公开(公告)号：KR102265066B1

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：KR1020140090620

申请日：2014-07-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김종팔 ,  이탁형 ,  고형호

IPC: A61B5/053

公开(公告)号：KR101991396B1

公开(公告)日：2019-06-20

申请号：KR1020120117361

申请日：2012-10-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오종근 ,  고형호 ,  신인균 ,  최재혁 ,  최준열

IPC: G03F1/48 ,  G03F1/68 ,  G03F1/80

公开(公告)号：KR101937676B1

公开(公告)日：2019-01-14

申请号：KR1020140004037

申请日：2014-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  충남대학교산학협력단

Inventor： 고형호 ,  김종팔 ,  이탁형

IPC: H03F3/45

公开(公告)号：KR1020110083094A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：KR1020100003131

申请日：2010-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 채교석 ,  야마다사토루 ,  권혁준 ,  박원경 ,  고형호

IPC: G11C8/08 ,  G11C7/10 ,  G11C11/21 ,  G11C8/14 ,  G11C16/08 ,  G11C11/408

CPC classification number: G11C8/14 ,  G11C8/08 ,  G11C7/10 ,  G11C11/21 ,  G11C11/4085 ,  G11C16/08

Abstract: PURPOSE: A semiconductor device having a sub word line driver is provided to improve the yield of the semiconductor device by securing the interval between material lines which are used as a main word line. CONSTITUTION: In a semiconductor device having a sub word line driver, first and the second sub word lines(SW1,SW2) transfer an operating signal to a memory cell. A main word line selectively transfers the operating signal to the first and second sub word lines. A switching transistor is connected between the first sub word line and second sub word lines. The gate of the switching transistor is connected to a main word line. A first N type transistor is connected between the first sub word line and the ground. A second N type transistor is connected between the second sub word line and the ground. The gates of the first and second N type transistors are connected to the main word line.

Abstract translation: 目的：提供具有子字线驱动器的半导体器件，以通过确保用作主字线的材料线之间的间隔来提高半导体器件的产量。 构成：在具有子字线驱动器的半导体器件中，第一和第二子字线（SW1，SW2）将操作信号传送到存储器单元。 主字线选择性地将操作信号传送到第一和第二子字线。 开关晶体管连接在第一子字线和第二子字线之间。 开关晶体管的栅极连接到主字线。 第一N型晶体管连接在第一子字线和地之间。 第二N型晶体管连接在第二子字线和地之间。 第一和第二N型晶体管的栅极连接到主字线。

公开(公告)号：KR1020110013705A

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：KR1020090071303

申请日：2009-08-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정윤송 ,  고형호 ,  한성재 ,  김경노 ,  전찬욱

IPC: H01L21/302

CPC classification number: G03F1/82 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for cleaning a photo mask using a blowing operation is provided to expand the life expectancy of the photo mask by preventing the change of a critical dimension due to the loss of chromium. CONSTITUTION: One side of a photo mask(1) is divided into a first region(10) and a second region(20). A main pattern(15) to be protected from a cleaning solution is formed in the first region. A material(25) to be eliminated using the cleaning solution is in the second region. The cleaning solution is sprayed from the inside to the outside of the second region in order to eliminate the material. A gas is blown from the first region to the second region in order to protect the pattern from the cleaning solution.

Abstract translation: 目的：提供一种使用吹风操作来清洁光罩的方法和设备，以通过防止由于铬的损失导致的临界尺寸的变化来扩大光罩的使用寿命。 构成：光掩模（1）的一侧分为第一区域（10）和第二区域（20）。 在第一区域中形成要被清洁溶液保护的主图案（15）。 使用清洗液排除的材料（25）位于第二区域。 清洗液从第二区域的内部喷射到外部，以消除材料。 气体从第一区域吹送到第二区域，以便保护图案免受清洁溶液的影响。

公开(公告)号：KR100634401B1

公开(公告)日：2006-10-16

申请号：KR1020040061232

申请日：2004-08-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문창섭 ,  홍창기 ,  최상준 ,  고형호 ,  김상용

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/3212

Abstract: 반도체 제조공정의 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 유기계 첨가물(organic additive)이 함유된 무기계 세정액(inorganic cleaning solution)을 사용하여 기판을 세정하는 단계와, 유기 알코올(organic alcohole)을 사용하여 기판을 린스하는 단계와, 탈이온수(deionized water)를 사용하여 기판을 린스하는 단계를 포함한다.

