 이에따라, 추천컨텐츠에대한알림서비스의활용도를종래보다높일수 있는효과가있다.
Abstract translation: 公开了一种用于提供用于内容推荐的内容的设备，系统和方法。 根据本发明的用于在提供内容的设备中推荐内容的方法包括以下步骤：从显示设备接收用户的用户信息; 基于所接收的用户信息确定用户的子终端设备是否被注册; 基于预先存储的用户的内容使用情况的模式信息和内容信息，在子终端装置预登录时，确定用户是否存在合适的和可推荐的内容; 并且当作为确定的结果存在可推荐的内容时，向子终端设备发送关于可推荐内容的通知消息。 因此，可以提高关于可推荐内容的通知服务的使用。
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公开(公告)号：KR1020150035195A
公开(公告)日：2015-04-06
申请号：KR1020130115467
申请日：2013-09-27
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06T3/403 , G06K9/6201 , G06T7/13
Abstract: 영상처리방법을개시한다. 본발명의일 실시예에따른영상처리방법은, 원본영상에서복원할영역을제외한배경영역을,?유사한픽셀값을갖는영역끼리그룹(GROUP)화하는단계와, 상기복원할영역이상기배경영역과접하는경계영역의일부를복원블록으로설정하는단계와, 상기배경영역에서상기복원블록과가장유사한픽셀값을갖는패치블록을검색하는단계와, 상기검색된패치블록의픽셀값을이용하여상기복원블록을복원하는단계를포함하고, 상기복원블록이복수의그룹에속하는픽셀값을포함하는경우, 상기복수의그룹의경계영역에위치하는패치블록을이용하여상기복원블록을채운다.
Abstract translation: 公开了一种图像处理方法。 根据本发明的实施例的图像处理方法包括以下步骤：将除原始图像中要恢复的目标区域之外的背景区域分组成具有相似像素值的区域; 将要恢复的目标区域与背景区域接触的边界区域的一部分设置为恢复块; 使用背景区域中的恢复块搜索具有最相似像素值的补丁块; 以及通过使用所搜索的块块的像素值来恢复恢复块，其中当恢复块包括属于多个组的像素值时，恢复块被填充在位于组的边界区域中的补丁块。
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公开(公告)号：KR1020150004619A
公开(公告)日：2015-01-13
申请号：KR1020130077847
申请日：2013-07-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F1/20
CPC classification number: G03F1/48 , G03F1/54 , H01L21/0274 , G03F1/14 , G03F1/20 , G03F1/76 , G03F1/80
Abstract: 포토 마스크가 제공된다. 포토 마스크는, 투명 기판, 상기 기판 상에 형성된 마스크 패턴 및 상기 마스크 패턴의 양 측벽을 덮는 보호막 패턴을 포함하되, 상기 보호막 패턴의 상면은 노출된다.
Abstract translation: 本发明涉及具有提高产品可靠性的光掩模及其制造方法。 根据本发明的光掩模包括：透明基板; 掩模图案 以及覆盖掩模图案的两个侧壁的保护膜图案。 保护膜图案包括第一区域和第二区域。 第一区域比第二区域更靠近透明基板设置，第一区域的宽度可以比第二区域的宽度宽。
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公开(公告)号：KR1020110029005A
公开(公告)日：2011-03-22
申请号：KR1020090086670
申请日：2009-09-14
Applicant: 삼성전자주식회사 , 주식회사 에프에스티
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/142 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/06 , C25D11/18 , G03F1/64 , Y10T428/13 , Y10T428/1317 , G03F7/70983
Abstract: PURPOSE: A pellicle frame, pellicle, a lithographic apparatus, and a method for manufacturing the pellicle frame are provided to effectively reduce the amount of outgas by implementing a cleaning process with high temperature ultra-pure water. CONSTITUTION: A pellicle frame(19) includes aluminum, an aluminum oxide, and transition metal. The pellicle frame includes a first material layer(11) and a second material layer(12) which is formed on the first material layer. The first material layer includes aluminum. The second material layer includes an aluminum oxide and transition metal. The second material layer is in direct contact with the first material layer. The second material layer is directly exposed around the pellicle frame.
Abstract translation: 目的：提供防护薄膜组件，防护薄膜，光刻设备和防护薄膜组件框架的制造方法，以通过使用高温超纯水进行清洁处理来有效地减少排气量。 构成：防护薄膜组件框架（19）包括铝，氧化铝和过渡金属。 防护薄膜框架包括形成在第一材料层上的第一材料层（11）和第二材料层（12）。 第一材料层包括铝。 第二材料层包括氧化铝和过渡金属。 第二材料层与第一材料层直接接触。 第二材料层直接暴露在防护薄膜框架周围。
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公开(公告)号：KR1020080044389A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：KR1020060113152
申请日：2006-11-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: B08B3/04 , G03F1/82 , H01L21/67051 , G03F7/70925
Abstract: An apparatus and a method for washing a photomask are provided to maximize productivity by preventing a pattern from being damaged although pollutant locally occurs in a predetermined position of the photomask. An apparatus for washing a photomask includes a stage(10), a washing fluid supply unit(30), a washing fluid suction unit(40), and a pollutant removal tube(50). The stage supports the photomask. The washing fluid supply unit supplies washing fluid at predetermined pressure for removing pollutant occurring on the photomask. The washing fluid suction unit sucks the washing fluid from the washing fluid supply unit at predetermined pressure. The pollutant removal tube washes the pollutant while exposing the washing fluid to a surface of the photomask through an opening formed adjacent to the surface of the photomask.
Abstract translation: 提供了一种用于洗涤光掩模的装置和方法，以通过防止图案被损坏而使生产率最大化，尽管污染物局部发生在光掩模的预定位置。 一种用于洗涤光掩模的设备包括一个台（10），一个洗涤液供应单元（30），一个洗涤液抽吸单元（40）和一个污染物去除管（50）。 舞台支持光掩模。 洗涤液供给单元以规定的压力供给清洗液，以除去在光掩模上发生的污染物。 洗涤液抽吸单元以预定压力从洗涤液供给单元吸取洗涤液。 污染物去除管洗涤污染物，同时通过邻近光掩模表面形成的开口将洗涤液体暴露于光掩模的表面。
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