PROCEDE DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR NMOS AVEC RISQUE REDUIT DE DISLOCATION ET CIRCUIT INTEGRE CORRESPONDANT

    公开(公告)号:FR3022688A1

    公开(公告)日:2015-12-25

    申请号:FR1455785

    申请日:2014-06-23

    Abstract: Le procédé de fabrication comprend une réalisation, au sein d'un substrat semiconducteur, d'une région isolante (2) délimitant une zone active (la), une réalisation d'une région de grille isolée (3) au-dessus de la zone active, une première implantation de dopants dans la zone active de part et d'autre de la région de grille isolée, une réalisation de régions latérales isolantes sur les flancs de la région de grille isolée et une deuxième implantation de dopants dans la zone active, plus profonde que la première implantation, à travers une fenêtre d'implantation (100) débordant de part et d'autre des régions latérales isolantes. La fenêtre d'implantation exclut de la zone active au moins une première zone d'exclusion (101) située d'un côté de la région de grille isolée (3) à distance de la région latérale isolante correspondante (8).

    DISPOSITIF CAPACITIF COMMUTABLE INTEGRE

    公开(公告)号:FR3005204A1

    公开(公告)日:2014-10-31

    申请号:FR1353945

    申请日:2013-04-30

    Abstract: Le circuit intégré comprend au dessus d'un substrat une partie d'interconnexion (RITX) comportant plusieurs niveaux de métallisation séparés par une région isolante. Le circuit comprend en outre au moins un dispositif capacitif commutable (DIS) ayant une valeur capacitive ajustable et comportant au moins une cellule capacitive commutable (CEL) possédant un condensateur principal (CDP) et un système métallique disposé au moins en partie dans un logement de ladite partie d'interconnexion et électriquement connecté audit condensateur principal, le système métallique ayant un premier (BR) et un deuxième (PQI) éléments métalliques mobiles relativement l'un à l'autre dans ledit logement (LGT), et étant commutable entre une première configuration dans laquelle les deux éléments sont mutuellement espacés de façon à former un condensateur auxiliaire électriquement connecté audit condensateur principal et conférer une première valeur capacitive à ladite cellule capacitive, et une deuxième configuration dans laquelle les deux éléments métalliques sont mutuellement en contact de façon à conférer une deuxième valeur capacitive à la cellule capacitive.

    DISPOSITIF DE DETECTION DE VARIATIONS DE TEMPERATURE DANS UNE PUCE

    公开(公告)号:FR2950969A1

    公开(公告)日:2011-04-08

    申请号:FR0956876

    申请日:2009-10-02

    Inventor: RIVERO CHRISTIAN

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de détection de variations de température du substrat d'une puce de circuit intégré, comportant, dans le substrat, des résistances implantées (41, 43, 45, 47) reliées en un pont de Wheatstone, dans lequel chacune de deux premières résistances (45, 47) opposées du pont est recouverte d'un réseau de lignes métalliques parallèles à une première direction, la première direction étant telle qu'une variation des contraintes du substrat selon cette direction entraine une variation de la valeur de déséquilibre (V ) du pont.

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