-
公开(公告)号：CN105241849A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510423422.4
申请日：2015-07-17
Applicant: 北京理工大学
CPC classification number: H01J49/0004 , G01J3/44 , G01J3/4412 , G01J3/443 , G01N21/65 , G01N21/718 , G02B21/0032 , G02B21/0052 , G02B21/0076 , G02B21/008 , G02B21/20
Abstract: 本发明涉及一种分光瞳激光差动共焦LIBS、拉曼光谱-质谱显微成像方法与装置，属于共焦显微成像、光谱成像和质谱成像技术领域。本发明将分光瞳差动共焦成像与光谱、质谱探测技术结合，利用经超分辨技术处理的分光瞳差动共焦显微镜的微小聚焦光斑对样品进行高空间分辨形态成像，利用质谱探测系统对样品微区带电分子、原子等进行质谱探测，利用光谱探测系统对分光瞳差动共焦显微系统聚焦光斑激发光谱(拉曼光谱、诱导击穿光谱)进行微区光谱探测，利用激光多谱探测的优势互补和结构融合实现样品微区完整组分信息与形态参数的高空间分辨和高灵敏成像与探测。本发明可为生物、材料等领域物质组分及形态成像探测提供一条全新的技术途径。
-
公开(公告)号：CN105190830A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480007759.0
申请日：2014-03-13
Applicant: 赛默电子制造有限公司
Inventor： S·哈特维尔
CPC classification number: H01J37/244 , G01J3/443 , G01J2003/4435 , H01J27/16 , H01J37/08 , H01J37/32972 , H01J37/3299 , H01J49/105 , H01J49/26 , H05H1/0037
Abstract: 一种用于控制光学发射光谱法或质谱法用电感耦合等离子体或微波诱导等离子体的温度的方法和装置，其中测量由该等离子体发射的两条辐射光谱线的强度，并且调整所提供的用于维持该等离子体的功率以使得这些强度的比率保持基本上恒定。
-
公开(公告)号：CN104931484A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510120573.2
申请日：2015-03-19
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
CPC classification number: G01N21/73 , G01J3/0216 , G01J3/024 , G01J3/443
Abstract: 公开了一种ICP发光分光分析装置。提供一种能够通过多个聚光部来除去存在于原子发光线周围的背景以谋求S/B比的提高的ICP发光分光分析装置。ICP发光分光分析装置(1)由感应耦合等离子体发生部(10)、聚光部(20)、分光器(30)以及控制部(50)大致构成。聚光部(20)被配置在感应耦合等离子体发生部(10)与分光器(30)之间，具备第一聚光部(21)、第二聚光部(22)、在聚光部(20)与分光器(30)的边界部处的狭缝型入射窗(23)以及在第一聚光部(21)与第二聚光部(22)之间的入射狭缝(24)。通过设置至少两个聚光部(21、22)和入射狭缝（24），从而能够除去存在于原子发光线周围的背景以提高原子发光线的信号对背景之比(S/B)。
-
公开(公告)号：CN104422684A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410428721.2
申请日：2014-08-27
Applicant: 赛默电子制造有限公司
CPC classification number: G01J3/0297 , G01J3/28 , G01J3/443
Abstract: 一种用于获得测量的光学发射光谱的一个背景校正部分的方法，该方法包括从该测量的发射光谱的部分中鉴别出两个或多个背景校正点；获得与这些已鉴别的背景校正点拟合的一个背景校正函数，并且将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分上以便产生该发射光谱的一个背景校正部分，其中这些背景校正点通过考虑在这些测量数据点之间的梯度而从这些测量数据点中被鉴别出。
-
公开(公告)号：CN102661791B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201210102000.3
申请日：2009-04-03
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 维贾雅库马尔·C·韦努戈帕尔 , 埃里克·佩普 , 吉恩保罗·布思
CPC classification number: G01N21/274 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/443 , G01N21/68