Abstract translation: 提供了一种半导体制造工艺的衬底处理方法。 该方法包括使用含有机添加剂的无机清洁溶液清洁基板，用有机醇冲洗基板，并用去离子水冲洗基板 ）冲洗基材。

公开(公告)号：KR100604853B1

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：KR1020040034566

申请日：2004-05-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문창섭 ,  고형호 ,  심우관 ,  홍창기 ,  최상준

IPC: C09K13/08

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/76224 ,  H01L28/40

Abstract: 음이온성 계면활성제를 함유하는 산화막 제거용 식각액 및 그 제조 방법과 식각액을 이용한 반도체 소자의 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 식각액은 HF, 순수, 및 음이온성 계면활성제로 이루어진다. 음이온성 계면활성제는 R
1 -OSO
3
- HA
+ , R
1 -CO
2
- HA
+ , R
1 -PO
4
2- (HA
+ )
2 , (R
1 )
2 -PO
4
- HA
+ , 또는 R
1 -SO
3
- HA
+ (식중, R
1 은 직쇄(straight chain) 또는 측쇄(side chain)를 가지는 C
4 ∼ C
22 의 탄화수소기이고, A는 암모니아 또는 아민)으로 표시되는 바와 같이 카운터 이온으로서 아민염을 가지는 화합물로 이루어진다. 본 발명에 따른 식각액은 질화막 또는 폴리실리콘막에 대하여 산화막의 높은 식각 선택비를 제공함으로써 STI 소자분리 공정 또는 커패시터 형성 공정과 같은 반도체 소자 제조 공정시 질화막 또는 폴리실리콘막이 산화막과 동시에 노출되어 있는 상태에서 산화막 만을 선택적으로 제거하는 데 유리하게 적용된다.
음이온성 계면활성제, HF, 산화막, 식각 선택비

公开(公告)号：KR1020060012518A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：KR1020040061232

申请日：2004-08-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문창섭 ,  홍창기 ,  최상준 ,  고형호 ,  김상용

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/3212

Abstract: 반도체 제조공정의 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 유기계 첨가물(organic additive)이 함유된 무기계 세정액(nonarganic cleaning solution)을 사용하여 기판을 세정하는 단계와, 유기 알코올(organic alcohole)을 사용하여 기판을 린스하는 단계와, 탈이온수(deionized water)를 사용하여 기판을 린스하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020060012514A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：KR1020040061228

申请日：2004-08-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고형호 ,  홍창기 ,  최상준 ,  한동균

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/76 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/76224 ,  H01L21/823412 ,  H01L21/823481 ,  Y10S438/906

Abstract: 리세스 채널 영역을 갖는 반도체 기판의 세정 방법을 제공한다. 이 방법은 반도체기판의 소정영역에 배치되어 활성영역들을 정의하는 소자분리막들을 형성하고, 상기 활성영역들의 소정영역을 식각하여 상기 소자분리막들의 측벽을 노출시키는 리세스 채널 영역을 형성한 후, 상기 리세스 채널 영역의 표면을 선택적으로 식각할 수 있는 소정의 희석 세정액을 사용하여 상기 리세스 채널 영역이 형성된 반도체기판을 세정하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 희석 세정액은 대략 0.1 내지 1의 부피비를 갖는 암모니아수, 대략 0.3 내지 1의 부피비를 갖는 과산화수소수 및 대략 98 내지 99.6의 부피비를 갖는 순수의 혼합액이다.

公开(公告)号：KR100505693B1

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：KR1020030042133

申请日：2003-06-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한동균 ,  최상준 ,  고형호 ,  이효산 ,  한우성 ,  홍창기

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/31138 ,  H01L21/02043 ,  Y10S438/906

Abstract: 세정되어야 할 물질을 구비하는 미세 전자 소자 기판 표면에 초임계 이산화탄소를 제공한 후, 오존 가스 및 수증기를 제공하는 미세 전자 소자 기판의 세정 방법이 제공된다. 세정되어야 할 물질은 포토레지스트, 유기물 등이다. 초임계 이산화탄소에 의해 세정되어야 할 물질이 팽윤되고, 팽윤된 물질을 오존 가스 및 수증기가 산화시켜 세정이 가능하도록 한다.