Abstract: 本发明提供了一种具有用于等离子发射原位光学解调，用以定量测量归一化光学发射光谱的室的处理系统。该处理室包括限制环组件，闪光灯和一组石英窗。该处理室还包括多个准直光学组件，该准直光学组件与该组石英窗光学耦合。该处理室进一步包括多个光纤维束，该处理室更进一步包括多通道光谱仪，其至少配置有信号通道和参考通道。该信号通道至少与该闪光灯、该组石英窗、该组准直光学组件、该照明光纤维束以及收集光纤维束光学耦合，用以测量第一信号。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102933953A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201180027579.5
申请日：2011-06-03
Applicant: 赫姆洛克半导体公司
Inventor： 道格·克雷斯佐夫斯基 , 约翰·W·哈德
CPC classification number: G01N21/9505 , G01J3/443 , G01N21/6489 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N21/9503
Abstract: 本发明提供了用于辨识和量化半导体样品中杂质的光致发光光谱学系统和方法。在一些实施方案中，所述系统和方法包括照明第一样品表面的离焦准直激光束，以及由集光透镜从所述第一表面与大致垂直的第二表面的相交处进行光致发光收集，其中所述第一样品表面被取向为相对于与所述集光透镜平行的位置成约0°至90°的角。
-
公开(公告)号：CN102661791A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210102000.3
申请日：2009-04-03
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 维贾雅库马尔·C·韦努戈帕尔 , 埃里克·佩普 , 吉恩保罗·布思
CPC classification number: G01N21/274 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/443 , G01N21/68
Abstract: 本发明提供了一种具有用于等离子发射原位光学解调，用以定量测量归一化光学发射光谱的室的处理系统。该处理室包括限制环组件，闪光灯和一组石英窗。该处理室还包括多个准直光学组件，该准直光学组件与该组石英窗光学耦合。该处理室进一步包括多个光纤维束，该处理室更进一步包括多通道光谱仪，其至少配置有信号通道和参考通道。该信号通道至少与该闪光灯、该组石英窗、该组准直光学组件、该照明光纤维束以及收集光纤维束光学耦合，用以测量第一信号。
-
公开(公告)号：CN1846122B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200480025569.8
申请日：2004-09-03
Applicant: 热电股份有限公司
Abstract: 真空紫外辐射检测装置(10)包括在腔室(12)中的辐射检测器(30)。检测器(30)从辐射源(36)接收紫外辐射。用干式真空泵(18)将腔室抽空到不低于5Pa的相对较差真空。UV透明气体以一种使得腔室(12)中的总体压强在100到1,000Pa之间的相对低流速(大约0.1升/分钟)从供气(26)容器被供应到腔室(12)中。使用相对廉价的泵，同时使用较低的气体流速，可以显著地节省成本。
-
公开(公告)号：CN101990704A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200980112878.1
申请日：2009-04-03
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 维贾雅库马尔·C·韦努戈帕尔 , 埃里克·佩普 , 吉恩保罗·布思
IPC: H01L21/3065 , H05H1/34
CPC classification number: G01N21/274 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/443 , G01N21/68
Abstract: 本发明提供一种用于等离子发射原位光学解调，用以定量测量等离子室内的归一化光学发射光谱的装置。该装置包括闪光灯和一组石英窗。该装置还包括多个准直光学组件，该准直光学组件与该组石英窗光学耦合。该装置进一步包括多个光纤维束，其至少包括照明光纤维束、收集光纤维束以及参考光纤维束。该装置更进一步包括多通道光谱仪，其至少配置有信号通道和参考通道。该信号通道至少与该闪光灯、该组石英窗、该组准直光学组件、该照明光纤维束以及收集光纤维束光学耦合，用以测量第一信号。
-
公开(公告)号：CN100416239C
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN02817331.7
申请日：2002-07-01
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
IPC: G01J3/30
CPC classification number: G01J3/2803 , G01J3/443
Abstract: 一种分析仪，用于在超高纯度应用中进行连续气体分析。分析仪包含弱光发射源和气体发射光谱仪(10)，所述光谱仪含有用作检测器的电荷耦合器件(CCD)二极管阵列。该CCD阵列替代通常用在光谱仪中的一个或者多个光电倍增管和窄带通滤光器。所述分析仪执行各种处理操作来评价和消除背景光强或者暗光谱的影响。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
1461
records
(took 0.079 seconds)
